一種氣體分析儀氣室裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種氣體分析儀氣室裝置，屬于氣體檢測技術(shù)領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有的氣室裝置不能對具有高粉塵的檢測氣體起到粉塵過濾且檢測精度不高的問題。本氣體分析儀氣室裝置，包括激光接收器、激光發(fā)射器和氣室，所述激光接收器和激光發(fā)射器均設(shè)置在氣室內(nèi)，本氣體分析儀氣室裝置還包括能反射光線的反射鏡和能將粉塵過濾的過濾器，所述氣室上開設(shè)有通氣孔，所述過濾器設(shè)置在氣室上并位于通氣孔內(nèi)，所述反射鏡設(shè)置在氣室內(nèi)，且反射鏡能將激光發(fā)射器發(fā)射的激光反射到激光接收器上。本氣體分析儀氣室裝置能通過對激光進行反射，同時設(shè)置過濾器來提高檢測的精度。
【專利說明】
一種氣體分析儀氣室裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型屬于氣體檢測技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種氣體分析儀氣室裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著工業(yè)的發(fā)展，越來越多的工業(yè)廢氣需要處理，同時人們對于環(huán)境保護也越發(fā)的重視，在工業(yè)廢氣的檢測過程中，為了保證分析檢測數(shù)據(jù)的準確性，將工業(yè)廢氣中的粉塵過濾掉是非常重要的。
[0003]TDLAS中文翻譯為:可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜。在采用TDLAS測量法測量氣體的濃度時，是將以電流按照一定頻率f調(diào)制了波長的入射激光導(dǎo)入裝有一種或多種要分析的目標氣體的測量氣室中，并且利用氣體傳感測量裝置的光電傳感裝置檢測已通過該氣體并返回的透射激光的光功率，該待測氣體可以包含多種氣體成分，其中各種特定的氣體成分分別具有特定波長的吸收特性。
[0004]因此，在將具有特定頻率f的入射激光導(dǎo)入待測氣體時，入射激光在該待測氣體的目標氣體成分的特定頻率f附近被強烈吸收，設(shè)法獲取入射激光被目標氣體成分吸收的強度，并參照入射激光的強度，可以反演推算出待測氣體中目標氣體成分的濃度。
[0005]目前，人們也研發(fā)出了各種氣體分析儀氣室裝置:
[0006]如中國專利申請(申請?zhí)?201010154595.8)公開了一種抗積灰干擾的激光粉塵檢測裝置，至少包括激光和用以檢測含塵氣體的第一檢測暗室，第一檢測暗室的入口設(shè)置有第一遮光裝置，第一檢測暗室設(shè)置有第一入光窗口和第一出光窗口，第一入光窗口和第一出光窗口上均設(shè)置有防塵玻璃，激光器的出射方向上一次設(shè)置有第一半透半反鏡、第一半透半反鏡和發(fā)射裝置，第一入光窗口前設(shè)有第一擴束透鏡，第一出光窗口后設(shè)置有第一聚焦透鏡，第一聚焦透鏡后的焦點處設(shè)置有第一多元光纖分布板。
[0007]上述的抗積灰干擾的激光粉塵檢測裝置雖然能加強對氣體的檢測精度，但是不能從根本上起到將粉塵過濾的效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本實用新型的目的是針對現(xiàn)有的技術(shù)存在上述問題，提出了一種氣體分析儀氣室裝置，本實用新型所要解決的技術(shù)問題是如何實現(xiàn)對高粉塵的工業(yè)廢氣進行高精度的檢測。
[0009]本實用新型的目的可通過下列技術(shù)方案來實現(xiàn):一種氣體分析儀氣室裝置，包括激光接收器、激光發(fā)射器和氣室，所述激光接收器和激光發(fā)射器均設(shè)置在氣室內(nèi)，其特征在于，本氣體分析儀氣室裝置還包括能反射光線的反射鏡和能將粉塵過濾的過濾器，所述氣室上開設(shè)有通氣孔，所述過濾器設(shè)置在氣室上并位于通氣孔內(nèi)，所述反射鏡設(shè)置在氣室內(nèi)，且反射鏡能將激光發(fā)射器發(fā)射的激光反射到激光接收器上。
