一種用于測量漿液密度的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，包括低壓測量開孔1、高壓測量開孔2、連接短管3、隔膜閥4以及壓差變送器5，通過將壓差變送器直接安裝于吸收塔塔壁固定位置利用壓差法測量吸收塔漿液密度，能夠保證吸收塔漿液測量質(zhì)量，提高了耐磨程度和防堵塞程度，延長了使用壽命，同時縮減經(jīng)濟投資。
【專利說明】 一種用于測量漿液密度的裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及用于測量漿液密度的裝置，特別涉及用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在石灰石-石膏法脫硫技術(shù)中，對于石膏漿液密度的測量有著非常重要的意義。石膏漿液密度對于晶體生成、增長以及吸收塔結(jié)垢預(yù)防有著很大的作用，它也直接影響著石膏真空皮帶脫水機的運行方式以及石膏的品質(zhì)和脫水效果的好壞，因此必須使用穩(wěn)定可靠的方法檢測漿液密度保證脫硫系統(tǒng)穩(wěn)定運行。對于石膏漿液密度測量儀器的選型應(yīng)充分考慮漿液的腐蝕性、磨損性、固體顆粒的沉積、結(jié)垢等，同時也要考慮其經(jīng)濟和可靠性。
[0003]目前大多數(shù)脫硫公司對吸收塔漿液密度的測量采用的方式是在石膏漿液排出泵出口設(shè)置在線式密度計，即科氏力密度計，但其設(shè)備費用高，測量管路磨損嚴(yán)重，調(diào)試及運行期間維護頻率高，更換備品頻繁，維護成本高。
[0004]現(xiàn)有報道中還公開了一種測量脫硫吸收塔漿液密度的裝置，通常包括吸收塔，壓差變送器和吸收塔塔壁上的兩個取樣孔，其中差壓變送器通過高壓側(cè)毛細(xì)管和低壓側(cè)毛細(xì)管分別接到取樣管段上，根據(jù)公式P I = (AP+p2gh)/(gh)計算得出吸收塔漿液密度。然而，現(xiàn)有報道的裝置和方法由于采用毛細(xì)管與壓差計連接，容易引起堵塞并降低使用壽命，并且沒有對各部件的位置參數(shù)進行優(yōu)化的報道，可能導(dǎo)致測量結(jié)果的誤差。
[0005]為克服以上不足，本實用新型提供一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實用新型通過將壓差變送器直接安裝于吸收塔塔壁固定位置，并利用壓差法測量吸收塔漿液密度，能夠保證吸收塔漿液測量質(zhì)量，提高了耐磨程度和防堵塞程度，延長了使用壽命，同時降低成本，縮減經(jīng)濟投資。
[0007]本實用新型提供了一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，包括低壓測量開孔1、高壓測量開孔2、連接短管3、隔膜閥4以及壓差變送器5，所述的連接短管3 —端通過法蘭分別與高壓測量開孔或低壓測量開孔連接，另一端連接隔膜閥4，所述的壓差變送器5的一個接口與設(shè)置在低壓測量開孔處I的隔膜閥通過法蘭直接連接，另一個接口引出測壓毛細(xì)管6連接到設(shè)置在高壓測量開孔2的隔膜閥上。
[0008]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，所述的高壓測量開孔2距離吸收塔塔底距離大于0.5m，優(yōu)選為0.7m。其原因為吸收塔塔底的石膏漿液在長時間下會發(fā)生沉積，在側(cè)進式攪拌器的攪拌下，吸收塔底部的石膏漿液會形成弧狀沉淀在塔底，在塔壁上會積累一定的高度，所以，高壓測量開孔的位置要高于塔壁沉積石膏的高度。
[0009]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，所述高壓測量開孔2和所述低壓測量開孔I的高度差h2為1.5?3.5m,優(yōu)選為2.7m。
[0010]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，所述連接短管3優(yōu)選向上傾斜與吸收塔壁α為30-60°設(shè)置，優(yōu)選為45°設(shè)置，并且連接短管的伸出長度d為100-200mm，優(yōu)選為150mm。其中安裝角度選擇45°時防止?jié){液在管道中結(jié)垢，可不用安裝沖洗管道，減少設(shè)備的復(fù)雜化。
[0011]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，與低壓測量開孔I或高壓測量開孔2分別連接的兩條連接短管3相互平行且長度相同。優(yōu)選的，本實用新型中所述低壓測量開孔(I)或高壓測量開孔(2)與所述連接短管(3)的內(nèi)徑均相等。
[0012]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，本實用新型所述的法蘭為螺紋法蘭、焊接法蘭或卡夾法蘭中的一種。
[0013]在本實用新型一個優(yōu)選的實施方案中，所述低壓測量開孔I距離吸收塔內(nèi)漿液最低液位距離h3為3?5m。
[0014]本實用新型所述的用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置在測量時是通過伯努利方程原理來測量漿液的密度，其原理方程是如下:
[0015]P1+ P g (Ii^h2) = P2+ P ghi
[0016]P2-P1 = Pg(Ii^h2)-Pgh1
[0017]Δ P = P gh2
AP P2 -P,
[0018]P = — = ~~
gh2 gh2
[0019]公式中:AP= P2-Pi
[0020]P1:低壓測量開孔測量的壓力
[0021]P2:高壓測量開孔測量的壓力
