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用于激光器的等離子體激勵源裝置制造方法

文檔序號:7094288閱讀:139來源:國知局
用于激光器的等離子體激勵源裝置制造方法
【專利摘要】一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,涉及到等離子體激勵源裝置,由陰極基座、陰極、螺旋導流器、陽極組件和絕緣機架組成,陰極基座的回轉(zhuǎn)體中有冷卻回路和氣室,陰極由空心的圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陰極的圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻室,螺旋導流器的回轉(zhuǎn)體中有螺旋導流肋,螺旋導流肋的螺距空間構(gòu)成螺旋氣流通道,陰極連接在陰極基座的回轉(zhuǎn)體前端,螺旋導流器安裝在陰極基座的回轉(zhuǎn)體上,陰極的頭部從螺旋導流器前端的約束口中伸出;陽極組件包括陽極座和陽極,陽極安裝在陽極座的回轉(zhuǎn)體前端;陰極基座和陽極組件分別安裝在絕緣機架的兩端,陽極頭端與陰極頭端之間的空間構(gòu)成放電區(qū)。本實用新型在放電現(xiàn)象下產(chǎn)生強烈弧光和高能電子束,使激光器的功率強大、結(jié)構(gòu)簡單和能耗低。
【專利說明】用于激光器的等離子體激勵源裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及激光設備,特別是涉及到一種等離子體激勵源裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]激光是20世紀以來,繼原子能、計算機、半導體之后,人類的又一重大實用新型,被稱為“最快的刀”、“最準的尺”、“最亮的光”和“奇異的激光”。激光應用最大的領(lǐng)域為激光加工技術(shù),激光加工技術(shù)是利用激光束與物質(zhì)相互作用對金屬材料和非金屬材料進行切害I]、焊接、表面處理、打孔、微加工等。
[0003]激光器的激勵方式有光泵方式激勵、氣體放電方式激勵、高能電子束注入方式激勵、核泵浦方式激勵等。等離子體是在氣體放電現(xiàn)象下所形成的一種狀態(tài),伴隨著放電現(xiàn)象將會產(chǎn)生強光和高能電子束,如作為大功率激光器的激勵源應用,不僅能使激光器的功率強大,而且具有結(jié)構(gòu)簡單、能耗低的特點。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的是提供一種大功率激光器的激勵源裝置,應用等離子體技術(shù),在放電現(xiàn)象下產(chǎn)生強烈弧光和高能電子束,作為大功率激光器的激勵源,使激光器的功率強大、結(jié)構(gòu)簡單和能耗低。
[0005]本實用新型的用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是裝置由陰極基座(I)、陰極(4)、螺旋導流器(3)、陽極組件和絕緣機架(13)組成,其中,陰極基座(I)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻回路和氣室(II);陰極(4)由空心的圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陰極(4)的圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻室(III);螺旋導流器(3)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),螺旋導流器
(3)的回轉(zhuǎn)體中有螺旋導流肋(3-1),在螺旋導流器(3)的前端有約束環(huán)壁(3-2),約束環(huán)壁(3-2 )為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),約束環(huán)壁(3-2 )的內(nèi)空間構(gòu)成約束口( X );陰極(4 )連接在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端,螺旋導流器(3)的后端安裝在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體上,陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端和陰極(4)的圓棒體部位處于螺旋導流肋(3-1)的內(nèi)環(huán)空間中,螺旋導流肋(3-1)的螺距空間構(gòu)成螺旋氣流通道(珊),陰極(4)的頭部從螺旋導流器(3)前端的約束口(X)中伸出,氣室(II)通過螺旋氣流通道(珊)和約束口(X)連通到陰極(4)頭端外空間;陽極組件包括陽極座(6)和陽極(5),陽極座(6)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻通道;陽極(5)由空心圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陽極(5)的空心圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻腔(V),陽極(5)安裝在陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體前端;陰極基座(I)和陽極組件分別安裝在絕緣機架(13)的兩端,陽極(5)的頭端指向陰極(4)的頭端,陽極(5)頭端與陰極(4)頭端之間的空間構(gòu)成放電區(qū)(IV )。