[0010]含有粉塵的工業(yè)廢氣通過通氣孔進入氣室內(nèi)，而過濾器位于通氣孔內(nèi)，工業(yè)廢氣在通過通氣孔時，過濾器將工業(yè)廢氣中的粉塵過濾掉，在工業(yè)廢氣進入到氣室后，通過激光發(fā)射器發(fā)射出激光經(jīng)過反射鏡反射，反射鏡將反射的激光反射到激光接收器上，反射鏡的設(shè)置增加了檢測的路徑，從而使得激光檢測的精度提高，減少了誤差，通過激光接收器、激光發(fā)射器、氣室、反射鏡和過濾器的配合使用，能進一步的實現(xiàn)對對高粉塵的工業(yè)廢氣進行高精度的檢測。
[0011]在上述的氣體分析儀氣室裝置中，本氣體分析儀氣室裝置中設(shè)有若干個反射鏡，所述反射鏡設(shè)置在氣室的兩端，并能將激光發(fā)射器發(fā)射的激光反射到激光接收器上。
[0012]反射鏡可以為凹面鏡或者是傾斜設(shè)置的平面鏡，通過若干個反射鏡的設(shè)置，能使得激光發(fā)射器發(fā)射出的光線能通過反射鏡多次反射后被激光接收器接收，從而使得激光發(fā)射器發(fā)出的光線多次經(jīng)過工業(yè)廢氣，從而減少了檢測的誤差，提高了檢測的精度。
[0013]在上述的氣體分析儀氣室裝置中，本氣體分析儀氣室裝置中設(shè)有一個反射鏡，所述激光發(fā)射器和激光接收器位于氣室的一端，所述反射鏡位于氣室的另一端。
[0014]只設(shè)置一個反射鏡，能使得激光發(fā)射器發(fā)射出的光線能通過反射鏡反射后被激光接收器接收，從而使得激光發(fā)射器發(fā)出的光線兩次經(jīng)過工業(yè)廢氣，能在氣室裝置更加簡單的情況下，也能保證檢測的精度。
[0015]在上述的氣體分析儀氣室裝置中，所述過濾器設(shè)置在氣室的兩側(cè)，所述過濾器包括粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)，所述激光發(fā)射器和激光接收器均位于兩精濾網(wǎng)之間，所述粗濾網(wǎng)相對于精濾網(wǎng)均遠離激光發(fā)射器和激光接收器。
[0016]在氣室的兩側(cè)分別設(shè)置粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)，使得具有粉塵的工業(yè)廢氣能先經(jīng)過粗濾網(wǎng)的粗步過濾之后，再通過精濾網(wǎng)對過濾后的工業(yè)廢氣再進行一次過濾，從而使得通過激光檢測的氣體所含的粉塵量大大降低，從而進一步的提高了檢測的精度。
[0017]在上述的氣體分析儀氣室裝置中，本氣體分析儀氣室裝置還包括密封件，所述密封件設(shè)置在氣室內(nèi)，所述密封件均與粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)的一端密封連接。
[0018]密封件的設(shè)置，使得粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)處于密封狀態(tài)，使得在經(jīng)過粗濾網(wǎng)的工業(yè)廢氣，能在通過精濾網(wǎng)過濾的過程中，不會從粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)的端部之間逸出，從而使得粗濾網(wǎng)和精濾網(wǎng)與反射鏡的配合能更好的提高了檢測的精度。
[0019]在上述的氣體分析儀氣室裝置中，所述密封件與粗濾網(wǎng)相連的一端延伸出抵靠部，所述抵靠部與氣室的內(nèi)壁密封連接，所述反射鏡能與抵靠部相貼靠。
[0020]密封件與抵靠部一體成型，且密封件與抵靠部呈L型，抵靠部和密封部的設(shè)置，能進一步的簡化粗濾網(wǎng)、精濾網(wǎng)和反射鏡之間的安裝和連接，同時也保證了檢測的精度。
[0021 ]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本氣體分析儀氣室裝置具有以下優(yōu)點:
