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記錄、擦除和讀取多層光盤上數(shù)據(jù)的設(shè)備的制作方法

文檔序號:6770662閱讀:110來源:國知局
專利名稱:記錄、擦除和讀取多層光盤上數(shù)據(jù)的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及三維(3D)光學(xué)存儲設(shè)備,更具體地,涉及用于記錄、擦除和讀取多層光學(xué)記錄介質(zhì)上數(shù)據(jù)的設(shè)備。本發(fā)明要求的設(shè)備可用于所有要求在緊湊載體上記錄大量文件的計算領(lǐng)域。其也可用于記錄和讀取視頻數(shù)據(jù),例如在獨立視頻觀測(observation)系統(tǒng)中。
背景技術(shù)
使用激光輻射以在3D介質(zhì),特別在多層光盤上記錄信息的有效系統(tǒng)的設(shè)計者面對的最重要的技術(shù)問題之一是在3D介質(zhì)內(nèi)的記錄區(qū)域中定位/設(shè)置激光束,以便作為信息存儲結(jié)果的記錄介質(zhì)的光學(xué)特性變化最大限度地空間局域化。在該情形中,通過光學(xué)特性的變化,可指折射率/折射系數(shù)、吸收系數(shù)、散射系數(shù)或其他光學(xué),如介質(zhì)的熒光特性的變化。記錄一位數(shù)據(jù)(像素)占據(jù)的空間必須被最小化,因此增加介質(zhì)上數(shù)據(jù)記錄密度和數(shù)據(jù)存儲體積。像素的最小橫向尺寸被限制為記錄輻射波長值的大約一半。這直接遵從衍射理論,并且是基本物理限制。通過利用短波光學(xué)輻射和短焦距光學(xué)系統(tǒng)記錄數(shù)據(jù)可獲得高體密度的記錄信息,其中光學(xué)系統(tǒng)具有大數(shù)值孔徑和校正的球面像差,并將輻射聚焦在記錄介質(zhì)內(nèi)。本領(lǐng)域已知,記錄和讀取信息的3D設(shè)備(Kawata Y.,Nakano M.,Lee S-C, Three-dimensional optical data storage using three-dimensional optics. Optical Engineering, Vol. 40 (10),p. 2247-2254)。該論文/文獻(xiàn)描述了不同(單光子和雙光子) 介質(zhì)和基于共聚焦顯微鏡的各種形式的記錄、擦除和讀取信息的設(shè)備。通過使用記錄波長將輻射聚焦在材料內(nèi)并通過將其暴露于所述輻射改變所述材料的折射率,該設(shè)備記錄信息。然后通過以改變的折射率登記(registering)該區(qū)域讀取記錄的數(shù)據(jù),其中折射率改變值為讀取光束的相位失真值,該讀取光束的波長不同于記錄輻射的波長。上述論文的作者指出了提出的方法和設(shè)備的缺點。使用單光子介質(zhì)時,層間串音大,而使用雙光子介質(zhì)需要功率更大和更短的記錄激光束脈沖,這使得激光源微型化不可能。此外,因為相位擾動的測量方法是高度靈敏的,所以數(shù)據(jù)記錄要求介質(zhì)具有非常高的光學(xué)均勻性材料和光學(xué)表面質(zhì)量。而且本領(lǐng)域已知在光致變色材料內(nèi)記錄、擦除和讀取數(shù)據(jù)的設(shè)備,該材料通常為螺旋苯并吡喃(spirobenzopyran),其保持在3D基體/基質(zhì)(matrix)中,通常為聚合物(美國專利 No. 5洸8862,Three-dimensional optical memory,1993 年 12 月 7 日公布)。