一種鋰離子電池的制作設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種鋰離子電池的制作設備，包括用于沉積薄膜的真空沉積設備，真空沉積設備沉積的基體包括構成鋰離子電池的負極片、正極片或隔離膜。本實用新型在電池的制作設備中改變了涂布式加載活性材料，而采用真空沉積設備將電池活性材料連續(xù)地沉積到正極、負極或隔離膜上，增強了活性材料與正極、負極或隔離膜之間的附著力，有利于減少電池阻力，同時也大大簡化了電池的制作流程。
【專利說明】
一種鋰離子電池的制作設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及鋰離子電池技術領域，尤其涉及鋰離子電池的制作設備。【背景技術】
[0002]與鉛酸電池、鎳鎘電池、鎳氫電池等二次電池相比，鋰離子電池具有能量密度高、 壽命長、無記憶效應等優(yōu)異特點，被廣泛應用于移動電源存儲。
[0003]在傳統(tǒng)的鋰離子電池中，一般采用碳材料作為常用的負極活性物質。在充放電過程中，鋰離子會嵌入石墨形成LiC6。該體系的能量密度最高可達360mAh/g，已趨于理論能量密度370mAh/g，難以得到進一步的提升
[0004]為了進一步提高鋰離子電池的能量密度，具有高的高容量的硅、錫、鋰以及鐵的氧化物等新材料被考慮作為碳材料的替代品。然而除了高容量外，這些材料不能像石墨一樣磨成粉末形成漿料涂在電極表面，這很大程度上限制了這些新材料的使用。因此急需選擇一種合適的方式以更好地利用這些材料?！緦嵱眯滦蛢?nèi)容】
[0005]為解決以上問題，本實用新型提供了一種鋰離子電池的制作設備，可以有效解決提高鋰離子電池的能量密度。
[0006]本實用新型所采取的技術方案是:
[0007]—種鋰離子電池的制作設備，包括用于沉積薄膜的真空沉積設備。
[0008]優(yōu)選地，真空沉積設備為用于物理氣相沉積或化學氣相沉積的設備。
[0009]進一步地，物理氣相沉積包括真空蒸鍍、磁控濺射、直流濺射、射頻濺射、電弧等離子鍍、離子鍍膜、分子束外延中任一種。
[0010]進一步地，真空沉積設備沉積的基體包括構成鋰離子電池的負極片、正極片或隔離膜。
[0011]進一步地，真空沉積設備沉積薄膜的組分包括金屬、非金屬、非金屬化合物或金屬化合物中任一種或幾種。
[0012]優(yōu)選地，真空沉積設備可以控制沉積薄膜的寬度為0?2000mm。[〇〇13]優(yōu)選地，真空沉積設備可以控制沉積薄膜的厚度為0?200um。
[0014]進一步地，鋰離子電池的制作設備還包括加熱器、離子轟擊倉、控制臺、供水單元、 操作臺和配電箱。
[0015]還包括卷繞機和傳動機構，傳動機構將沉積前的基體從卷繞機傳送到真空沉積設備或將沉積后的基體從真空沉積設備傳送到卷繞機。
[0016]還包括濺射機，濺射機所使用的靶材為平面或圓柱形的，所述靶材包括至少1個。
[0017]本實用新型的有益效果是:在電池的制作設備中改變了涂布式加載活性材料，而采用真空沉積設備將電池活性材料連續(xù)地沉積到正極、負極或隔離膜上，增強了活性材料與正極、負極或隔離膜之間的附著力，有利于減少電池阻力，同時也大大簡化了電池的制作流程。【附圖說明】

[0018]圖1為實施例1的鋰離子電池的制作設備的結構示意圖
[0019]圖2為實施例1的卷繞機的結構示意圖
[0020]圖3為實施例1的真空沉積室的結構示意圖【具體實施方式】[0021 ]下面結合附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。[〇〇22] 實施例1[〇〇23]如圖1所示，一種鋰離子電池的制作設備包括物理氣相沉積用的真空沉積倉(102)、加熱器(103)、離子轟擊倉(104)、操作臺(105)、控制臺(106)、供水單元(107)、配電箱(108)、烘箱(109)、卷繞機(101)以及貫穿卷繞機、真空沉積倉(101)、加熱器(103)、離子轟擊倉(104)、操作臺的傳動機構。配電箱用于為物理氣相沉積提供電源;烘箱(109)可便于沉積薄膜后的基體的保存及熱處理。[〇〇24]如圖2所示，卷繞機(101)位于卷繞室(201)內(nèi)，卷繞機上設置有3個卷軸(202)可同時放置正極片、負極片以及隔離膜，便于連續(xù)沉積。
[0025]真空沉積室分割成8個小沉積室，便于同時對各小沉積室內(nèi)的基底沉積薄膜，提高沉積效率。
[0026]如圖3所示，每個小沉積室內(nèi)上方設置有3個靶材位，可放置3種相同或不同的靶材 (302)，滿足不同基對靶材的要求;同時設置有傳送帶(301)，便于基體的連續(xù)傳遞。[〇〇27]卷繞機(101)上未沉積的基體可隨傳動機構分別進入真空沉積倉(102)、加熱器(103)、離子轟擊倉(104)、操作臺(105)實現(xiàn)基體上薄膜沉積，并將沉積后的基體在操作臺實現(xiàn)重新卷繞。
[0028]以上的實施例只是在于說明而不是限制本實用新型，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的方法所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種鋰離子電池的制作設備，其特征在于包括用于沉積薄膜的真空沉積設備，所述 真空沉積設備沉積的基體包括構成鋰離子電池的負極片、正極片或隔離膜。2.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述真空沉積設備為用 于物理氣相沉積或化學氣相沉積的設備。3.根據(jù)權利要求2所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述物理氣相沉積包括 真空蒸鍍、磁控濺射、直流濺射、射頻濺射、電弧等離子鍍、離子鍍膜、分子束外延中任一種。4.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述真空沉積設備沉積 薄膜的組分包括金屬、非金屬、非金屬化合物或金屬化合物中任一種或幾種。5.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述真空沉積設備可以 控制沉積薄膜的寬度為0?2000mm。6.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述真空沉積設備可以 控制沉積薄膜的厚度為0?200um。7.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于還包括加熱器、離子轟擊 倉、控制臺、供水單元、操作臺和配電箱。8.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于還包括卷繞機和傳動機 構，所述傳動機構將沉積前的基體從卷繞機傳送到真空沉積設備或將沉積后的基體從真空 沉積設備傳送到卷繞機。9.根據(jù)權利要求1所述的鋰離子電池的制作設備，其特征在于所述真空沉積設備包括 濺射機，所述濺射機所使用的靶材為平面或圓柱形的，所述靶材包括至少1個。
【文檔編號】H01M10/058GK205692926SQ201620659803
【公開日】2016年11月16日
【申請日】2016年6月28日 公開號201620659803.2, CN 201620659803, CN 205692926 U, CN 205692926U, CN-U-205692926, CN201620659803, CN201620659803.2, CN205692926 U, CN205692926U
【發(fā)明人】蔣濛, 譚志
【申請人】盈天科技（深圳）有限公司