[0022]1、通過激光接收器、激光發(fā)射器、氣室和反射鏡的配合使用，能將從激光發(fā)射器發(fā)射出的激光通過反射鏡反射，從而提高了氣體檢測的精度。
[0023]2、通過精濾網(wǎng)和粗濾網(wǎng)之間的配合作用，可將檢測氣體中帶有的粉塵過濾掉，從而提尚了氣體檢測的精度。
[0024]3、密封件和抵靠部的設(shè)置，使得氣體分析儀氣室裝置的安裝更加簡便。
【附圖說明】
[0025]圖1是本氣體分析儀氣室裝置的剖視圖。
[0026]圖中，1、激光發(fā)射器;2、激光接收器;3、氣室;31、通氣孔;4、反射鏡;5、過濾器;51、粗濾網(wǎng)；52、精濾網(wǎng);6、密封件;7、抵靠部。
【具體實施方式】
[0027]以下是本實用新型的具體實施例并結(jié)合附圖，對本實用新型的技術(shù)方案作進一步的描述，但本實用新型并不限于這些實施例。
[0028]實施例一
[0029]如圖1所示，本氣體分析儀氣室裝置，包括激光接收器2、激光發(fā)射器1、氣室3、一個反射鏡4和過濾器5。
[0030]具體的說，如圖1所示，激光接收器2和激光發(fā)射器I均設(shè)置在氣室3內(nèi)，氣室3上開設(shè)有通氣孔31，過濾器5設(shè)置在氣室3的上并位于通氣孔31內(nèi)，反射鏡4能將激光發(fā)射器I發(fā)射的激光反射到激光接收器2上，激光發(fā)射器I和激光接收器2位于氣室3的一端，反射鏡4位于氣室3的另一端，因為氣室3上開設(shè)有通氣孔31，而過濾器5設(shè)置在通氣孔31內(nèi)，所以含有粉塵的工業(yè)廢氣能通過過濾器5將粉塵過濾掉，激光發(fā)射器I發(fā)射出激光，通過反射鏡4將發(fā)出的激光反射，直至將反射的激光發(fā)射到激光接收器2上，此時的反射鏡4只有一個，從而使得激光發(fā)射器I發(fā)出的光線兩次經(jīng)過工業(yè)廢氣，能在氣室3裝置更加簡單的情況下，也能保證檢測的精度，而TDLAS是將以電流按照一定頻率f調(diào)制了波長的入射激光導(dǎo)入裝有一種或多種要分析的目標氣體的測量氣室3中，并且利用氣體傳感測量裝置的光電傳感裝置檢測已通過該氣體并返回的透射激光的光功率，通過TDLAS對氣體進行檢測，能幫助更好的檢測氣體，通過激光接收器2、激光發(fā)射器1、氣室3、反射鏡4和過濾器5的配合使用，能進一步的實現(xiàn)對對高粉塵的工業(yè)廢氣進行高精度的檢測。
[0031]進一步的說，過濾器5設(shè)置在氣室3的兩側(cè)，過濾器5包括粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52，激光發(fā)射器I和激光接收器2均位于兩精濾網(wǎng)52之間，粗濾網(wǎng)51相對于精濾網(wǎng)52均遠離激光發(fā)射器I和激光接收器2，在氣室3的兩側(cè)分別設(shè)置粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52，使得具有粉塵的工業(yè)廢氣能先經(jīng)過粗濾網(wǎng)51的粗步過濾之后，再通過精濾網(wǎng)52對過濾后的工業(yè)廢氣再進行一次過濾，從而使得通過激光檢測的氣體所含的粉塵量大大降低，從而進一步的提高了檢測的精度。
[0032]更進一步的說，本氣體分析儀氣室裝置還包括密封件6，密封件6設(shè)置在氣室3內(nèi)，密封件6均與粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52的一端密封連接，密封件6與粗濾網(wǎng)51相連的一端延伸出抵靠部7，抵靠部7與氣室3的內(nèi)壁密封連接，反射鏡4能與抵靠部7相貼靠，密封件6的設(shè)置，使得粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52處于密封狀態(tài)，使得在經(jīng)過粗濾網(wǎng)51的工業(yè)廢氣，能在通過精濾網(wǎng)52過濾的過程中，不會從粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52的端部之間逸出，而密封件6與抵靠部7—體成型，且密封件6與抵靠部7呈L型，密封件6與抵靠部7的設(shè)置能進一步的簡化粗濾網(wǎng)51和精濾網(wǎng)52以及反射鏡4之間的安裝和連接，同時抵靠部7和密封件6的設(shè)置也保證了檢測的精度。