[0006]本實用新型中,陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體外壁上有安裝螺口( 1-3),螺旋導流器(3)的后端有螺紋槽口(3-3),螺旋導流器(3)的螺紋槽口(3-3)旋合在陰極基座(I)的安裝螺口(1-3)上;陰極基座(I)呈水平設置,陽極組件呈垂直設置或傾斜設置,當陽極組件呈傾斜設置時,傾斜角度為45° -90° ;陰極基座(I)回轉(zhuǎn)體中的冷卻回路有冷卻導流管(1-4),冷卻導流管(1-4)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻供水通道(IX),冷卻導流管(1-4)的管外空間構(gòu)成冷卻回水通道(I ),冷卻供水通道(IX)有冷卻水輸入接口(1-5)接入,冷卻供水通道(IX)通過陰極(4)內(nèi)的冷卻室(ΠΙ)連通到冷卻回水通道(I ),冷卻回水通道(I )有冷卻水輸出接口(1-1)接出;陰極(4)的實體頭部后端有冷卻尾錐(4-3),冷卻尾錐(4-3)伸入到冷卻室(III)中;陰極基座(I)中的氣室(II)有保護氣輸入接口(1-2)接入;陰極(4)的實體頭部為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),陰極(4)的頭端為圓弧形結(jié)構(gòu);陽極座(6)回轉(zhuǎn)體中的冷卻通道有冷卻導向管(6-2),冷卻導向管(6-2)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻水輸入通道(VII),冷卻導向管(6-2)的管外空間構(gòu)成冷卻水回流通道(VI),冷卻水輸入通道(VD有冷卻劑進口(6-3)接入,冷卻水輸入通道(YD)通過陽極(5)內(nèi)的冷卻腔(V)連通到冷卻水回流通道(VI),冷卻水回流通道(VI)有冷卻劑出口(6-1)接出;裝置中有引弧電極(11)和驅(qū)動機構(gòu)(12 ),引弧電極(11)的工作電位與陰極(4)的工作電位相同,驅(qū)動機構(gòu)(12)為轉(zhuǎn)軸工作方式,引弧電極
(11)的尾端連接在驅(qū)動機構(gòu)(12)的轉(zhuǎn)軸上;在裝置進行引弧時,引弧電極(11)的頭端由陽極(5)的頭端向陰極(4)的頭端活動,完成引弧后,引弧電極(11)的頭端限定在陰極(4)的頭立而。
[0007]上述的實用新型工作時,一路冷卻水通過冷卻水輸入接口(1-5)進入到冷卻導流管(1-4)內(nèi)的冷卻供水通道(IX)中,經(jīng)冷卻導流管(1-4)前端的出水口對陰極(4)頭部后端的冷卻尾錐(4-3)進行沖刷冷卻,冷卻水吸收了陰極(4)頭部的熱量后,再經(jīng)冷卻室(III)進入到冷卻回水通道(I ),然后由冷卻水輸出接口(1-1)返回到冷卻系統(tǒng)的回路中;另一路冷卻水通過冷卻劑進口(6-3)進入到冷卻水輸入通道(VD中,經(jīng)冷卻導向管(6-2)的出水口進入到陽極(5)內(nèi)的冷卻腔(V),吸收陽極(5)頭部的熱量后,進入到冷卻水回流通道(VI),再由冷卻劑出口(6-1)返回到冷卻系統(tǒng)的回路中;保護氣體由保護氣輸入接口(1-2)進入到氣室(II)中,然后由螺旋氣流通道(VDI)以螺旋方式進入到放電區(qū)(IV),保護氣體受到螺旋導流器(3)前端約束口(X)的約束而掃過陰極(4)的頭端,起到對陰極(4)的保護作用;陰極基座(I)作為陰極(4)的電氣連接件,陽極座(6)作為陽極(5)的電氣連接件,在陽極
(5)與陰極(4)之間施加電能,再通過驅(qū)動機構(gòu)(12)驅(qū)動引弧電極(11)的頭端靠近陽極(5)的頭端或接觸到陽極(5)的頭端,然后使引弧電極(11)的頭端離開陽極(5)的頭端而向陰極(4)的頭端接近,便在引弧電極(11)的頭端與陽極(5)的頭端之間產(chǎn)生電弧,當引弧電極
(11)的頭端與陰極(4)的頭端接近時,便在陰極(4)的頭端與陽極(5)的頭端之間形成等離子體電弧,輻射能量,產(chǎn)生強烈的弧光和高能電子束,作為激勵源提供給大功率激光器應用。
[0008]上述的實用新型工作時,陰極(4)的頭部需承受電流沖擊及數(shù)萬度的高溫燒灼,因此,必需對陰極的頭部采取有效的冷卻措施和氣體保護才能增加陰極的使用壽命。本實用新型采取在螺旋導流器(3)中設置螺旋導流肋(3-1)的措施,以形成螺旋保護氣流,氣流中心不會產(chǎn)生真空或負壓,使保護氣流能全面覆蓋陰極(4)的頭端,實現(xiàn)對陰極進行有效的氣體保護,結(jié)合冷卻保護措施,使陰極不易被燒蝕。本實用新型還在陰極(4)的頭部后端上設置冷卻尾錐(4-3 )、使冷卻導流管(1-4)的出水口對著冷卻尾錐(4-3 )沖刷,快速把陰極(4)頭部的熱量帶走,增強了陰極的冷卻效果。
