專利名稱：一種渦流沉淀澄清池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型主要涉及水處理的裝置，尤其涉及一種沉淀澄清池。
技術(shù)背景目前，在水處理過(guò)程中， 一般都是用獨(dú)立的沉淀池或澄清池，或利用微 生物或石墨粉的澄清池進(jìn)行水的凈化，其通過(guò)過(guò)濾裝置或者使用 一些化學(xué)物 質(zhì)促使待凈化水中的雜質(zhì)沉淀并使其分離，這些方法所使用的設(shè)備一般結(jié)構(gòu) 都比較復(fù)雜，不僅投資高、且耗能大，由于排泥量難控制，經(jīng)常會(huì)導(dǎo)致過(guò)量 排泥或由于布水不勻等問(wèn)題，影響出水水質(zhì)。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于避免現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種渦流沉淀澄清池， 其結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，工程投資省，實(shí)現(xiàn)二次分離。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為 一種渦流沉淀澄清池， 包括有池體(10),進(jìn)水管(1),進(jìn)水槽(3),排泥裝置(5),在斜管 (8)上方設(shè)有集水槽(9),其主要特點(diǎn)在于所述的進(jìn)水管(1)通過(guò)網(wǎng) 絡(luò)反應(yīng)槽(2 )與進(jìn)水槽(3 )相連通，進(jìn)水槽(3 )與設(shè)在所述池體(C )內(nèi) 的折板反應(yīng)槽(4 )相連通；所述折板反應(yīng)槽(4 )的底部與池底的沉淀區(qū)(C) 相連通，沉淀區(qū)(C)通過(guò)斜管(8)與集水槽(9)相連通。所述的渦流沉淀澄清池，還包括有在沉淀區(qū)(C)的上方，至少圍繞折 板反應(yīng)槽(4)設(shè)有1圈傘形板(7),傘形板(7)與折板反應(yīng)槽(4)固連。所述的渦流沉淀澄清池，還包括有在沉淀區(qū)(C)的上方，至少圍繞折板反應(yīng)槽(4)設(shè)有1圈V形渦流板(6) ， V形渦流板(6)設(shè)置在折板反 應(yīng)槽(4)與池體(10)壁之間；V形渦流板(6)設(shè)在斜管(8)的下方。所述的渦流沉淀澄清池，在所述的沉淀區(qū)(C)內(nèi)設(shè)有環(huán)形泥錐(12)， 所述的排泥裝置(5)設(shè)置在兩兩環(huán)形泥錐(12)之間的低谷處。所述的渦流沉淀澄清池，所述的環(huán)形泥錐(12 )是在池體(10)底部設(shè) 有的連續(xù)的等腰三角形突起，環(huán)形泥錐(12)的底角角度為30度-60度。所述的渦流沉淀澄清池，所述的排泥裝置(5)是設(shè)置在兩兩環(huán)形泥錐 (12 )之間低谷處的環(huán)形排泥管(5-1)和排泥主管(5-2 )相連通，在環(huán)形 排泥管(5-1 )上設(shè)有排泥孔(5-3 )。所述的渦流沉淀澄清池，池底部設(shè)有的環(huán)形泥錐(12)是高、低兩個(gè)底 角角度的等腰三角形交錯(cuò)排列設(shè)置。所述的渦流沉淀澄清池，所述的折板反應(yīng)槽(4)內(nèi)設(shè)有折板(4-1)。所述的渦流沉淀澄清池，所述的網(wǎng)絡(luò)反應(yīng)槽(2)內(nèi)設(shè)有凈水藥劑。所述的渦流沉淀澄清池，所述的環(huán)形排泥管(5-1 )上開有排泥孔(5-3 )， 排泥孔呈90。布置在環(huán)形排泥管的底部?jī)蓚?cè)。本實(shí)用新型的有益效杲是藥劑反應(yīng)充分，布水均勻，實(shí)現(xiàn)二次分離， 水處理過(guò)程中，使水流方向總共轉(zhuǎn)變4次，使原水中的泥砂和各種雜質(zhì)得以 分離去除，從而得到濁度在15NTU以下的出水水質(zhì)，再經(jīng)過(guò)斜管沉淀處理， 出水濁度可達(dá)到5NTU以下。本實(shí)用新型高負(fù)荷處理水能力優(yōu)勢(shì)明顯，還可 以節(jié)約用地。


