一種廢氣處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于廢氣處理領(lǐng)域，尤其涉及一種廢氣處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，周知，在半導(dǎo)體晶圓廠、光電廠、面板廠、太陽能廠于產(chǎn)制例如是晶圓或是各式面板等產(chǎn)品的過程中，有時(shí)會生成有害的廢氣。例如:以半導(dǎo)體晶圓廠來說，其制作過程中所生成的有害廢氣包含有單硅烷(SiH4)、氯氣(C12)、PFC(全氟化合物(perf Iuoro-compounds))等，在處理含有上述氣體的廢氣時(shí)，一般是使用濕式法、吸附法、加熱分解法及燃燒法等4種方法。
[0003]其中，加熱分解法是指在廢氣處理槽內(nèi)設(shè)置加熱器，而加熱器在廢氣處理槽內(nèi)形成一加熱腔室，當(dāng)有害廢氣進(jìn)入廢氣處理槽內(nèi)到達(dá)加熱腔室時(shí)，通過加熱器以熱輻射的方式加熱有害廢氣，迫使有害廢氣中所含有害物質(zhì)接受高溫催化，而分解成無害物質(zhì);而濕式法是指使有害廢氣通過設(shè)置有多個(gè)灑水器的水洗室，憑借灑水器所噴灑的水幕與有害廢氣接觸，將有害廢氣中所含可溶于水的有害物質(zhì)加以溶解，以達(dá)到凈化有害廢氣的效果;至于燃燒法是指利用火焰燃燒有害廢氣，以達(dá)到凈化有害廢氣的效果，由于用來提供火焰燃燒的燃?xì)馐菍⒓淄?CH4)、乙烷(C2H6)、丙烷(C3H8)等燃料和空氣以既定比例混合而成，其中甲烷燃燒后會產(chǎn)生例如是一氧化碳(CO)等有害氣體，造成二次污染。因此，目前在以環(huán)保為前提而采取的半導(dǎo)體制作過程廢氣處理方式，是利用加熱分解法搭配濕式法，來達(dá)到凈化廢氣的效果。然而，由于傳統(tǒng)的廢氣處理裝置內(nèi)缺乏延滯有害廢氣通過時(shí)間的設(shè)計(jì)，迫使有害廢氣在通過廢氣處理槽內(nèi)接受加熱的時(shí)間較為短暫，導(dǎo)致在以加熱分解法凈化有害廢氣時(shí)，由于有害廢氣接受加熱時(shí)間的不足，導(dǎo)致有害廢氣中的有害物質(zhì)難以完全催化，進(jìn)而影響到有害廢氣的凈化效率，因此，如何能延滯有害廢氣在廢氣處理槽內(nèi)接受加熱的時(shí)間，進(jìn)而提升有害廢氣的凈化效率，已成為熟悉本技術(shù)領(lǐng)域人士所應(yīng)面對的待以改善的重要課題。
[0004]廢氣中含有大量的有害的細(xì)菌病毒和有機(jī)物氣體，同時(shí)這些物質(zhì)散發(fā)出惡臭，是造成空氣污染的一個(gè)重要因素，特別是垃圾處理站的廢氣更是這樣?，F(xiàn)有的廢氣處理系統(tǒng)一般是加藥品消毒或?qū)U氣燃燒處理，廢氣燃燒處理容易產(chǎn)生劇毒的二惡英氣體且無法降解，這樣容易造成二次污染，使用時(shí)投加藥品或燃料也需要大量的資金投入，運(yùn)行成本高。因此需要一種能有效處理廢氣、不產(chǎn)生二次污染的廢氣處理裝置。
[0005]廢氣處理在工業(yè)生產(chǎn)中尤為重要?，F(xiàn)有的廢氣處理設(shè)備一般是對廢氣進(jìn)行過濾除塵處理。廢氣的過濾處理很難將廢氣中的顆粒完全清除，最后排放出的氣體仍然對空氣造環(huán)境污染。
[0006]在高濃度難處理的廢氣治理過程中，目前傳統(tǒng)的處理方法往往造成處理效果不佳或投入大收效不夠理想的困局，給企業(yè)和社會發(fā)展帶來很多不利。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]本實(shí)用新型為解決高濃度難處理的廢氣治理中，目前傳統(tǒng)的處理方法處理效果不佳或投入大收效不理想，給企業(yè)和社會發(fā)展帶來很多不利的問題而提供一種廢氣處理裝置。
[0008]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:
[0009]一種廢氣處理裝置，包括第一收集腔、低溫等離子處理腔、第二收集腔和高頻高壓電源;所述的第一收集腔設(shè)置在廢氣處理裝置的下部，所述的低溫等離子處理腔連接在第一收集腔上部，所述的第二收集腔連接在低溫等離子處理腔上部，所述的高頻高壓電源連接在低溫等離子處理腔一側(cè)；
[0010]所述的第一收集腔底部設(shè)置有廢氣入口，所述的第二收集腔上部設(shè)置有達(dá)標(biāo)排放P；
[0011 ]所述的低溫等離子處理腔包括外電極構(gòu)件、內(nèi)電極構(gòu)件和低溫等離子反應(yīng)腔;所述外電極構(gòu)件包括外電極外殼、夕卜電極和外電極內(nèi)殼;所述外電極外殼和外電極內(nèi)殼的上下端均密封，所述厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極固定在外電極內(nèi)殼上；