該設(shè)備包括激光器輻射源和光學(xué)定位與聚焦激光束的系統(tǒng)。用于記錄的材料具有兩種穩(wěn)定形式,螺旋吡喃和部花青(merocyanine)。從第一形式到另一種形式的轉(zhuǎn)變是通過雙光子吸收執(zhí)行的,該雙光子吸收發(fā)生在532nm的波長。記錄介質(zhì)被在兩個相互垂直方向上具有特定波長的兩個聚焦的激光束輻照的。以該方式,實現(xiàn)在3D空間內(nèi)兩個激光束相互作用區(qū)域的空間定位,同時第一形式的光致變色材料轉(zhuǎn)化為另一種形式僅在光束相交的焦點區(qū)域發(fā)生。另一種形式的光致變色材料在暴露于波長為1064nm的光輻照時產(chǎn)生熒光。由于材料被輻照,人們可以利用所述熒光讀取信息。通過以波長為212微米的光輻照,記錄在3D材料上的信息可通過加熱介質(zhì)全部或局部被擦除。該設(shè)備的缺點主要是類似于上述設(shè)備的缺點。因為記錄材料從一種形式轉(zhuǎn)化為另一種形式的過程是雙光子過程,需要使用具有超高峰值容量的輻照源。在一定體積材料內(nèi)定位兩個正交光束聚焦區(qū)相交點的要求限制給定設(shè)備減小記錄一位信息體積的程度為幾個單位和幾十微米,同時潛在地,光束可聚焦到橫向尺寸為幾分之一微米的區(qū)域上。而且,介質(zhì)的光學(xué)均勻性程度和限制光致變色材料體積的表面質(zhì)量必須非常高。在聚合物用作粘合基體(binding matrix)的情形中,在連續(xù)生產(chǎn)3D 光致變色材料的條件下獲得所需光學(xué)質(zhì)量非常困難。本領(lǐng)域還已知,在多層記錄介質(zhì)上記錄/讀取光學(xué)信息的設(shè)備(美國專利 7345967,Optical pickup unit,2008年3月18日公布)包括輻射源、分束器、受控球面像差校正器和物鏡,以及經(jīng)分束器與物鏡光學(xué)耦合的光學(xué)傳感器(光接收器),所有這些都連續(xù)地/串聯(lián)設(shè)置在光束方向上。給定設(shè)備通過輻射一種波長記錄和讀取信息。設(shè)備的操作模式是通過改變瞄準(zhǔn)在輻射記錄介質(zhì)上的輻射功率被選擇的。該設(shè)備的主要缺點在于在讀出過程中存在不可避免地丟失記錄信息的危險?,F(xiàn)有技術(shù)設(shè)備中為了緩解該缺點,建議在信息讀出過程中減小輻射源功率到最小可允許值,在最小可允許值,有用的信號僅稍微超過噪聲水平。在具有光與物質(zhì)相互作用的單光子機制的材料被用作3D記錄介質(zhì)時,在讀出過程中丟失信息的問題特別嚴(yán)重。使用介質(zhì)光密度變化讀取信息要求的實際光通量中,信息在5-10個讀取周期中被擦除。為了解決該問題,一些作者提出利用波長位于光致變色材料的光學(xué)吸收邊緣的輻射來讀取信息的方法(參看Mtoshi Kawata, Yoshimasa Kawata 的 Three-dimensional optical data storage using photochromic materials, Chem. Rev. 2000,100,1777-1788)。以該方法,實踐中,像素體積增加十倍乃至百倍。此外,實際使用單光子介質(zhì)的情形中,所有作者也指出攜帶記錄信息的層間串音??