一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，所述雷刻系統(tǒng)包括：雷刻機和芯片，所述的雷刻機包括：定位座、焦距調(diào)整器、雷射激光頭、作業(yè)臺、芯片放置平臺、計算機屏幕、計算機主機、開/關(guān)鍵、雷射開關(guān)、粉塵抽出機、腳踏板和階面。本實用新型所述系統(tǒng)其以雷刻代替原有的生產(chǎn)方式，省去了涂布、曝光、顯影和蝕刻等工藝，實現(xiàn)精簡工藝的同時，也節(jié)省了大量機臺和人員的投入，進(jìn)而節(jié)約了成本。同時所述的藍(lán)寶石pss片必須在無塵室內(nèi)進(jìn)行雷刻，無塵室內(nèi)進(jìn)行雷刻，實現(xiàn)無塵生產(chǎn)，確保了產(chǎn)品的清潔度，提高了產(chǎn)品的性能，大大提升了產(chǎn)品在市場的競爭力。
【專利說明】—種藍(lán)寶石PSS片雷刻系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種雷刻，具體是一種藍(lán)寶石PSS片雷刻系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]藍(lán)寶石的組成為氧化鋁是由三個氧原子和兩個鋁原子以共價鍵型式結(jié)合，晶體結(jié)構(gòu)為六方晶格結(jié)構(gòu)，其具有很好的熱穩(wěn)定性和介電特性，且其化學(xué)惰性強、光透性能好，具有很好的耐磨性，它是一種集優(yōu)良光學(xué)性能、物理性能、機械性能和化學(xué)性能于一體的多功能氧化物晶體。
[0003]從上述的特性可以看出藍(lán)寶石的用途非常廣泛，例如:手機、電腦、手表等屏幕或者保護(hù)面板，其中最重要的一個用途就是作為氮化物基LED器件發(fā)光二極管的首選襯底片材料。近年來，通過半導(dǎo)體處理工藝，在藍(lán)寶石襯底上制備周期排列的圖形或進(jìn)行襯底表面不規(guī)則的粗化，以提高于其上生長的氮化物材料的外延層晶體質(zhì)量及其器件的光電性能的研究以及與藍(lán)寶石襯底處理工藝對應(yīng)的技術(shù)和產(chǎn)品的推廣備受關(guān)注。
[0004]在對藍(lán)寶石襯底進(jìn)行表面加工的半導(dǎo)體處理工藝中，需要經(jīng)過制成涂布、曝光、顯影和刻蝕等工藝步驟，由于其工程量較大，在上述的各步驟中都需要相應(yīng)的機臺、人員才能實現(xiàn)，并且在操作的過程中難免會對芯片造成一些損壞，將會耗費大量的人力、物力和財力，因而我們應(yīng)該尋求一種更好的解決辦法。
實用新型內(nèi)容
[0005]實用新型目的:本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)。
[0006]技術(shù)方案:為了實現(xiàn)以上目的，本實用新型所述的藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，所述雷刻系統(tǒng)包括:雷刻機和芯片，所述的雷刻機包括:定位座、焦距調(diào)整器、雷射激光頭、作業(yè)臺、芯片放置平臺、計算機屏幕、計算機主機、開/關(guān)鍵、雷射開關(guān)、粉塵抽出機、腳踏板和階面，所述焦距調(diào)整器設(shè)于定位座的頂端，所述雷射激光頭設(shè)于定位座的左側(cè)，所述作業(yè)臺設(shè)于定位座的前方，所述芯片放置平臺設(shè)于作業(yè)臺上面，所述計算機屏幕設(shè)于定位座的右方，所述計算機主機設(shè)于作業(yè)臺的下方，所述開/關(guān)鍵和雷射開關(guān)均設(shè)于作業(yè)臺后面的臺板上，所述粉塵抽出機設(shè)于雷刻機的旁邊，所述腳踏板設(shè)于雷刻機的前下方。本實用新型中采用雷刻代替原來的pss片加工方法，在整個加工過程中省略了原來的涂布、曝光、顯影和蝕刻等步驟，使得整個生產(chǎn)過程得以簡化。
[0007]所述的定位座為倒T形，其包括底座和立柱，所述底座固定于雷刻機上，所述的底座和立柱是一體成型，且所述立柱高度能夠調(diào)節(jié)。方便機臺上的其他設(shè)備進(jìn)行擺放，使得整個操作臺擺放有序。