[0012]所述內(nèi)電極構(gòu)件包括內(nèi)電極外殼和內(nèi)電極，所述使用絕緣陶瓷的內(nèi)電極外殼燒結(jié)在內(nèi)電極上并密封內(nèi)電極兩端。
[0013]所述低溫等離子反應(yīng)腔設(shè)置在外電極內(nèi)殼和內(nèi)電極外殼之間。
[0014]進(jìn)一步，所述厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極螺旋狀纏繞固定在外電極內(nèi)殼上。
[0015]進(jìn)一步，所述內(nèi)電極由Φ8mm不銹鋼棍構(gòu)成。
[0016]進(jìn)一步，所述低溫等離子處理腔設(shè)置有多組并相互并聯(lián)與第一收集腔、第二收集腔和高頻高壓電源連接。
[0017]進(jìn)一步，所述低溫等離子處理腔內(nèi)的外電極和內(nèi)電極與高頻高壓電源連接。
[0018]進(jìn)一步，所述的外電極內(nèi)殼下端與第一收集腔連接，上端與第二收集腔連接。
[0019]進(jìn)一步，所述外電極內(nèi)、外殼之間充滿絕緣降溫液，防止外電極氧化發(fā)熱燃燒等情況的發(fā)生影響正常使用；
[0020]本實(shí)用新型采用內(nèi)、外電極之間通上高頻達(dá)5萬HZ、高壓達(dá)2萬伏特、每個(gè)反應(yīng)腔功率I千瓦電源后，會在兩電極間產(chǎn)生低溫等離子體;通過產(chǎn)生的低溫等離子體把廢氣中有機(jī)物分子鏈給打碎分解，使有機(jī)物降解，隨著在電場內(nèi)停留時(shí)間的延長直至有機(jī)物完全降解，經(jīng)處理后的廢氣符合現(xiàn)有的國家排放標(biāo)準(zhǔn)要求，效果明顯，費(fèi)用少。
【附圖說明】
[0021 ]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的廢氣處理裝置的低溫等離子處理腔結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖中:1、第一收集腔；1-1、廢氣入口； 2、低溫等離子處理腔;2-1、外電極外殼;2_2、內(nèi)電極;2-3、外電極;2-4、外電極內(nèi)殼;2-5、低溫等離子反應(yīng)腔;2-6、內(nèi)電極外殼;3、第二過濾腔;3-1、達(dá)標(biāo)排放口；4、高頻高壓電源;5、絕緣降溫液。
【具體實(shí)施方式】
[0024]為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的
【發(fā)明內(nèi)容】
、特點(diǎn)及功效，茲例舉以下實(shí)施例，并配合附圖詳細(xì)說明如下。
[0025]如圖1和圖2:—種廢氣處理裝置，包括第一收集腔1、低溫等離子處理腔2、第二收集腔3和高頻高壓電源4;所述的第一收集腔I設(shè)置在廢氣處理裝置的下部，所述的低溫等離子處理腔2連接在第一收集腔I上部，所述的第二收集腔3連接在低溫等離子處理腔2上部，所述的高頻高壓電源4連接在低溫等離子處理腔2—側(cè)；
[0026]所述的第一收集腔I底部設(shè)置有廢氣入口1-1，所述的第二收集腔3上部設(shè)置有達(dá)標(biāo)排放口 3-1;
[0027]所述的低溫等離子處理腔2包括外電極構(gòu)件、內(nèi)電極構(gòu)件和低溫等離子反應(yīng)腔2-5;所述外電極構(gòu)件包括外電極外殼2-1、外電極2-3和外電極內(nèi)殼2-4;所述外電極外殼和外電極內(nèi)殼的上下端均密封，所述厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極固定在外電極內(nèi)殼上；
[0028]所述內(nèi)電極構(gòu)件包括內(nèi)電極外殼2-6和內(nèi)電極2-2，所述使用絕緣陶瓷的內(nèi)電極外殼燒結(jié)在內(nèi)電極上并密封內(nèi)電極兩端。
[0029]所述低溫等離子反應(yīng)腔設(shè)置在外電極內(nèi)殼和內(nèi)電極外殼之間。
[0030]所述厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極螺旋狀纏繞固定在外電極內(nèi)殼上。
[0031]所述內(nèi)電極由Φ8mm不銹鋼棍構(gòu)成。
[0032]所述低溫等離子處理腔設(shè)置有多組并相互并聯(lián)與第一收集腔、第二收集腔和高頻高壓電源連接。
[0033]所述低溫等離子處理腔內(nèi)的外電極和內(nèi)電極與高頻高壓電源連接。
[0034]所述的外電極內(nèi)殼下端與第一收集腔連接，上端與第二收集腔連接。
[0035]所述外電極內(nèi)、外殼之間充滿絕緣降溫液5，防止外電極氧化發(fā)熱燃燒等情況的發(fā)生影響正常使用。
