一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及樣品架制造技術領域,特指一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構。
【背景技術】
[0002]低頻內耗的測量是在低頻力學譜儀上完成的,是對豎立的一端固定、一端自由的長條試樣從自由端加一個循環(huán)的很小的應力,然后測量試樣的振幅衰減或應變滯后于應力的相角來度量內耗值的。樣品振動的幅度是靠安裝在豎擺桿上的鏡子接受到的光反射到光電池上來標定和檢測的,測量過程中每個內耗值的測量之前都需將光通過步進電機均勻調整到光電池的兩邊,而步進電機的控制光電池位置的前提是鏡子反射的光仍然在光電池的接收范圍內,但更換樣品后,豎擺桿鏡子的位置很難與光電池的位置匹配,需要人工通過一個機構來調整,為此,我們研發(fā)了一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,操作簡單,從而提高了工作效率。
【發(fā)明內容】
[0003]本發(fā)明目的是為了克服現(xiàn)有技術的不足而提供一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構。
[0004]為達到上述目的,本發(fā)明采用的技術方案是:一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,包含轉軸;所述轉軸豎直放置,其上端設置有法蘭套、主動齒輪;所述法蘭套設置在主動齒輪的下側;所述轉軸上從上到下依次設有軸承、兩組密封層和調整螺母;所述軸承、兩組密封層和調整螺母都設置在法蘭套的內部;所述軸承的上端通過法蘭套內的軸肩定位;所述調整螺母和法蘭套螺紋連接,用于固定軸承、兩組密封層;所述轉軸的下端設置有旋鈕;工作時,所述法蘭套安裝在面板上。
[0005]優(yōu)選的,所述轉軸的上端與主動齒輪通過緊定螺釘相連接,所述緊定螺釘?shù)囊话朐O置在轉軸上,另一半設置在主動齒輪上。
[0006]優(yōu)選的,所述法蘭套通過轉軸上的軸肩和主動齒輪固定在轉軸上。
[0007]優(yōu)選的,所述法蘭套和主動齒輪的連接處設置有對應的凸臺。
[0008]優(yōu)選的,所述每組密封層包括金屬隔墊和密封圈,所述金屬隔墊設置在密封圈的下方;所述密封圈的外圈和內圈分別與轉軸和法蘭套的內壁過盈配合,所述金屬隔墊的內圈和轉軸間隙配合。
[0009]優(yōu)選的,所述調整螺母表面的下端還設置有對稱的兩段平臺。
[0010]優(yōu)選的,所述轉軸與旋鈕的配合處設置有一段第一平面;所述旋鈕的表面的上端設置有螺釘,所述螺釘?shù)牡酌媾c第一平面相接觸,通過摩擦力將旋鈕固定在轉軸上。
[0011]優(yōu)選的,所述法蘭套表面的上側設置有環(huán)形凸臺,其下側設置有鎖緊螺母;所述法蘭套通過環(huán)形凸臺和鎖緊螺母固定在面板上。
[0012]優(yōu)選的,所述法蘭套和鎖緊螺母通過螺紋配合相連接。
[0013]優(yōu)選的,所述環(huán)形凸臺與面板的連接處還設置有密封墊。
[0014]由于上述技術方案的運用,本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點:
1、能通過人工操作方便地調整豎擺桿的位置,使豎擺桿鏡子反射的光照射到光電池接收的范圍;
2、設置有密封層,使樣品在真空的環(huán)境中也能操作扭轉機構測量低頻內耗。
【附圖說明】
[0015]下面結合附圖對本發(fā)明技術方案作進一步說明:
附圖1為本發(fā)明所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構的總體結構示意圖;
附圖2為本發(fā)明所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構安裝后的結構示意圖;
其中:1、轉軸;2、主動齒輪;3、法蘭套;4、旋鈕;5、鎖緊螺母;6、軸承;7、金屬隔墊;8、密封圈;9、緊定螺釘;10、調整螺母;11、螺釘;12、密封墊;13、面板;14、從動齒輪;15、豎擺桿;16、光電池;17、支架。
【具體實施方式】
[0016]下面結合附圖及具體實施例對本發(fā)明作進一步的詳細說明。
[0017]附圖1-2為本發(fā)明所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,包含轉軸I ;所述轉軸I豎直放置;所述轉軸I的上端設有法蘭套3、主動齒輪2,所述轉軸I與主動齒輪2通過緊定螺釘9相連接,所述緊定螺釘9的一半設置在轉軸I上,另一半設置在主動齒輪2上;所述法蘭套3通過轉軸I上的軸肩和主動齒輪2固定在轉軸I上,所述法蘭套3和主動齒輪2的連接處設置有對應的凸臺,減小主動齒輪2在轉動時下底面與法蘭套3的磨損;所述轉軸I上從上到下依次設有軸承6、兩組密封層和調整螺母10 ;所述軸承