圖1為本實(shí)用新型的主剖視圖。圖2為本實(shí)用新型排泥裝置的示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解 釋本實(shí)用新型，并非用于限定本實(shí)用新型的范圍。見圖1， 一種渦流沉淀澄清池，包括有池體10，進(jìn)水管l,進(jìn)水槽3，排 泥裝置5，在斜管8上方設(shè)有集水槽9，所述的進(jìn)水管1通過(guò)網(wǎng)絡(luò)反應(yīng)槽2 與進(jìn)水槽3相連通，進(jìn)水槽3與設(shè)在所述池體10內(nèi)的折板反應(yīng)槽4相連通； 所述折板反應(yīng)槽4的底部與池底的沉淀區(qū)C相連通，沉淀區(qū)C通過(guò)斜管8與 集水槽9相連通。在沉淀區(qū)C的上方，圍繞折板反應(yīng)槽4設(shè)有1圏傘形板7,傘形板7與 折板反應(yīng)槽4固連。所述的渦流沉淀澄清池，在沉淀區(qū)C的上方，圍繞折板反應(yīng)槽4設(shè)有3 圈V形渦流板6， V形渦流板6設(shè)置在折板反應(yīng)槽4與池體10壁之間；V形 渦流板6設(shè)在斜管8的下方。在所述的沉淀區(qū)C內(nèi)設(shè)有環(huán)形泥錐12，所述的排泥裝置5設(shè)置在兩兩環(huán) 形泥錐12之間的低谷處。所述的環(huán)形泥錐12是在池體10底部設(shè)有的連續(xù)的等腰三角形突起，環(huán) 形泥錐12的底角角度為30度。所述的排泥裝置5是設(shè)置在兩兩環(huán)形泥錐12之間低谷處的環(huán)形排泥管 5-1和排泥主管5-2相連通，在環(huán)形排泥管上設(shè)有排泥孔5-3。池底部設(shè)有的環(huán)形泥錐12是高、低兩個(gè)底角角度的等腰三角形交錯(cuò)排 列設(shè)置。所述的折板反應(yīng)槽4內(nèi)設(shè)有折板4-1。 所述的網(wǎng)絡(luò)反應(yīng)槽2內(nèi)設(shè)有凈水藥劑。所述的環(huán)形排泥管5-1上開有排泥孔5-3，排泥孔呈90。布置在環(huán)形排泥管的底部?jī)蓚?cè)。運(yùn)行時(shí)，進(jìn)水管l設(shè)置在網(wǎng)格反應(yīng)槽2上，水流進(jìn)入第一反應(yīng)區(qū)A,藥 劑在反應(yīng)槽2中與水流進(jìn)行充分反應(yīng)，通過(guò)進(jìn)水槽3、水流進(jìn)入第二反應(yīng)區(qū) B,進(jìn)入折板反應(yīng)槽4后，水中的大顆粒泥砂，通過(guò)傘形板7下滑到沉淀區(qū)C， 使大部分泥砂從水中分離出來(lái)，為第一次泥水分離；V形渦流板6固定在折 板反應(yīng)槽4與池壁之間，上升的水流通過(guò)V形渦流板6中的懸浮泥砂層，水 流進(jìn)入泥沙吸附區(qū)D，為第二次泥水分離，水流通過(guò)V形渦流板6的底孔上升， 通過(guò)清水區(qū)E中的斜管8、在斜管上方設(shè)有三角堰集水槽9。三角出水堰9 與出水管相連，出水。泥沙在污泥沉淀區(qū)F，經(jīng)排泥管排出。所述的高負(fù)荷渦流沉淀澄清池底部設(shè)有的環(huán)行排泥管，環(huán)形排泥管上開 有排泥孔，排泥孔呈90。布置在環(huán)形排泥管的底部?jī)蓚?cè)，環(huán)行排泥管與總排 泥管相連，能夠充分把分離出來(lái)的泥砂排出。所述的高負(fù)荷渦流沉淀澄清池底部設(shè)有的環(huán)形泥錐，泥錐呈45°的傾斜 角度，可以防止泥砂在底部沉淀。以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型，凡 在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均 應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種渦流沉淀澄清池，包括有池體(10)，進(jìn)水管(1)，進(jìn)水槽(3)，排泥裝置(5)，在斜管(8)上方設(shè)有集水槽(9)，其特征在于所述的進(jìn)水管(1)通過(guò)網(wǎng)絡(luò)反應(yīng)槽(2)與進(jìn)水槽(3)相連通，進(jìn)水槽(3)與設(shè)在所述池體(10)內(nèi)的折板反應(yīng)槽(4)相連通；所述折板反應(yīng)槽(4)的底部與池底的沉淀區(qū)(C)相連通，沉淀區(qū)(C)通過(guò)斜管(8)與集水槽(9)相連通。