[0036]工作原理:
[0037]本實(shí)用新型采用內(nèi)、外電極之間通上高頻達(dá)5萬HZ、高壓達(dá)2萬伏特、每個(gè)反應(yīng)腔功率I千瓦電源后，會在兩電極間產(chǎn)生低溫等離子體;待處理的廢氣從廢氣入口進(jìn)入第一收集腔，然后送入低溫等離子處理腔，采用低溫等離子體把廢氣中有機(jī)物分子鏈給打碎分解，通過產(chǎn)生的低溫等離子體把廢氣中有機(jī)物分子鏈給打碎分解，使有機(jī)物降解，隨著在電場內(nèi)停留時(shí)間的延長直至有機(jī)物完全降解，處理后的廢氣進(jìn)入第二收集腔，由于低溫等離子體在反應(yīng)過程中會釋放出大量的臭氧和熱量，需要在第二收集腔內(nèi)進(jìn)一步反應(yīng)以提高處理效果，最后從達(dá)標(biāo)排放口排出，經(jīng)處理后的廢氣符合現(xiàn)有的國家排放標(biāo)準(zhǔn)要求，效果明顯，費(fèi)用少。
[0038]以上所述僅是對本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對本實(shí)用新型作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改，等同變化與修飾，均屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種廢氣處理裝置，其特征在于，該廢氣處理裝置包括第一收集腔、低溫等離子處理腔、第二收集腔和高頻高壓電源;所述的第一收集腔設(shè)置在廢氣處理裝置的下部，所述的低溫等離子處理腔連接在第一收集腔上部，所述的第二收集腔連接在低溫等離子處理腔上部，所述的高頻高壓電源連接在低溫等離子處理腔一側(cè)； 所述的第一收集腔底部設(shè)置有廢氣入口，所述的第二收集腔上部設(shè)置有達(dá)標(biāo)排放口 ； 所述的低溫等離子處理腔包括外電極構(gòu)件、內(nèi)電極構(gòu)件和低溫等離子反應(yīng)腔;所述外電極構(gòu)件包括外電極外殼、外電極和外電極內(nèi)殼;所述外電極外殼和外電極內(nèi)殼的上下端均密封，厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極固定在外電極內(nèi)殼上； 所述內(nèi)電極構(gòu)件包括內(nèi)電極外殼和內(nèi)電極，使用絕緣陶瓷的內(nèi)電極外殼燒結(jié)在內(nèi)電極上并密封內(nèi)電極兩端； 所述低溫等離子反應(yīng)腔設(shè)置在外電極內(nèi)殼和內(nèi)電極外殼之間。2.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述厚度為0.15mm不銹鋼薄片的外電極螺旋狀纏繞固定在外電極內(nèi)殼上。3.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述內(nèi)電極由Φ8_不銹鋼棍構(gòu)成。4.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述低溫等離子處理腔設(shè)置有多組并相互并聯(lián)與第一收集腔、第二收集腔和高頻高壓電源連接。5.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述低溫等離子處理腔內(nèi)的外電極和內(nèi)電極與高頻高壓電源連接。6.如權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述的外電極內(nèi)殼下端與第一收集腔連接，上端與第二收集腔連接。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種廢氣處理裝置，包括第一收集腔、低溫等離子處理腔、第二收集腔和高頻高壓電源；所述的第一收集腔設(shè)置在廢氣處理裝置的下部，所述的低溫等離子處理腔連接在第一收集腔上部，所述的第二收集腔連接在低溫等離子處理腔上部，所述的高頻高壓電源連接在低溫等離子處理腔一側(cè)。本實(shí)用新型采用內(nèi)、外電極之間通上高頻達(dá)5萬HZ、高壓達(dá)2萬伏特、每個(gè)反應(yīng)腔功率1千瓦電源后，會在兩電極間產(chǎn)生低溫等離子體；通過產(chǎn)生的低溫等離子體把廢氣中有機(jī)物分子鏈給打碎分解，使有機(jī)物降解，隨著在電場內(nèi)停留時(shí)間的延長直至有機(jī)物完全降解，經(jīng)處理后的廢氣符合現(xiàn)有的國家排放標(biāo)準(zhǔn)要求，效果明顯，費(fèi)用少。
【IPC分類】B01D53/32
【公開號】CN205361006
【申請?zhí)枴緾N201521031123
【發(fā)明人】孫碩
【申請人】孫碩
【公開日】2016年7月6日
【申請日】2015年12月14日