[0033]實施例二
[0034]本實施例的氣體分析儀氣室裝置與實施例一基本相同，其不同之處在于:本氣體分析儀氣室裝置中設(shè)有若干個反射鏡4，反射鏡4設(shè)置在氣室3的兩端，并能將激光發(fā)射器I發(fā)射的激光反射到激光接收器2上，反射鏡4可以為凹面鏡或者是傾斜設(shè)置的平面鏡，通過若干個反射鏡4的設(shè)置，能使得激光發(fā)射器I發(fā)射出的光線能通過反射鏡4多次反射后被激光接收器2接收，從而使得激光發(fā)射器I發(fā)出的光線多次經(jīng)過工業(yè)廢氣，從而減少了檢測的誤差，提高了檢測的精度。
[0035]本文中所描述的具體實施例僅僅是對本實用新型精神作舉例說明。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本實用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種氣體分析儀氣室裝置，包括激光接收器(2)、激光發(fā)射器(I)和氣室(3)，所述激光接收器(2)和激光發(fā)射器(I)均設(shè)置在氣室(3)內(nèi)，其特征在于，本氣體分析儀氣室裝置還包括能反射光線的反射鏡(4)和能將粉塵過濾的過濾器(5)，所述氣室(3)上開設(shè)有通氣孔(31)，所述過濾器(5)設(shè)置在氣室(3)上并位于通氣孔(31)內(nèi)，所述反射鏡(4)設(shè)置在氣室(3)內(nèi)，且反射鏡(4)能將激光發(fā)射器(I)發(fā)射的激光反射到激光接收器(2)上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分析儀氣室裝置，其特征在于，本氣體分析儀氣室裝置中設(shè)有若干個反射鏡(4)，所述反射鏡(4)設(shè)置在氣室(3)的兩端，并能將激光發(fā)射器(I)發(fā)射的激光反射到激光接收器(2)上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分析儀氣室裝置，其特征在于，本氣體分析儀氣室裝置中設(shè)有一個反射鏡(4)，所述激光發(fā)射器(I)和激光接收器(2)位于氣室(3)的一端，所述反射鏡(4)位于氣室(3)的另一端。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的氣體分析儀氣室裝置，其特征在于，所述過濾器(5)設(shè)置在氣室(3)的兩側(cè)，所述過濾器(5)包括粗濾網(wǎng)(51)和精濾網(wǎng)(52)，所述激光發(fā)射器(I)和激光接收器(2)均位于兩精濾網(wǎng)(52)之間，所述粗濾網(wǎng)(51)相對于精濾網(wǎng)(52)均遠離激光發(fā)射器(I)和激光接收器(2)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體分析儀氣室裝置，其特征在于，本氣體分析儀氣室裝置還包括密封件(6)，所述密封件(6)設(shè)置在氣室(3)內(nèi)，所述密封件(6)均與粗濾網(wǎng)(51)和精濾網(wǎng)(52)的一端密封連接。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體分析儀氣室裝置，其特征在于，所述密封件(6)與粗濾網(wǎng)(51)相連的一端延伸出抵靠部(7)，所述抵靠部(7)與氣室(3)的內(nèi)壁密封連接，所述反射鏡(4)能與抵靠部(7)相貼靠。
【文檔編號】G01N21/17GK205538639SQ201620256163
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月30日
【發(fā)明人】林康
【申請人】林康, 臺州職業(yè)技術(shù)學(xué)院