專(zhuān)利名稱(chēng)：一種分子泵拖動(dòng)盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種分子泵拖動(dòng)盤(pán)。具體地說(shuō)是一種加工工藝簡(jiǎn)單的分子泵拖動(dòng)
背景技術(shù)：
復(fù)合分子泵的拖動(dòng)級(jí)主要有螺旋形和盤(pán)形兩種。其中盤(pán)形拖動(dòng)級(jí)主要由高速旋轉(zhuǎn) 的平板圓盤(pán)和在盤(pán)面上開(kāi)有溝槽的靜止圓盤(pán)構(gòu)成。工作時(shí)，氣體分子被旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)帶動(dòng)產(chǎn)生 一定的圓周速度，同時(shí)沿著拖動(dòng)盤(pán)溝槽走向產(chǎn)生徑向的速度分量，以實(shí)現(xiàn)抽氣。目前，市場(chǎng) 上的拖動(dòng)盤(pán)上開(kāi)的溝槽基本都是等薄筋槽，即去溝槽之后剩下的厚度相等。如中國(guó)專(zhuān)利文 獻(xiàn)CN87208695提出了一種可用于盤(pán)形分子泵的抽氣圓盤(pán)，該實(shí)用新型的抽氣圓盤(pán)的一側(cè) 或兩側(cè)面上開(kāi)有沿圓周均勻分布呈放射狀的圓弧線形抽氣溝槽或直線溝槽，即抽氣溝槽槽 壁的線形為圓弧線形或直線形，其中抽氣溝槽槽壁為等寬的圓弧線形薄壁，溝槽為非等寬 的圓弧形溝槽。由于該實(shí)用新型的溝槽槽壁為薄壁，使得槽壁的剛度小，加工時(shí)去除量大， 不可以使用較大的進(jìn)給量，從而導(dǎo)致加工效率低，而溝槽為非等寬的圓弧形溝槽，溝槽形狀 較復(fù)雜，加工時(shí)需要進(jìn)行多次銑削走刀，費(fèi)時(shí)費(fèi)錢(qián)。

實(shí)用新型內(nèi)容為此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于現(xiàn)有技術(shù)中分子泵拖動(dòng)盤(pán)加工工藝復(fù) 雜的問(wèn)題，提供一種加工工藝簡(jiǎn)單的分子泵拖動(dòng)盤(pán)。 為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的一種分子泵拖動(dòng)盤(pán)，包括盤(pán)體以及呈放射狀 設(shè)置在所述盤(pán)體上的溝槽，所述溝槽為等寬溝槽。 上述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，所述盤(pán)體上靠近所述盤(pán)體外緣處還設(shè)有與所述盤(pán)體同心的 環(huán)形槽，且所述環(huán)形槽與所述等寬溝槽末端相通。 上述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，所述等寬溝槽左右兩側(cè)壁所在的兩條圓弧曲線由兩條半徑
不同的同心圓弧構(gòu)成，所述同心圓的圓心落在以所述盤(pán)體的圓心為圓心的一個(gè)圓周上。 上述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，所述等寬溝槽與所述環(huán)形槽的槽深相等。 上述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，所述等寬溝槽在所述盤(pán)體上呈放射狀周向均勻分布。 上述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，所述盤(pán)體的一側(cè)或兩側(cè)側(cè)面上開(kāi)有所述等寬溝槽。 本實(shí)用新型的的上述技術(shù)方案相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)，1、本實(shí)用新型將溝槽
設(shè)為等寬溝槽，使得槽形變得簡(jiǎn)單，加工起來(lái)簡(jiǎn)單方便，減少銑削走刀次數(shù)，而且所述盤(pán)體
上加工完等寬溝槽后殘留的槽壁較寬，特別是槽壁靠近所述盤(pán)體外周的一端，槽壁寬槽壁
的剛度就好，加工時(shí)可以使用加大的進(jìn)給量，從而提高了加工效率。2、盤(pán)體上靠近盤(pán)體外圓
周處還設(shè)有與盤(pán)體同心的環(huán)形槽，且環(huán)形槽與等寬溝槽末端相通，由于等寬溝槽是采用銑
削而成，而環(huán)形槽卻可以用車(chē)削，由于在加工過(guò)程中，銑削比車(chē)削費(fèi)時(shí)，加工成本高，故在等
寬溝槽末端設(shè)一環(huán)形槽來(lái)取代等寬溝槽末端的一段，這樣可以進(jìn)一步減少銑削量，提高加
工效率。
為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施
