通過(guò)加入干擾元素層以隱藏點(diǎn)陣圖形的方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種圖形隱藏方法，尤其是一種通過(guò)加入干擾元素層以隱藏點(diǎn)陣圖形的方法，包括：在物品表面植入由含碳隱形油墨生成的點(diǎn)陣圖形；在物品表面植入由無(wú)碳油墨生成的干擾元素層，并使干擾元素層覆蓋在點(diǎn)陣圖形上。本發(fā)明所使用的點(diǎn)陣圖形采用隱形油墨植入在物品表面，因此，可提高其隱蔽性，另外，在點(diǎn)陣圖形上遮蓋能夠?qū)⑵渫耆桓采w的干擾元素層，因此，極大增加了防偽的安全性；由于用于識(shí)別點(diǎn)陣圖形為肉眼不可見(jiàn)光的光譜與用于識(shí)別干擾元素層的肉眼可光的光譜不同，因此，即使在點(diǎn)陣圖形上覆蓋有干擾元素層也不會(huì)影響對(duì)點(diǎn)陣圖形的讀取與識(shí)別。
【專利說(shuō)明】通過(guò)加入干擾元素層以隱藏點(diǎn)陣圖形的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種圖形隱藏方法，尤其是一種通過(guò)加入干擾元素層以隱藏點(diǎn)陣圖形的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，防偽標(biāo)簽一般由基底和印刷在基底上的標(biāo)識(shí)層與可視圖案層組成。在2013年3月13日公開(kāi)的
【發(fā)明者】姚為, 熊振文 申請(qǐng)人:立德高科(北京)數(shù)碼科技有限責(zé)任公司