[0008]所述芯片放置平臺分為兩吋芯片放置平臺和四吋芯片放置平臺，實現(xiàn)一臺機器多規(guī)格生產(chǎn)，能夠節(jié)約大筆的機器成本。
[0009]所述雷刻機適用于無塵室中，保證了整個雷刻過程的清潔度，讓其實現(xiàn)無塵生產(chǎn)。
[0010]所述芯片的正面為拋光面，表面平滑；背面為霧面，表面呈粗糙狀。
[0011]有益效果:本實用新型所述的藍(lán)寶石PSS片雷刻系統(tǒng)，具有以下優(yōu)點:
[0012]1、本實用新型所述的藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其以雷刻代替原有的生產(chǎn)方式，省去了涂布、曝光、顯影和蝕刻等工藝，實現(xiàn)精簡工藝的同時，也節(jié)省了大量機臺和人員的投入，進(jìn)而起到了為公司節(jié)約成本的效果。
[0013]2、本實用新型所述的藍(lán)寶石pss片必須在無塵室內(nèi)進(jìn)行雷刻，實現(xiàn)無塵生產(chǎn)，確保了產(chǎn)品的清潔度，提高了產(chǎn)品的性能，大大提升了產(chǎn)品在市場的競爭力。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖2為本實用新型中的“芯片放置平臺”的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]1-雷刻機、2-芯片、3-定位座、31-定座、32-立柱、4_焦距調(diào)整器、5_雷射激光頭、6-作業(yè)臺、7-芯片放置平臺、8-計算機屏幕、9-計算機主機、10-開/關(guān)鍵、11-雷射開關(guān)、12-粉塵抽出機、13-腳踏板、14-階面。

【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和具體實施例，進(jìn)一步闡明本實用新型，應(yīng)理解這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍，在閱讀了本實用新型之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對本實用新型的各種等價形式的修改均落于本申請所附權(quán)利要求所限定的范圍。
實施例
[0018]如圖所示的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，包括:雷刻機I和芯片2，所述的雷刻機I包括:定位座3、焦距調(diào)整器4、雷射激光頭5、作業(yè)臺6、芯片放置平臺7、計算機屏幕8、計算機主機9、開/關(guān)鍵10、雷射開關(guān)11、粉塵抽出機12、腳踏板13和階面14，其中所述定位座3定位座為倒T形，包括底座31和立柱32。
[0019]上述各部件關(guān)系如下:
[0020]所述焦距調(diào)整器4設(shè)于定位座3的頂端，所述雷射激光頭5設(shè)于定位座3的左側(cè)，所述作業(yè)臺6設(shè)于階面14的前方，所述芯片放置平臺7設(shè)于作業(yè)臺6上面，所述計算機屏幕8設(shè)于定位座3的右方，所述計算機主機9設(shè)于作業(yè)臺6的下方，所述開/關(guān)鍵10和雷射開關(guān)11均設(shè)于作業(yè)臺6后面的臺板上，所述粉塵抽出機12設(shè)于雷刻機I的旁邊，所述腳踏板13設(shè)于雷刻機I的前下方。
[0021]所述的定位座3其包括底座31和立柱32，所述底座31固定于雷刻機I上，所述的底座31和立柱32是一體成型，且所述立柱32具有可調(diào)節(jié)性。方便機臺上的其他設(shè)備進(jìn)行擺放，使得整個操作臺擺放有序。
[0022]所述芯片放置平臺7分為兩吋芯片放置平臺和四吋芯片放置平臺，實現(xiàn)一臺機器多規(guī)格生產(chǎn)，能夠節(jié)約大筆的機器成本。
[0023]所述雷刻機I適用于無塵室中，保證了整個雷刻過程的清潔度，讓其實現(xiàn)無塵生產(chǎn)。
[0024]所述芯片2的正面為拋光面，表面平滑；背面為霧面，表面有些粗糙。
[0025]所述的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，該系統(tǒng)的具體工作步驟如下:
[0026]A、首先進(jìn)入雷刻的作業(yè)前準(zhǔn)備；