[0009]本實用新型的有益效果是:應用等離子體技術(shù),在放電現(xiàn)象下產(chǎn)生強烈弧光和高能電子束,作為大功率激光器的激勵源,使激光器的功率強大、結(jié)構(gòu)簡單和能耗低。本實用新型實現(xiàn)對陰極進行有效的氣體保護,結(jié)合冷卻保護措施,使陰極不易被燒蝕,提高生產(chǎn)效率及節(jié)約生產(chǎn)成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型的用于激光器的等離子體激勵源裝置結(jié)構(gòu)圖。
[0011]圖2是圖1中的螺旋導流器結(jié)構(gòu)圖。
[0012]圖3是圖1的等離子體激勵源裝置放電示意圖。
[0013]圖中:1.陰極基座,1-1.冷卻水輸出接口,1-2.保護氣輸入接口,1-3.安裝螺口,1-4.冷卻導流管,1-5.冷卻水輸入接口,2.密封圈,3.螺旋導流器,3-1.螺旋導流肋,3-2.約束環(huán)壁,3-3.螺紋槽口,4.陰極,4-1.陰極的圓棒體,4-2.陰極的實體頭部,4-3.冷卻尾錐,5.陽極,6.陽極座,6-1.冷卻劑出口,6-2.冷卻導向管,6-3.冷卻劑進口,7.陽極的連接導線,8.固定螺栓,9.連接板,10.引弧軌跡,11.引弧電極,12.引弧電極的驅(qū)動機構(gòu),13.絕緣機架,14.安裝板,15.緊固螺栓,16.陰極的連接電線,17.等離子體弧光,1.冷卻回水通道,I1.氣室,II1.冷卻室,IV.放電區(qū),V.冷卻腔,V1.冷卻水回流通道,νπ.冷卻水輸入通道,VD1.螺旋氣流通道,IX.冷卻供水通道,X.約束口。

【具體實施方式】
[0014]實施例圖1所示的實施方式中,用于激光器的等離子體激勵源裝置由陰極基座(I)、陰極(4)、螺旋導流器(3)、陽極組件和絕緣機架(13)組成,其中,陰極基座(I)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體外壁上有安裝螺口(1-3),陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻回路和氣室(II ),冷卻回路中有冷卻導流管(1-4),冷卻導流管(1-4)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻供水通道(IX),冷卻導流管(1-4)的管外空間構(gòu)成冷卻回水通道(I ),冷卻供水通道(IX)有冷卻水輸入接口(1-5)接入,冷卻供水通道(IX)通過陰極(4)內(nèi)的冷卻室(III)連通到冷卻回水通道(I ),冷卻回水通道(I )有冷卻水輸出接口(1-1)接出,氣室(II)有保護氣輸入接口(1-2)接入;陰極(4)由空心的圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陰極(4)的圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻室(III),陰極(4)的實體頭部為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),陰極(4)的頭端為圓弧形結(jié)構(gòu),陰極(4)的實體頭部后端有冷卻尾錐(4-3),冷卻尾錐(4-3)伸入到冷卻室(III)中;螺旋導流器(3)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),螺旋導流器(3)的回轉(zhuǎn)體中有螺旋導流肋(3-1),在螺旋導流器(3)的前端有約束環(huán)壁(3-2),約束環(huán)壁(3-2)為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),約束環(huán)壁(3-2)的內(nèi)空間構(gòu)成約束口(X),在螺旋導流器(3)的后端有螺紋槽口(3-3);陰極(4)連接在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端,螺旋導流器(3 )的螺紋槽口( 3-3 )旋合在陰極基座(I)的安裝螺口(1-3)上,螺旋導流器(3)的后端安裝在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體上,陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端和陰極(4)的圓棒體部位處于螺旋導流肋(3-1)的內(nèi)環(huán)空間中,螺旋導流肋(3-1)的螺距空間構(gòu)成螺旋氣流通道(珊),陰極(4)的頭部從螺旋導流器(3)前端的約束口(X)中伸出,氣室(II)通過螺旋氣流通道(VDI)和約束口(X)連通到陰極(4)頭端外空間;陽極組件包括陽極座(6)和陽極(5),陽極座(6)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻通道,冷卻通道中有冷卻導向管(6-2),冷卻導向管(6-2)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻水輸入通道(通),冷卻導向管(6-2)的管外空間構(gòu)成冷卻水回流通道(VI),冷卻水輸入通道(YD)有冷卻劑進口(6-3)接入,冷卻水輸入通道(YD)通過陽極(5)內(nèi)的冷卻腔(V)連通到冷卻水回流通道(VI),冷卻水回流通道(VI)有冷卻劑出口(6-1)接出;陽極(5)由空心圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陽極(5)的空心圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻腔(V),陽極(5)安裝在陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體前端;陰極基座(I)和陽極組件分別安裝在絕緣機架(13)的兩端,陰極基座(I)呈水平設置,陽極組件呈傾斜設置,傾斜角度為45°,陽極(5)的頭端指向陰極(4)的頭端,陽極(5)頭端與陰極(4)頭端之間的空間構(gòu)成放電區(qū)(IV)。本實施例的裝置中有引弧電極(11)和驅(qū)動機構(gòu)(12 ),引弧電極(11)的工作電位與陰極(4)的工作電位相同,驅(qū)動機構(gòu)(12 )為轉(zhuǎn)軸工作方式,引弧電極(11)的尾端連接在驅(qū)動機構(gòu)(12)的轉(zhuǎn)軸上;在裝置進行引弧時,引弧電極(11)的頭端由陽極(5)的頭端向陰極(4)的頭端活動,完成引弧后,引弧電極(11)的頭端限定在陰極(4)的頭端。
[0015]本實施例采取在螺旋導流器(3)中設置螺旋導流肋(3-1)的措施,以形成螺旋保護氣流,氣流中心不會產(chǎn)生真空或負壓,使保護氣流能全面覆蓋陰極(4)的頭端,實現(xiàn)對陰極進行有效的氣體保護,結(jié)合冷卻保護措施,使陰極不易被燒蝕;在陰極(4)的頭部后端上設置冷卻尾錐(4-3)、使冷卻導流管(1-4)的出水口對著冷卻尾錐(4-3)沖刷,快速把陰極
(4)頭部的熱量帶走,增強了陰極的冷卻效果。
[0016]上述實施例工作時,一路冷卻水通過冷卻水輸入接口(1-5)進入到冷卻導流管(1-4)內(nèi)的冷卻供水通道(IX)中,經(jīng)冷卻導流管(1-4)前端的出水口對陰極(4)頭部后端的冷卻尾錐(4-3)進行沖刷冷卻,冷卻水吸收了陰極(4)頭部的熱量后,再經(jīng)冷卻室(III)進入到冷卻回水通道(I ),然后由冷卻水輸出接口(1-1)返回到冷卻系統(tǒng)的回路中;另一路冷卻水通過冷卻劑進口(6-3)進入到冷卻水輸入通道(YD)中,經(jīng)冷卻導向管(6-2)的出水口進入到陽極(5)內(nèi)的冷卻腔(V),吸收陽極(5)頭部的熱量后,進入到冷卻水回流通道(VI),再由冷卻劑出口(6-1)返回到冷卻系統(tǒng)的回路中;保護氣體由保護氣輸入接口(1-2)進入到氣室(II)中,然后由螺旋氣流通道(VDI)以螺旋方式進入到放電區(qū)(IV),保護氣體受到螺旋導流器(3)前端約束口(X)的約束而掃過陰極(4)的頭端,起到對陰極(4)的保護作用;陰極基座(I)作為陰極(4)的電氣連接件,陽極座(6)作為陽極(5)的電氣連接件,在陽極(5)與陰極(4)之間施加電能,再通過驅(qū)動機構(gòu)(12)驅(qū)動引弧電極(11)的頭端靠近陽極(5)的頭端或接觸到陽極(5)的頭端,然后使引弧電極(11)的頭端離開陽極(5)的頭端而向陰極(4)的頭端接近,便在引弧電極(11)的頭端與陽極(5)的頭端之間產(chǎn)生電弧,當引弧電極(11)的頭端與陰極(4)的頭端接近時,便在陰極(4)的頭端與陽極(5)的頭端之間形成等離子體電弧,輻射能量,產(chǎn)生強烈的弧光和高能電子束,作為激勵源提供給大功率激光器應用。
【權(quán)利要求】
1.一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是裝置由陰極基座(I)、陰極(4)、螺旋導流器(3 )、陽極組件和絕緣機架(13 )組成,其中,陰極基座(I)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻回路和氣室(II);陰極(4)由空心的圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陰極(4)的圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻室(III);螺旋導流器(3)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),螺旋導流器(3)的回轉(zhuǎn)體中有螺旋導流肋(3-1),在螺旋導流器(3)的前端有約束環(huán)壁(3-2),約束環(huán)壁(3-2)為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),約束環(huán)壁(3-2 )的內(nèi)空間構(gòu)成約束口( X );陰極(4 )連接在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端,螺旋導流器(3)的后端安裝在陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體上,陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體前端和陰極(4)的圓棒體部位處于螺旋導流肋(3-1)的內(nèi)環(huán)空間中,螺旋導流肋(3-1)的螺距空間構(gòu)成螺旋氣流通道(珊),陰極(4)的頭部從螺旋導流器(3)前端的約束口(X)中伸出,氣室(II)通過螺旋氣流通道(VDI)和約束口(X)連通到陰極(4)頭端外空間;陽極組件包括陽極座(6)和陽極(5),陽極座(6)為回轉(zhuǎn)體結(jié)構(gòu),陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體中有冷卻通道;陽極(5)由空心圓棒體和實體頭部構(gòu)成,陽極(5)的空心圓棒內(nèi)空間構(gòu)成冷卻腔(V),陽極(5)安裝在陽極座(6)的回轉(zhuǎn)體前端;陰極基座(I)和陽極組件分別安裝在絕緣機架(13)的兩端,陽極(5)的頭端指向陰極(4)的頭端,陽極(5)頭端與陰極(4)頭端之間的空間構(gòu)成放電區(qū)(IV)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極基座(I)的回轉(zhuǎn)體外壁上有安裝螺口( 1-3 ),螺旋導流器(3 )的后端有螺紋槽口( 3-3 ),螺旋導流器(3 )的螺紋槽口( 3-3 )旋合在陰極基座(I)的安裝螺口( 1-3 )上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極基座(I)呈水平設置,陽極組件呈垂直設置或傾斜設置,當陽極組件呈傾斜設置時,傾斜角度為 45。-90。。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極基座(I)回轉(zhuǎn)體中的冷卻回路有冷卻導流管(1-4),冷卻導流管(1-4)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻供水通道(IX),冷卻導流管(1-4)的管外空間構(gòu)成冷卻回水通道(I ),冷卻供水通道(IX)有冷卻水輸入接口( 1-5)接入,冷卻供水通道(IX)通過陰極(4)內(nèi)的冷卻室(III)連通到冷卻回水通道(I ),冷卻回水通道(I )有冷卻水輸出接口(1-1)接出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極(4)的實體頭部后端有冷卻尾錐(4-3),冷卻尾錐(4-3)伸入到冷卻室(III)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極基座(I)中的氣室(II)有保護氣輸入接口(1-2)接入。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陰極(4)的實體頭部為由后向前收窄的圓錐形結(jié)構(gòu),陰極(4)的頭端為圓弧形結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是陽極座(6)回轉(zhuǎn)體中的冷卻通道有冷卻導向管(6-2),冷卻導向管(6-2)的管內(nèi)空間構(gòu)成冷卻水輸入通道(VII),冷卻導向管(6-2)的管外空間構(gòu)成冷卻水回流通道(VI),冷卻水輸入通道(VD有冷卻劑進口(6-3)接入,冷卻水輸入通道(YD)通過陽極(5)內(nèi)的冷卻腔(V)連通到冷卻水回流通道(VI),冷卻水回流通道(VI)有冷卻劑出口(6-1)接出。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于激光器的等離子體激勵源裝置,其特征是裝置中有引弧電極(11)和驅(qū)動機構(gòu)(12),引弧電極(11)的工作電位與陰極(4)的工作電位相同,驅(qū)動機構(gòu)(12)為轉(zhuǎn)軸工作方式,引弧電極(11)的尾端連接在驅(qū)動機構(gòu)(12)的轉(zhuǎn)軸上;在裝置進行引弧時,引弧電極(11)的頭端由陽極(5)的頭端向陰極(4)的頭端活動,完成引弧后,引弧電極(11)的頭端限定在陰極(4)的頭端。
【文檔編號】H01S3/0955GK204167677SQ201420661205
【公開日】2015年2月18日 申請日期:2014年11月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月7日
【發(fā)明者】周開根 申請人:衢州迪升工業(yè)設計有限公司
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