紤]上面的說明,在該情形中最正確的選擇似乎是涉及使用閾值雙光子介質(zhì)記錄 /擦除信息的選擇,其中僅在達(dá)到一定閾值密度的光時,信息才被記錄和擦除。然而,這類介質(zhì)要求讀取和擦除信息的輻射功率非常高,同時這類功率的實際實施例在當(dāng)前微型化設(shè)備中是不可能的。從實際實施例的觀點看,在3D介質(zhì)中讀取/擦除信息的最簡單系統(tǒng)由這樣的設(shè)備表示,其包括兩個具有不同波長并與一個聚焦系統(tǒng)光學(xué)耦合的輻射源,該聚焦系統(tǒng)具有控制3D介質(zhì)內(nèi)聚焦區(qū)域位置的裝置、球面相差校正單元、以及在記錄其上的信息被讀出過程中3D介質(zhì)發(fā)射的光學(xué)輻射的接收器(美國專利7436750,0ptical storage with ultrahigh storage capacity,2008年10月14日公布)。在該設(shè)備中,當(dāng)信息被記錄時,波長為λ 1的輻射被聚焦在由交替的透明和光致變色材料層組成的記錄介質(zhì)上。當(dāng)暴露于所述輻射時, 選擇的記錄層中的光致變色材料改變其光學(xué)特性并形成容量,當(dāng)暴露于波長為λ 2的輻射時,發(fā)射波長為λ 3的熒光。隨著信息被讀出,具有波長λ 2的輻射聚焦到記錄介質(zhì)上。由光致變色材料在像素的限制(the limits of the pixel)內(nèi)發(fā)射的波長λ 3的熒光被光學(xué)傳感器(光接收器)登記,該像素的限制先前暴露于波長為λ 1的光并含多位信息。該系統(tǒng)表明所要求保護的設(shè)備的技術(shù)本質(zhì),且因此被本發(fā)明人接受為原型/標(biāo)準(zhǔn)(prototype)。該原型的主要缺點在于低密度的記錄信息,這是由于光致變色材料的層之間的串音導(dǎo)致的。串音是因為下面的事實產(chǎn)生的,當(dāng)信息記錄在光致變色材料的深埋信號層上時, 波長λ 1的輻射通過較高位置的光致變色層,因此在記錄信息時,不可避免地在后者中誘導(dǎo)與信號層發(fā)生的過程相同的過程。為了減小光致變色層之間的串音,需要減小其數(shù)目, 或增加其間透明材料層的厚度。該問題解決方案的變體都不是最優(yōu)的,并導(dǎo)致要么限制可在一個數(shù)據(jù)介質(zhì)上記錄的最大數(shù)據(jù)量或增加多層光盤的厚度,且因此減小記錄密度。該原型的實際實施例中有兩種用于抑制層間串音的方法第一種方法使用大功率激光器作為記錄輻射光源,其在信號光致變色層中初始化雙光子記錄過程,而另一種方法具有登記 (register)熒光的光具組/光學(xué)系統(tǒng)(optical train),其包括色差補償元件,短焦距物鏡和幾微米孔徑光闌,所有這些都連續(xù)設(shè)置因而形成登記熒光輻射的共焦光具。使用共焦登記光具顯著減小有用熒光信號的值,因此提出在原型中將光電倍增管用作熒光檢測器。另一方面,原型中描述的實際實施例確定層間有串音的嚴(yán)重問題的存在,另一方面,因為設(shè)備的高成本和復(fù)雜設(shè)計,現(xiàn)有技術(shù)排除了在基于多層光盤的商業(yè)信息記錄設(shè)備中使用原型。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的任務(wù)是增加多層光盤上記錄的數(shù)據(jù)密度,同時簡化設(shè)備的設(shè)計。