[0027]a、作業(yè)前必須確認(rèn)手套潔凈度，若有臟污需更換新的手套；
[0028]b、每片芯片2必須確正面是否都朝向U-bar，若有放反面狀況，必須將該片挑出將正面朝U-bar放置回原位；
[0029]C、取一片擋片進(jìn)行試打，確認(rèn)雷刻碼是否有模糊或看不清楚的狀況；若有模糊或不清楚的狀況，則暫停作業(yè)，等待10分鐘后再開始作業(yè)，若還有相同狀況則通知工程單位。
[0030]d、第一片打印完成后，必須找第二人確認(rèn)雷刻碼是否正確、打印位置是否偏移、正背刻打印面是否正確、打印是否有模糊或不清楚狀況、崩角、雷射打裂或破片狀況。
[0031]B、然后確認(rèn)來料數(shù)量是否正確，若片數(shù)上有問題，必須通知上一生產(chǎn)單位處理，同時全檢每片，確認(rèn)芯片正面朝向第25片的方向；
[0032]C、按下開/關(guān)鍵，雙擊計算機屏幕上的HomePage，進(jìn)行系統(tǒng)過賬和雷刻碼查詢；
[0033]D、把芯片放到相對應(yīng)的芯片放置平臺上，并將它們與作業(yè)臺上面的定位點對齊，進(jìn)行定位放置；
[0034]E、利用計算機內(nèi)的繪圖軟件劃出芯片上雷刻所需打點的位置；
[0035]F、啟動雷射開關(guān)，對雷刻機上的焦距調(diào)整器進(jìn)行焦距調(diào)節(jié)、并調(diào)整雷刻機的雷射頻率和行駛速度，控制其雷射的深度和均勻性；
[0036]G、踩下腳踏板通過雷射激光頭進(jìn)行雷射刻??；
[0037]H、在雷射的同時打開粉塵抽出機把雷射產(chǎn)生的粉塵吸食干凈；
[0038]1、待其雷射完畢后,使用液態(tài)清洗液搭配純水進(jìn)行超音清洗即可。
【權(quán)利要求】
1.一種監(jiān)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其特征在于:包括:雷刻機(I)和芯片(2),所述的雷刻機(I)包括:定位座(3)、焦距調(diào)整器(4)、雷射激光頭(5)、作業(yè)臺(6)、芯片放置平臺(7)、計算機屏幕(8)、計算機主機(9)、開/關(guān)鍵(10)、雷射開關(guān)(11)、粉塵抽出機(12)、腳踏板(13)和階面(14)，所述焦距調(diào)整器(4)設(shè)于定位座(3)的頂端，所述雷射激光頭(5)設(shè)于定位座(3)的左側(cè)，所述作業(yè)臺(6)設(shè)于階面(14)的前方，所述芯片放置平臺(7)設(shè)于作業(yè)臺(6)上面，所述計算機屏幕(8)設(shè)于定位座(3)的右方，所述計算機主機(9)設(shè)于作業(yè)臺(6)的下方，所述開/關(guān)鍵(10)和雷射開關(guān)(11)均設(shè)于作業(yè)臺(6)后面的臺板上，所述粉塵抽出機(12)設(shè)于雷刻機(I)的旁邊，所述腳踏板(13)設(shè)于雷刻機(I)的前下方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其特征在于:所述的定位座(3)為倒T形，其包括底座(31)和立柱(32)，所述底座(31)固定于雷刻機(I)上，所述的底座(31)和立柱(32)是一體成型，且所述立柱(32)高度能夠調(diào)節(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其特征在于:所述芯片放置平臺(7)分為兩吋芯片放置平臺和四吋芯片放置平臺。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其特征在于:所述雷刻機(I)適用于無塵室中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石pss片雷刻系統(tǒng)，其特征在于:所述芯片(2)的正面為拋光面，表面平滑；背面為霧面，表面呈粗糙狀。
【文檔編號】H01L33/00GK204257682SQ201420737237
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年12月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月1日
【發(fā)明者】鄭松森, 李建勳 申請人:南京京晶光電科技有限公司