一種l型涂布設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及涂布設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種L型涂布設(shè)備臺(tái)。
【背景技術(shù)】
[0002]涂布機(jī)包括施涂(S卩上料)與計(jì)量系統(tǒng)、干燥系統(tǒng)和完成系統(tǒng)。施涂與計(jì)量系統(tǒng)，稱之為涂布頭，又稱涂布器，是涂布機(jī)的心臟，涂布紙的質(zhì)量主要由這里決定。涂布機(jī)的名稱一般以涂布頭的特征(如計(jì)量方法)而命名的。涂布設(shè)備的改進(jìn)主要是指涂布頭的改進(jìn)。涂布機(jī)種類繁多，目前廣泛應(yīng)用的涂布機(jī)機(jī)型有氣刀式、擠壓輥式、刮刀式、刮棒式等。
[0003]但是對(duì)于薄膜的涂層處理，這種涂布機(jī)一般使用不了，不能保證薄膜表面達(dá)因值，膠面在薄膜上面的附著力小，不能同時(shí)滿足低流平的涂布材料和高流平的涂布材料。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]針對(duì)以上問題，本實(shí)用新型提供了一種L型涂布設(shè)備，保證薄膜表面達(dá)因值夠高，增加膠面在薄膜上面的附著力，機(jī)架上端設(shè)置有一對(duì)用于放卷裝置放布通過的滾筒，滾筒結(jié)構(gòu)擺放是L型結(jié)構(gòu)，它可以適合低流平的涂布材料也可以適合高流平的涂布材料，滾筒的一側(cè)設(shè)置有淋膠擠壓頭，機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，本實(shí)用新型保證了被涂材料的涂布液體不受流平黏度限制，同樣可以涂出優(yōu)良的產(chǎn)品出來，能有效解決技術(shù)背景中的問題。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種L型涂布設(shè)備，包括機(jī)架，所述機(jī)架上固定有放卷裝置和陶瓷電暈系統(tǒng)，所述放卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連，所述機(jī)架上端設(shè)置有用于放卷裝置放布通過的橫向滾筒和垂直滾筒，所述橫向滾筒和垂直滾筒構(gòu)成L形狀，所述垂直滾筒的一端設(shè)置有淋膠擠壓頭，所述機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，所述收卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連。
[0006]在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上優(yōu)選，所述機(jī)架的一端固定有器械盒。
[0007]在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上優(yōu)選，所述橫向滾筒和垂直滾筒結(jié)構(gòu)完全相同，其半徑為3_20cm。
[0008]在上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上優(yōu)選，所述收卷裝置的高度比放卷裝置低l-2cm。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果:
[0010]本實(shí)用新型保證薄膜表面達(dá)因值夠高，增加膠面在薄膜上面的附著力，機(jī)架上端設(shè)置有一對(duì)用于放卷裝置放布通過的滾筒，滾筒結(jié)構(gòu)擺放是L型結(jié)構(gòu)，它可以適合低流平的涂布材料也可以適合高流平的涂布材料，滾筒的一側(cè)設(shè)置有淋膠擠壓頭，機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，本實(shí)用新型保證了被涂材料的涂布液體不受流平黏度限制，同樣可以涂出優(yōu)良的產(chǎn)品出來。
【附圖說明】
[0011 ]圖1為本實(shí)用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2為本實(shí)用新型俯視結(jié)構(gòu)不意圖ο
[0013]圖中標(biāo)號(hào)為:1-機(jī)架;2_放卷裝置;3_陶瓷電暈系統(tǒng);4_橫向滾筒;5_垂直滾筒;6_淋膠擠壓頭;7-收卷裝置;8-器械盒。
【具體實(shí)施方式】
[0014]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0015]如圖1和圖2所示，一種L型涂布設(shè)備，包括機(jī)架I，所述機(jī)架I上固定有放卷裝置2和陶瓷電暈系統(tǒng)3，所述放卷裝置2與陶瓷電暈系統(tǒng)3相連，所述機(jī)架I上端設(shè)置有用于放卷裝置2放布通過的橫向滾筒4和垂直滾筒5，所述橫向滾筒4和垂直滾筒5構(gòu)成L形狀，所述垂直滾筒5的一端設(shè)置有淋膠擠壓頭6，所述機(jī)架I的尾端設(shè)置有收卷裝置7，所述收卷裝置7與陶瓷電暈系統(tǒng)3相連。
[0016]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述機(jī)架I的一端固定有器械盒8。
[0017]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述橫向滾筒4和垂直滾筒5結(jié)構(gòu)完全相同，其半徑為3-20cm。
[0018]在上述實(shí)施例上優(yōu)選，所述收卷裝置7的高度比放卷裝置2低l_2cm。
[0019]基于上述，本實(shí)用新型保證薄膜表面達(dá)因值夠高，增加膠面在薄膜上面的附著力，機(jī)架上端設(shè)置有一對(duì)用于放卷裝置放布通過的滾筒，滾筒結(jié)構(gòu)擺放是L型結(jié)構(gòu)，它可以適合低流平的涂布材料也可以適合高流平的涂布材料，滾筒的一側(cè)設(shè)置有淋膠擠壓頭，機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，本實(shí)用新型保證了被涂材料的涂布液體不受流平黏度限制，同樣可以涂出優(yōu)良的產(chǎn)品出來。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種L型涂布設(shè)備，其特征在于:包括機(jī)架，所述機(jī)架上固定有放卷裝置和陶瓷電暈系統(tǒng)，所述放卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連，所述機(jī)架上端設(shè)置有用于放卷裝置放布通過的橫向滾筒和垂直滾筒，所述橫向滾筒和垂直滾筒構(gòu)成L形狀，所述垂直滾筒的一端設(shè)置有淋膠擠壓頭，所述機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，所述收卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種L型涂布設(shè)備，其特征在于:所述機(jī)架的一端固定有器械合ΙΤΓΤ.03.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種L型涂布設(shè)備，其特征在于:所述橫向滾筒和垂直滾筒結(jié)構(gòu)完全相同，其半徑為3-20cmo4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種L型涂布設(shè)備，其特征在于:所述收卷裝置的高度比放卷裝置低l-2cm。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及涂布設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種L型涂布設(shè)備，包括機(jī)架，所述機(jī)架上固定有放卷裝置和陶瓷電暈系統(tǒng)，所述放卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連，所述機(jī)架上端設(shè)置有用于放卷裝置放布通過的橫向滾筒和垂直滾筒，所述橫向滾筒和垂直滾筒構(gòu)成L形狀，所述垂直滾筒的一端設(shè)置有淋膠擠壓頭，所述機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置，所述收卷裝置與陶瓷電暈系統(tǒng)相連，本實(shí)用新型保證薄膜表面達(dá)因值夠高，增加膠面在薄膜上面的附著力，機(jī)架上端設(shè)置有一對(duì)用于放卷裝置放布通過的滾筒，滾筒結(jié)構(gòu)擺放是L型結(jié)構(gòu)，它可以適合低流平的涂布材料也可以適合高流平的涂布材料，滾筒的一側(cè)設(shè)置有淋膠擠壓頭，機(jī)架的尾端設(shè)置有收卷裝置。
【IPC分類】B05C13/02, B05C5/00
【公開號(hào)】CN205324083
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520971118
【發(fā)明人】陳灝渠
【申請(qǐng)人】惠州市浩明科技股份有限公司
【公開日】2016年6月22日
【申請(qǐng)日】2015年11月27日