該任務(wù)可通過實現(xiàn)下面技術(shù)結(jié)果被解決,該技術(shù)結(jié)果包括當(dāng)信息記錄其上時減小多層光盤的光致變色層之間的串音,并可在后者讀出期間減小丟失記錄的信息的可能性。在所要求的本發(fā)明中,技術(shù)結(jié)果是通過利用在多層光盤上記錄/擦除/讀取信息的設(shè)備實現(xiàn)的,其包括光盤定位系統(tǒng)、使用兩種不同波長并與具有聚焦裝置的聚焦系統(tǒng)光學(xué)耦合的輻射源、經(jīng)分光器與聚焦系統(tǒng)光學(xué)耦合的光學(xué)傳感器(光接收器)、電連接到輻射源的控制和數(shù)據(jù)處理單元、聚焦系統(tǒng)定位裝置和光學(xué)傳感器,此外還包含在其輸出端的可調(diào)節(jié)光譜選擇器,可為兩個波長中每個設(shè)置所需要的光束強度比,所述選擇器設(shè)置在輻射源和光譜選擇器之間,并電連接到控制和數(shù)據(jù)處理單元,同時聚焦系統(tǒng)在指定波長設(shè)計有位置色差。本發(fā)明的本質(zhì)如下所述。在本發(fā)明所要求的設(shè)備中,設(shè)計有位置色差的聚焦系統(tǒng)能夠在多層光盤內(nèi)定位和聚焦以兩個不同波長發(fā)射的光束,以便這些波長的聚焦平面間隔距離S。所要求的設(shè)備是為了記錄/擦除/讀取多層光盤上信息,該多層光盤由光致變色和透明材料的交替層組成。適當(dāng)?shù)氖鞘褂脤τ诓ㄩL為λ 和λ2的光具有最大光通路 (optical passage)的聚合物作為透明材料,并使用設(shè)置在聚合物基體(matrix)中并能夠在暴露于波長為λ 和λ2的光時改變其光學(xué)特性的俘精酸酐作為光致變色材料,且更具體地,在初始狀態(tài)暴露于波長為λ 1的光后,如果暴露于通常表示為λ3的寬光譜范圍內(nèi)的波長為λ 2的光,則形成發(fā)射熒光的能力,然而當(dāng)在其改變的狀態(tài)暴露于波長為λ2的光時,其可發(fā)射熒光并返回到其初始狀態(tài),同時在該過程中喪失所述熒光特性。多層光盤中光致變色材料的各層厚度在一微米到幾個微米之間,且透明材料6的各層厚度在幾個微米到幾十微米之間。適當(dāng)?shù)氖沁x擇聚焦系統(tǒng)位置的色差值S為δ/2。由于聚焦系統(tǒng)位置的某些色差,在波長λ 1和λ 2發(fā)射的光的聚焦區(qū)域的空間分離使得能夠?qū)嵤┆氁粺o二的條件,其涉及當(dāng)記錄、擦除和讀取光盤深埋的光致變色層上的信息時,兩個頻率的輻射與物質(zhì)相互作用,這最小化較高光致變色層的串音效果和在讀出過程中信息的擦除。該條件是通過雙頻率輻射同時輻射多層光盤執(zhí)行的,其譜成分的強度CN 102549663 A比等于相同譜成分的波長比。例如,在記錄數(shù)據(jù)過程中,波長λ 1的輻射的吸收和光致變色材料過渡/轉(zhuǎn)變到改變的狀態(tài)不僅可在信號光致變色層中發(fā)生,而且在傳播記錄光束的其他層中發(fā)生。這導(dǎo)致虛影記錄(ghost record)。適當(dāng)強度的波長λ 2的輻射激勵未進(jìn)行記錄的層中光致變色材料返回到其初始狀態(tài),結(jié)果導(dǎo)致其內(nèi)產(chǎn)生的虛影記錄消失。在以波長 λ 1和λ 2的光同時輻射的情形中,光譜成分的強度比等于這些光譜成分的波長比,光致變色材料總是在其初始狀態(tài),因此保持光力學(xué)平衡。波長為λ 和λ 2的輻射的光譜成分的強度可通過使用可調(diào)節(jié)光譜選擇器獨立改變其通道被控制。