例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，其中 圖1是本實(shí)用新型的分子泵拖動(dòng)盤(pán)的加工去除量示意圖； 圖2是本實(shí)用新型的分子泵拖動(dòng)盤(pán)的正視圖； 圖3是本實(shí)用新型的分子泵拖動(dòng)盤(pán)的剖視圖。 圖中附圖標(biāo)記表示為l-盤(pán)體、2-等寬溝槽、3-槽壁、4-環(huán)形槽、5-盤(pán)體外緣。
具體實(shí)施方式
如圖1至圖3所示，本實(shí)施例的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，包括盤(pán)體1以及呈放射狀設(shè)置在盤(pán) 體1上的溝槽，為了使拖動(dòng)盤(pán)的加工簡(jiǎn)單，減少銑削走刀次數(shù)，所述溝槽設(shè)為等寬溝槽2。所 述等寬溝槽2在所述盤(pán)體1上呈放射狀周向均勻分布。由于溝槽為等寬溝槽2，因此，所述 盤(pán)體1上加工完等寬溝槽2后殘留的槽壁3較寬，特別是槽壁3靠近所述盤(pán)體1外周的一 端，槽壁3寬剛度好，加工時(shí)可以使用加大的進(jìn)給量，從而提高了加工效率。所述盤(pán)體1上 靠近所述盤(pán)體外緣5處還設(shè)有與所述盤(pán)體1同心的環(huán)形槽4，且所述環(huán)形槽4與所述等寬 溝槽2末端相通。由于等寬溝槽2是采用銑削而成，而環(huán)形槽4卻可以用車(chē)削，在加工過(guò)程 中，銑削比車(chē)削費(fèi)時(shí)，加工成本高，故在等寬溝槽2末端設(shè)一環(huán)形槽4來(lái)取代等寬溝槽2末 端的一段，這樣可以進(jìn)一步減少銑削量，提高加工效率。所述等寬溝槽2左右兩側(cè)壁所在的 兩條圓弧曲線由兩條半徑不同的同心圓弧構(gòu)成，所述同心圓的圓心落在與所述盤(pán)體1同圓 心的一個(gè)圓周上。所述等寬溝槽2與所述環(huán)形槽4的槽深相等，槽深按分子泵的設(shè)計(jì)參數(shù) 而定，但不能穿透盤(pán)體1。所述盤(pán)體1的一側(cè)側(cè)面上設(shè)有所述等寬溝槽2。 其它實(shí)施例中，所述盤(pán)體1的兩側(cè)側(cè)面上設(shè)有所述等寬溝槽2。 顯然，上述實(shí)施例僅僅是為清楚地說(shuō)明所作的舉例，而并非對(duì)實(shí)施方式的限定。對(duì) 于所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在上述說(shuō)明的基礎(chǔ)上還可以做出其它不同形式的變化或 變動(dòng)。這里無(wú)需也無(wú)法對(duì)所有的實(shí)施方式予以窮舉。而由此所引伸出的顯而易見(jiàn)的變化或 變動(dòng)仍處于本實(shí)用新型創(chuàng)造的保護(hù)范圍之中。
權(quán)利要求一種分子泵拖動(dòng)盤(pán)，包括盤(pán)體(1)以及呈放射狀設(shè)置在所述盤(pán)體(1)上的溝槽，其特征在于所述溝槽為等寬溝槽(2)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，其特征在于所述盤(pán)體(1)上靠近所述盤(pán)體外緣(5)處還設(shè)有與所述盤(pán)體(1)同心的環(huán)形槽(4)，且所述環(huán)形槽(4)與所述等寬溝槽 (2)末端相通。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，其特征在于所述等寬溝槽(2)左右兩側(cè)壁所在的兩條圓弧曲線由兩條半徑不同的同心圓弧構(gòu)成，所述同心圓的圓心落在以所述盤(pán)體 (1)的圓心為圓心的一個(gè)圓周上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，其特征在于所述等寬溝槽(2)與所述環(huán)形 槽(4)的槽深相等。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，其特征在于所述等寬溝槽(2)在所述盤(pán)體(1)上呈放射狀周向均勻分布。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，其特征在于所述盤(pán)體(1)的一側(cè)或兩側(cè)側(cè)面上設(shè)有所述等寬溝槽(2)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型的分子泵拖動(dòng)盤(pán)，包括盤(pán)體(1)以及呈放射狀設(shè)置在所述盤(pán)體(1)上的溝槽，所述溝槽為等寬溝槽(2)。該實(shí)用新型的分子泵拖動(dòng)盤(pán)加工工藝簡(jiǎn)單。
文檔編號(hào)F04D19/04GK201461510SQ20092010939
公開(kāi)日2010年5月12日 申請(qǐng)日期2009年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月29日
發(fā)明者李明月, 鄒蒙 申請(qǐng)人:北京中科科儀技術(shù)發(fā)展有限責(zé)任公司