2. 如權(quán)利要求1所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于還包括有在沉 淀區(qū)(C)的上方，至少圍繞折板反應(yīng)槽(4)設(shè)有1圈傘形板(7)，傘形 板(7)與折板反應(yīng)槽(4)固連。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于還包括有 在沉淀區(qū)(C)的上方，至少圍繞折板反應(yīng)槽(4)設(shè)有1圈V形渦流板(6), V形渦流板(6)設(shè)置在折板反應(yīng)槽(4)與池體(10)壁之間；V形渦流板(6)設(shè)在斜管(8)的下方。
4. 如權(quán)利要求1所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于，在所述的沉淀 區(qū)(C)內(nèi)設(shè)有環(huán)形泥錐U2)，所述的排泥裝置(5)設(shè)置在兩兩環(huán)形泥錐(12)之間的低谷處。
5. 如權(quán)利要求4所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于所述的環(huán)形泥 錐(12 )是在池體(10 )底部設(shè)有的連續(xù)的等腰三角形突起，環(huán)形泥錐(12 ) 的底角角度為30度-60度。
6. 如權(quán)利要求1或2所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于所述的排 泥裝置(5)是設(shè)置在兩兩環(huán)形泥錐(12)之間低谷處的環(huán)形排泥管(5-1) 和排泥主管(5-2)相連通，在環(huán)形排泥管上設(shè)有排泥孔(5-3)。
7. 如權(quán)利要求2或3所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于池底部設(shè)有的環(huán)形泥錐(12)是高、低兩個(gè)底角角度的等腰三角形交錯(cuò)排列設(shè)置。
8. 如權(quán)利要求1所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于所述的折板反 應(yīng)槽(4)內(nèi)設(shè)有折板(4-1 )。
9. 如權(quán)利要求1所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于所述的網(wǎng)絡(luò)反 應(yīng)槽(2)內(nèi)設(shè)有凈水藥劑。
10. 如權(quán)利要求4所述的渦流沉淀澄清池，其特征在于所述的環(huán)形排 泥管(5-1)上開有排泥孔，排泥孔呈90。布置在環(huán)形排泥管的底部?jī)蓚?cè)。
專利摘要本實(shí)用新型主要涉及水處理的裝置，尤其涉及一種沉淀澄清池。一種渦流沉淀澄清池，包括有池體(10)，進(jìn)水管(1)，進(jìn)水槽(3)，排泥裝置(5)，在斜管(8)上方設(shè)有集水槽(9)，其主要特點(diǎn)在于所述的進(jìn)水管(1)通過(guò)網(wǎng)絡(luò)反應(yīng)槽(2)與進(jìn)水槽(3)相連通，進(jìn)水槽(3)與設(shè)在所述池體(10)內(nèi)的折板反應(yīng)槽(4)相連通；所述折板反應(yīng)槽(4)的底部與池底的沉淀區(qū)(C)相連通，沉淀區(qū)(C)通過(guò)斜管(8)與集水槽(9)相連通。本實(shí)用新型的有益效果是藥劑反應(yīng)充分，布水均勻，實(shí)現(xiàn)二次分離，水處理過(guò)程中，使水流方向總共轉(zhuǎn)變4次，使原水中的泥砂和各種雜質(zhì)得以分離去除，從而得到濁度在15NTU以下的出水水質(zhì)，再經(jīng)過(guò)斜管沉淀處理，出水濁度可達(dá)到5NTU以下。
文檔編號(hào)B01D21/02GK201379993SQ200920032280
公開日2010年1月13日 申請(qǐng)日期2009年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月23日
發(fā)明者尚小鵬, 剛 王, 邢秀蘭 申請(qǐng)人:甘肅金橋給水排水設(shè)計(jì)與工程(集團(tuán))有限公司