本發(fā)明的本質(zhì)可通過參考相關(guān)附圖得到最佳理解。圖1是本發(fā)明設(shè)備的示圖。圖2示出光致變色材料在其初始狀態(tài)(實線)和改變的狀態(tài)(虛線)中的特征吸收譜。圖3是多層光盤內(nèi)波長λ (實線)和波長λ2(虛線)的光束相交的詳細(xì)圖。該示圖示出透明材料層5的厚度和聚焦系統(tǒng)S的位置色差。圖4是總圖/ 一般圖,其示出多層光盤內(nèi)波長λ (實線)和波長λ2(虛線)的光束相交(a),和相應(yīng)于該幾何結(jié)構(gòu)并示出數(shù)據(jù)記錄模式中波長λ 1和λ 2的光束面積比的圖表(b)。圖5是總圖,其示出多層光盤內(nèi)波長λ (實線)和波長λ2(虛線)的光束相交 (a),和相應(yīng)于該幾何結(jié)構(gòu)并示出數(shù)據(jù)讀取模式或擦除模式中波長λ 1和λ 2的光束面積比的圖表(b)。
具體實施例方式圖1示出多層光盤1、光盤定位系統(tǒng)2、具有兩種不同波長λ 1和λ 2的輻射源3、 在波長λ 1和λ 2有色差的聚焦系統(tǒng)4、用于定位聚焦系統(tǒng)4的裝置5、設(shè)計成可登記波長 λ 3的熒光輻射的光學(xué)傳感器6、能夠抵制波長λ 1和λ 2的輻射并通過波長λ 3的輻射的分束器7以及能夠獨立控制波長λ 1和λ 2輻射通過的可調(diào)節(jié)光譜選擇器8。此外,示圖還示出與輻射源3電接口 /電連接的控制和數(shù)據(jù)處理單元9、聚焦系統(tǒng)4的定位裝置5、可調(diào)節(jié)光譜選擇器8和光學(xué)傳感器6。如圖2所示,初始狀態(tài)(實線)和改變狀態(tài)(虛線)中光致變色材料的吸收譜明顯不同。在其初始狀態(tài),光致變色材料在光譜的紫外線區(qū)具有最大吸收能力。當(dāng)暴露于相應(yīng)于吸收線短波峰值的波長λ 1的輻射時,光致變色材料從初始狀態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)楦淖儬顟B(tài)。該情形中吸收光譜失真吸收線短波最大吸收降低,且相反位于可見光帶中間的長波最大吸收增加。在其改變狀態(tài)中,光致變色材料在暴露于波長為λ 2并相應(yīng)于吸收的長波峰值的輻射時形成發(fā)射熒光的能力。在熒光情形中,光致變色材料部分返回到其初始狀態(tài)。多層光盤1上數(shù)據(jù)的記錄是通過波長為λ 1的光輻射實現(xiàn)的。由于多層光盤被波長λ 1和λ 2 的光同時輻射,所以光致變色材料不改變其狀態(tài),只要這類波長的輻射強度比等于波長比。圖3是多層光盤詳細(xì)示圖,其具有光致變色材料層10和透明材料層11以及聚焦在/聚焦(focus on)波長λ (實線)和λ2(虛線)的輻射區(qū)域。在具有色差的光學(xué)系統(tǒng)中,輻射光譜的長波部分的聚焦平面與最后光學(xué)元件的距離比輻射光譜短波部分的聚焦平面更大。本發(fā)明設(shè)備中波長λ 1和λ 2的輻射的聚焦平面之間距離S優(yōu)選為比多層光盤 1的透明層11的厚度6的兩倍小。圖4和5是總圖,其示出數(shù)據(jù)記錄(圖4a)和數(shù)據(jù)讀取或擦除(圖5a)模式中,多層光盤1內(nèi)波長λ (實線)和波長λ2(虛線)的輻射光束相交。在數(shù)據(jù)記錄模式中,具有波長λ 1的記錄輻射的光束被定位并聚焦到光致變色材料層10 (參考圖幻上,同時具有波長λ 2的讀取/擦除輻射的光束被近似定位并聚焦到鄰近后續(xù)透明層11的中間厚度,這是由于聚焦系統(tǒng)4存在色差。