[0022]ΛΡ:壓力P2與壓力P1之間的壓差
[0023]g:重力常數(shù)
[0024]P:吸收塔漿液密度。
[0025]h1:高壓測量開孔塔底的距離
[0026]h2:高壓測量開孔和低壓測量開孔的高度差
[0027]由于吸收塔漿液的密度從整體而言在特定時必然是定值，盡管由于吸收塔的結(jié)構(gòu)特征所限，吸收塔漿液的不同層以及同一層的不同部位所反映出的密度值是有差異的，但是石膏漿液排出泵入口附近的密度即可以認(rèn)為是吸收塔石膏漿液的密度，因而密度取樣孔也設(shè)計在石膏漿液排出泵出口母管上。
[0028]本實用新型采用壓差變送器來測量吸收塔石膏漿液密度，一是盡可能測量石膏漿液排出泵吸入口高度附近一定液段的吸收塔石膏漿液密度，以使這個測量值更接近石膏漿液排出泵出口密度測量值；二是盡可能使壓差變送器測量吸收塔石膏漿液密度的測量值變化量較為穩(wěn)定，亦即保證一定的差壓測量高度，這樣即便通過差壓法測量出的密度值與實測密度值有一定偏差，也可通過修正來保證密度測量值的偏差在可控范圍內(nèi)。
[0029]本實用新型所述裝置通過將壓差變送器直接安裝于吸收塔塔壁固定位置，保證對吸收塔漿液密度監(jiān)視和控制，并且測量方法簡單，能夠減少維修時間和成本，達(dá)到對吸收塔內(nèi)的漿液密度精確的測量。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]圖1為本實用新型所述的用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖中:1_低壓測量開孔；2_高壓測量開孔；3_連接短管；4_隔膜閥；5_壓差變送器；
[0032]6-測壓毛細(xì)管；8_吸收塔
[0033]h1-高壓測量開孔和塔底的距離；
[0034]h2-高壓測量開孔和低壓測量開孔的高度差；
[0035]h3-低壓測量開孔距離吸收塔內(nèi)漿液最低液位距離

【具體實施方式】
[0036]如附圖1所示的用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，包括低壓測量開孔1、高壓測量開孔2、連接短管3、隔膜閥4、壓差變送器5以及測壓毛細(xì)管6，所述低壓測量開孔I上通過法蘭連接有連接短管3，連接短管3的另一端與隔膜閥4連接，所述高壓測量開孔2上也通過法蘭連接有連接短管3，連接短管3的另一端與隔膜閥4連接。分別連接在低壓測量開孔I和高壓測量開孔2上的兩個連接短管3向上傾斜與吸收塔壁呈45°，所述連接短管3的伸出長度d為150_。所述壓差變送器5的一個接口與設(shè)置在低壓測量開孔I處的隔膜閥4通過法蘭直接連接，另一個接口通過測壓毛細(xì)管6連接到設(shè)置在高壓測量開孔2處的隔膜閥4上。高壓測量開孔2與吸收塔塔底距離大于0.5m,高壓測量開孔2和所述低壓測量開孔I的高度差h2為1.5?3.5m，優(yōu)選為2.7m，低壓測量開孔I距離吸收塔內(nèi)漿液最低液位距離h3為3?5m。
[0037]測量時，連通低壓測量開孔1、高壓測量開孔2，經(jīng)過壓差變送器5測量得到高壓測量開孔測量的壓力P2與低壓測量開孔測量的壓力P1之間的壓差ΛΡ，帶入公式Pl=AP/(gh2)中，計算得到吸收塔內(nèi)石膏漿液密度。
【權(quán)利要求】
1.一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，包括低壓測量開孔(I)、高壓測量開孔(2)、連接短管(3)、隔膜閥(4)、壓差變送器(5)以及測壓毛細(xì)管￠)，所述連接短管(3)的一端通過法蘭分別與低壓測量開孔(I)或高壓測量開孔(2)連接，另一端連接有隔膜閥(4)，其特征在于，所述壓差變送器(5)的一個接口與設(shè)置在低壓測量開孔(I)處連接短管(3)的隔膜閥通過法蘭直接連接，另一個接口通過測壓毛細(xì)管(6)連接到設(shè)置在高壓測量開孔(2)處連接短管(3)的隔膜閥上，所述高壓測量開孔(2)和所述低壓測量開孔(I)的高度差為1.5-3.5m，所述連接短管(3)向上傾斜與吸收塔壁呈30-60°并且連接短管(3)伸出吸收塔的長度為100-200mm。
2.權(quán)利要求1所述的一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，其特征在于，所述高壓測量開孔(2)與吸收塔塔底的距離為0.7m。
3.權(quán)利要求1所述的一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，其特征在于，所述高壓測量開孔(2)和所述低壓測量開孔(I)的高度差為2.7m;并且，所述連接短管(3)向上傾斜與吸收塔壁呈45°并且連接短管的伸出長度為150mm。
4.權(quán)利要求1-3任意一項所述的一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，其特征在于，所述低壓測量開孔(I)與吸收塔內(nèi)漿液最低液位距離為3?5m。
5.權(quán)利要求4所述的一種用于測量吸收塔內(nèi)石膏漿液密度的裝置，其特征在于，與低壓測量開孔(I)或高壓測量開孔(2)分別連接的兩條連接短管(3)相互平行且長度相同；并且，所述低壓測量開孔⑴或高壓測量開孔⑵與所述連接短管⑶的內(nèi)徑均相等。
【文檔編號】G01N9/26GK203981533SQ201420410617
【公開日】2014年12月3日 申請日期:2014年7月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月24日
【發(fā)明者】魏月廣, 楊寶成, 關(guān)蕾 申請人:北京峰業(yè)電力環(huán)保工程有限公司