6、兩組密封層和調整螺母10都設置在法蘭套3的內部;所述軸承6的上端通過法蘭套3內的軸肩定位;所述每組密封層包括金屬隔墊7和密封圈8,所述金屬隔墊7設置在密封圈8的下方;所述密封圈8的外圈和內圈分別與轉軸I和法蘭套3的內壁過盈配合,所述金屬隔墊7的內圈和轉軸I間隙配合;所述調整螺母10和法蘭套3螺紋連接,用于固定軸承、兩組密封層;所述調整螺母10表面的下端還設置有對稱的兩段平臺,方便使用工具調節(jié)密封圈8與軸身和法蘭套3的緊密度;所述轉軸I表面的上端設置有旋鈕4,所述轉軸I與旋鈕4的配合處設置有一段第一平面;所述旋鈕4的上端表面上設置有螺釘11,所述螺釘11的底面與第一平面相接觸,通過摩擦力將旋鈕4固定在轉軸I上;所述法蘭套3表面的上側設置有環(huán)形凸臺,其下側設置有鎖緊螺母5 ;所述法蘭套3和鎖緊螺母5通過螺紋配合相連接;工作時,所述法蘭套3安裝在面板13上,所述法蘭套3通過環(huán)形凸臺和鎖緊螺母5固定在面板13上,使主動齒輪2與從動齒輪14互相嚙合;所述環(huán)形凸臺與面板13的連接處還設置有密封墊12。
[0018]使用時:手動旋轉旋鈕4,通過螺釘11與轉軸I的摩擦力,使轉軸I帶動轉動主動齒輪2轉動,通過主動齒輪2帶動安裝在樣品支架17上的從動齒輪12轉動,再通過從動齒輪12帶動豎擺桿7轉動,使鏡子調整到與光電池16匹配的位置。
[0019]由于上述技術方案的運用,本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點:
1、能通過人工操作方便地調整豎擺桿的位置,使豎擺桿鏡子反射的光照射到光電池接收的范圍;
2、設置有密封層,使樣品在真空的環(huán)境中也能操作扭轉機構測量低頻內耗。
[0020]以上僅是本發(fā)明的具體應用范例,對本發(fā)明的保護范圍不構成任何限制。凡采用等同變換或者等效替換而形成的技術方案,均落在本發(fā)明權利保護范圍之內。
【主權項】
1.一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:包含轉軸;所述轉軸豎直放置,其上端設置有法蘭套、主動齒輪;所述法蘭套設置在主動齒輪的下側;所述轉軸上從上到下依次設有軸承、兩組密封層和調整螺母;所述軸承、兩組密封層和調整螺母都設置在法蘭套的內部;所述軸承的上端通過法蘭套內的軸肩定位;所述調整螺母和法蘭套螺紋連接,用于固定軸承、兩組密封層;所述轉軸的下端設置有旋鈕;工作時,所述法蘭套安裝在面板上。
2.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述轉軸的上端與主動齒輪通過緊定螺釘相連接,所述緊定螺釘?shù)囊话朐O置在轉軸上,另一半設置在主動齒輪上。
3.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述法蘭套通過轉軸上的軸肩和主動齒輪固定在轉軸上。
4.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述法蘭套和主動齒輪的連接處設置有對應的凸臺。
5.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述每組密封層包括金屬隔墊和密封圈,所述金屬隔墊設置在密封圈的下方;所述密封圈的外圈和內圈分別與轉軸和法蘭套的內壁過盈配合,所述金屬隔墊的內圈和轉軸間隙配合。
6.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述調整螺母表面的下端還設置有對稱的兩段平臺。
7.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述轉軸與旋鈕的配合處設置有一段第一平面;所述旋鈕的表面的上端設置有螺釘,所述螺釘?shù)牡酌媾c第一平面相接觸,通過摩擦力將旋鈕固定在轉軸上。
8.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述法蘭套表面的上側設置有環(huán)形凸臺,其下側設置有鎖緊螺母;所述法蘭套通過環(huán)形凸臺和鎖緊螺母固定在面板上。
9.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述法蘭套和鎖緊螺母通過螺紋配合相連接。
10.根據(jù)權利要求1所述的適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,其特征在于:所述環(huán)形凸臺與面板的連接處還設置有密封墊。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種適用于低頻力學譜儀用的調整樣品位置的扭轉機構,包含轉軸;所述轉軸豎直放置,其上端設置有法蘭套、主動齒輪;所述法蘭套設置在主動齒輪的下側;所述轉軸上從上到下依次設有軸承、兩組密封層和調整螺母;所述軸承、兩組密封層和調整螺母都設置在法蘭套的內部;所述軸承的上端通過法蘭套內的軸肩定位;所述調整螺母和法蘭套螺紋連接,用于固定軸承、兩組密封層;所述轉軸的下端設置有旋鈕;工作時,所述法蘭套安裝在面板上;本發(fā)明能通過人工操作方便地調整樣品的位置,提高了工作效率。
【IPC分類】G01N19-00
【公開號】CN104614311
【申請?zhí)枴緾N201510015623
【發(fā)明人】周正存, 杜潔, 胡星星, 嚴勇健, 顧蘇怡
【申請人】蘇州市職業(yè)大學
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2015年1月13日