在數(shù)據(jù)讀取/擦除模式中,波長為λ 2的讀取/擦除輻射的光束聚焦在光致變色層10上,且相反,波長λ 1的記錄輻射光束被近似定位并聚焦到鄰近前續(xù)透明層11的中間厚度。如可從圖4b、5b中給出的圖表中看到的,波長為λ 1和λ 2的輻射的光譜成分的光束面積/區(qū)域(area)在整個光盤1深度上實際彼此相等,并僅在用于記錄、讀取或擦除信息的光致變色材料層的中間附近顯著不同。如果多層光盤幾乎同時暴露于波長為λ 和 λ 2且強度比確保等于波長比的輻射,則包含在光致變色層的像素中的信息在從信號光致變色材料中讀出時不改變。在本發(fā)明設(shè)備的最佳實施例的例子中,建議使用由透明材料,即聚碳酸酯的交替層組成的多層光盤1,一個單層厚度約100微米,光致變色材料層,即聚碳酸酯,包括光致變色俘精酸酐復(fù)合物(fulgide complex)、螺旋苯并吡喃,其具有兩種穩(wěn)定形式,螺旋吡喃和部花青,單層厚度約5mm。建議的具有兩種波長λ 1和λ 2的輻射源3是基于NdYV04晶體的固體激光器/固態(tài)激光器,其中輻射轉(zhuǎn)化/變換為第二(λ 2 = 0.532μπι)和第三(λ = 0. 355 μ m)諧波。建議的可調(diào)節(jié)光譜選擇器8是這樣的光學(xué)單元,其包括將波長λ 和入2 的輻射束路徑分開的輸入光譜分束器、在波長為λ 和λ 2的光的光學(xué)路徑上分別設(shè)置的兩個獨立可控制電光調(diào)制器、以及在波長為λ 和λ 2的光束通過可控制電光調(diào)制器后集成其路徑的輸出光譜分束器。作為聚焦系統(tǒng)4,建議使用具有大數(shù)值孔徑和球面像差控制的透鏡模塊,以及確保波長λ 1和λ 2處預(yù)設(shè)色差的監(jiān)測裝置。建議聚焦系統(tǒng)4的定位裝置5設(shè)計成可控制電磁懸浮形式,其確保聚焦系統(tǒng)4的一個或更多光學(xué)元件沿光軸縱向位移以便選擇要用于記錄、讀取和擦除信息的信號光致變色層或多層光盤1。建議分光鏡/ 二色鏡用作光譜分束器7。本發(fā)明實施例借助定位系統(tǒng)2,多層光盤1設(shè)置在記錄、擦除或讀取信息需要的位置。波長為λ 1 和λ 2的光從輻射源3傳播通過可調(diào)節(jié)光譜選擇器8,在光譜選擇器8的輸出端,預(yù)設(shè)波長為λ 和λ 2的光束的所需強度比。然后,光被引導(dǎo)通過光譜分束器7到達(dá)聚焦系統(tǒng)4,其位置是借助定位裝置5設(shè)置的。所述裝置5在多層光盤1內(nèi)定位波長λ 1和λ 2的光束的聚焦區(qū)域,并調(diào)節(jié)聚焦系統(tǒng)4從而補償產(chǎn)生的球面像差。信息的記錄、擦除或讀出是通過使用可調(diào)節(jié)光譜選擇器8改變各波長輻射的強度實現(xiàn)的。當(dāng)信息被記錄時,波長λ 1的輻射功率最大,且波長λ 2的輻射功率最??;當(dāng)信息被擦除時,波長λ 1的輻射功率最大,而波長 λ2的輻射功率最小。當(dāng)信息被讀出時,波長λ 1的輻射功率與波長λ 2的輻射功率的比等于入1/入2,并在0. 2-0. 7的范圍內(nèi)。記錄的信息的讀出是通過登記波長為λ 3的熒光輻射執(zhí)行的,該熒光輻射是通過波長為λ2的輻射在首先被波長為λ 1的光輻射的光致變色材料信號層10的那些像素中誘導(dǎo)的。由這些像素發(fā)射的熒光輻射的某些部分進(jìn)入聚焦系統(tǒng) 4的孔徑,由此經(jīng)光譜分束器7傳播到光學(xué)傳感器6的輸入端。從原型得到的本發(fā)明設(shè)備的重要特點/區(qū)別在于使用可調(diào)節(jié)光譜選擇器8,其能夠獨立控制輻射源3產(chǎn)生的具有一定波長光的通道,同時聚焦系統(tǒng)被設(shè)計成在所述波長具有預(yù)設(shè)的位置色差。在本發(fā)明之前給出的任務(wù)是通過下面的事實解決的,即在讀出預(yù)記錄數(shù)據(jù)的過程中,多層光盤1的光致變色材料的信息層中發(fā)生兩個過程,讀取光束執(zhí)行的信息擦除,以及記錄光束執(zhí)行的信息記錄。同時,這兩個光束強度的一定比/某一比(certain ratio)確保光盤的光致變色層的光學(xué)條件的穩(wěn)定性。本發(fā)明的設(shè)備比原型顯著更有效。這是因為光致變色材料的選擇更寬,該材料可用來形成多層光盤1的信息層,特別地,單光子光致變色,且對光盤材料的表面質(zhì)量和均勻性的要求不嚴(yán)格。應(yīng)該強調(diào),本發(fā)明的設(shè)備基于現(xiàn)有DVD驅(qū)動器使用的逐層記錄/擦除/讀取原理。 本發(fā)明的實施例不要求再設(shè)計現(xiàn)有驅(qū)動系統(tǒng),而僅是升級。積極效果是通過如下實現(xiàn)的,即通過改變單色輻射源為使用不同波長的光源或光源組合,并加入額外可調(diào)節(jié)光譜選擇器和具有預(yù)設(shè)位置色差的聚焦系統(tǒng)。
權(quán)利要求
1. 一種用于記錄/擦除/讀取多層光盤上信息的設(shè)備,其包括光盤定位系統(tǒng)、具有不同波長并與具有定位裝置的聚焦系統(tǒng)光學(xué)耦合的兩個輻射源、經(jīng)光譜分束器與所述聚焦系統(tǒng)光學(xué)耦合的光學(xué)傳感器,以及控制和數(shù)據(jù)處理單元,所述控制和數(shù)據(jù)處理單元電連接到所述輻射源、聚焦系統(tǒng)定位裝置和光學(xué)傳感器,其中所述設(shè)備包括可調(diào)節(jié)光譜選擇器,在其輸出端,可為兩種波長中的每個波長設(shè)定所需的光束強度比,且其中所述選擇器設(shè)置在所述輻射源和所述光譜分束器之間并電連接到所述控制和數(shù)據(jù)處理單元,同時所述聚焦系統(tǒng)設(shè)計成在指定波長具有位置色差。
全文摘要
本發(fā)明涉及三維光學(xué)存儲設(shè)備,其可用于所有計算領(lǐng)域,其中需要在緊湊載體上記錄大量數(shù)據(jù)文件,并可用于記錄、擦除和讀取視頻數(shù)據(jù),例如在獨立視頻觀看系統(tǒng)中。該設(shè)備包括光盤定位系統(tǒng)、具有兩種不同波長并光耦合到聚焦系統(tǒng)的輻射源、聚焦系統(tǒng)定位裝置、和經(jīng)光譜分束器及位于具有兩種不同波長的輻射源和光譜分束器之間的可調(diào)光譜選擇器光學(xué)耦合到聚焦系統(tǒng)的光學(xué)傳感器,其中所述聚焦系統(tǒng)設(shè)計成在給定波長具有縱向色差。
文檔編號G11B7/002GK102549663SQ201080041367
公開日2012年7月4日 申請日期2010年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月25日
發(fā)明者V·V·基克 申請人:V·V·基克, 埃沃浩斯特投資有限公司
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