電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)及工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)及工藝，回用系統(tǒng)包括助熔槽1、外排液收集槽2、計量提升泵、加熱器、蒸發(fā)器、電鍍液儲存槽、氣液分離器、冷凝器、冷凝水均質(zhì)池、催化氧化池和絮凝沉淀池；助熔槽、外排液收集槽、計量提升泵、加熱器和蒸發(fā)器依次連通，蒸發(fā)器分別通過第一管道和第二管道與電鍍液儲槽和加熱器相連通。本發(fā)明對電鍍錫助溶槽外排液進行分級處理，通過加熱、蒸發(fā)、循環(huán)濃縮實現(xiàn)濃縮液回用，冷凝水經(jīng)均質(zhì)、催化氧化、絮凝沉淀實現(xiàn)達標(biāo)外排，實現(xiàn)了錫離子的高效回收和廢水的達標(biāo)排放，并且避免了酸浸、焙燒、還原、粗錫精制等操作，大大節(jié)約運行成本。
【專利說明】
電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)及工藝
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)及工藝，屬于電鍍錫廢水回用和處理技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前電鍍錫工藝大都采用不溶性陽極鍍錫，電鍍過程中電鍍槽、回收槽、助熔槽依次串聯(lián)，高速鍍錫過程中，回收槽液隨高速鍍錫基板慣性帶入助熔槽中，導(dǎo)致助熔槽內(nèi)Sn2+濃度越來越高。為滿足軟熔工藝要求，助熔槽內(nèi)Sn2+濃度需始終小于2.5g/L，當(dāng)助熔槽內(nèi)Sn2+濃度大于該值時，常規(guī)做法為用脫鹽水置換部分助熔槽液，并添加適量PSA及ENSA。
[0003]置換的助溶槽液Sn2+濃度一般在2.0-2.5g/L，屬于典型的含金屬離子、高COD濃度、難降解的酸性廢液，若直接排入電鍍錫廢水處理系統(tǒng)，不僅造成錫的浪費，而且對后續(xù)的污水處理系統(tǒng)造成極大的沖擊負(fù)荷，影響廢水處理效果，造成嚴(yán)重的環(huán)境污染。
[0004]近年來，部分企業(yè)開始采用分步沉淀的堿法回收錫離子，使其以氫氧化錫或氫氧化亞錫的形式沉淀，與生產(chǎn)線的錫泥混合后進行金屬錫的回收，廢水則進入電鍍錫廢水處理系統(tǒng)。專利號ZL201410372932.9公布了一種從電鍍錫泥中回收鍍錫用精錫的方法，通過酸浸、焙燒、保護氣氛還原、粗錫精制等得到符合回用要求的精錫。上述方法盡管實現(xiàn)錫離子的回收和回用，但是廢水仍然很難處理達標(biāo)或處理費用昂貴，原因是廢水中苯酚磺酸為強酸性、難降解有機物，傳統(tǒng)活性污泥法很難處理達標(biāo)，需要進行化學(xué)強化預(yù)處理、高效生物處理、芬頓深度氧化的組合工藝才能實現(xiàn)處理達標(biāo)，處理費用昂貴，大大增加了企業(yè)的運行成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)及工藝，對電鍍錫助溶槽外排液進行分級處理，通過加熱、蒸發(fā)、循環(huán)濃縮實現(xiàn)濃縮液回用，冷凝水經(jīng)均質(zhì)、催化氧化、絮凝沉淀實現(xiàn)達標(biāo)外排，實現(xiàn)了錫離子的高效回收和廢水的達標(biāo)排放，并且避免了酸浸、焙燒、還原、粗錫精制等操作，大大節(jié)約運行成本。
[0006]本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是:
一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)，包括助熔槽1、外排液收集槽2、計量提升栗、加熱器、蒸發(fā)器、電鍍液儲存槽、氣液分離器、冷凝器、冷凝水均質(zhì)池、催化氧化池和絮凝沉淀池；
助熔槽、外排液收集槽、計量提升栗、加熱器和蒸發(fā)器依次連通，蒸發(fā)器分別通過第一管道和第二管道與電鍍液儲槽和加熱器相連通；
蒸發(fā)器通過蒸汽管道與氣液分離器連通;氣液分離器的氣相出口與冷凝器相連通;氣液分離器的液相出口與加熱器連通;冷凝器出口與冷凝水均質(zhì)池、催化氧化池和絮凝沉淀池依次連通。
[0007]還包括水環(huán)式真空栗和循環(huán)水箱，循環(huán)水箱與水循環(huán)式真空栗連通，水循環(huán)式真空栗與蒸發(fā)器連接。
[0008]催化氧化池為序批式催化氧化池，含兩級催化池、氧化池，兩級催化池內(nèi)裝填料，從下往上依次為鵝軟石、電化學(xué)氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形;兩級催化池、氧化池為底部曝氣。
[0009]絮凝沉淀池為中心布水的上進水上出水反應(yīng)器。
[0010]本發(fā)明還提供一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，包括下述步驟:
助熔槽的外排液進入外排液收集槽，然后進入加熱器進行加熱，經(jīng)溫度傳感器檢測溫度達標(biāo)后進入蒸發(fā)器進行濃縮，濃縮液在蒸發(fā)器和加熱器間循環(huán)；
蒸發(fā)器的濃縮液經(jīng)錫離子濃度在線檢測后，關(guān)閉第二管道，打開符合質(zhì)量要求的濃縮液經(jīng)第一管道進入電鍍液儲存槽實現(xiàn)回用；
蒸發(fā)器蒸發(fā)出的蒸汽通過蒸汽管道進入氣液分離器進行氣液分離，氣液分離器分離出的液相進入加熱器繼續(xù)循環(huán)，分離出的氣相進入冷凝器進行冷凝，然后依次經(jīng)進入冷凝水均質(zhì)池進行均質(zhì)處理、催化氧化池催化氧化處理、絮凝沉淀池混凝沉淀，混凝沉淀后達到出水直接達標(biāo)排放。
[0011]其中，蒸發(fā)器壓力為-0.06MPa?-0.1MPa，由水環(huán)式真空栗控制蒸發(fā)器壓力，水環(huán)式真空栗與循環(huán)水箱相連。
[0012]加熱器溫度為50?70°C，由溫度傳感器實時監(jiān)測溫度，與蒸汽流量實現(xiàn)連鎖控制。
[0013]蒸發(fā)器中的濃縮液中錫離子經(jīng)Sn2+濃度在線檢測濃度在18-28g/L時，進入電鍍液儲存槽，實現(xiàn)鍍錫線回用。
[0014]催化氧化池為序批式催化氧化池，含兩級催化池、氧化池，兩級催化池內(nèi)裝填料，從下往上依次為鵝軟石、電化學(xué)氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形;兩級催化池、氧化池為底部曝氣，曝氣量根據(jù)來水水量調(diào)節(jié)氣水比:4:1-2:1。
[0015]絮凝沉淀池為中心布水的上進水上出水反應(yīng)器，通過中和劑調(diào)整進水PH為8.0-10.0;所述絮凝劑為PAM、PAC的一種或兩種。絮凝劑計量栗、中和劑計量栗與PH在線檢測儀實現(xiàn)連鎖控制。所述中和劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的NaOH。
[0016]冷凝水均質(zhì)后PH為3.0-4.0，酸性調(diào)節(jié)劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的硫酸，pH在線檢測儀與酸性調(diào)節(jié)劑流量栗連鎖控制。
[0017]采用該工藝可實現(xiàn)大部分助溶槽外排液的達標(biāo)回用，剩余外排液的處理難度大大降低，通過催化氧化、絮凝沉淀工藝便可實現(xiàn)達標(biāo)排放，大大節(jié)約廢水處理成本。回收的助熔槽外排液完全達到回用要求，進入電鍍液儲存槽后實現(xiàn)鍍錫線回用，避免了錫離子的浪費，或復(fù)雜的錫回收、酸浸、焙燒、還原、粗錫精制等步驟，大大節(jié)約運行成本。該工藝流程簡單、運行穩(wěn)定、實現(xiàn)了助熔槽外排液的高效回用和處理，環(huán)境效益和經(jīng)濟效益顯著。
[0018]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:
本發(fā)明對電鍍錫助溶槽外排液進行分級處理，通過加熱、蒸發(fā)、循環(huán)濃縮實現(xiàn)濃縮液回用，冷凝水經(jīng)均質(zhì)、催化氧化、絮凝沉淀實現(xiàn)達標(biāo)外排，實現(xiàn)了錫離子的高效回收和廢水的達標(biāo)排放，并且避免了酸浸、焙燒、還原、粗錫精制等操作，大大節(jié)約運行成本。
[0019]本工藝與外排液傳統(tǒng)處理方法相比，工藝簡單，運行成本低，經(jīng)濟效益和環(huán)境效益顯著。
【附圖說明】
[0020]圖1為本發(fā)明電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖；
其中，1、助熔槽;2、外排液收集槽;3、計量提升栗；4、加熱器;5、蒸發(fā)器;6、水環(huán)式真空栗;7、電鍍液儲存槽;8、氣液分離器;9、循環(huán)水箱；10、冷凝器;11、冷凝水均質(zhì)池；12、催化氧化池;13、絮凝沉淀池;14、第一管道;15、蒸汽管道;16、第二管道。
【具體實施方式】
[0021]下面結(jié)合實施例對本發(fā)明做進一步地說明；
實施例1電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)
如圖1所示，電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)，包括助熔槽1、外排液收集槽2、計量提升栗3、加熱器4、蒸發(fā)器5、電鍍液儲存槽7、氣液分離器8、冷凝器10、冷凝水均質(zhì)池11、催化氧化池12和絮凝沉淀池13;
助熔槽1、外排液收集槽2、計量提升栗3、加熱器4和蒸發(fā)器5依次連通，蒸發(fā)器5分別通過第一管道14和第二管道16與電鍍液儲槽7和加熱器4相連通；
蒸發(fā)器5通過蒸汽管道15與氣液分離器8連通;氣液分離器8的氣相出口與冷凝器10相連通;氣液分離器8的液相出口與加熱器4連通;冷凝器10出口與冷凝水均質(zhì)池11、催化氧化池12和絮凝沉淀池13依次連通。
[0022]本發(fā)明的另一優(yōu)選技術(shù)方案為，還包括水環(huán)式真空栗6和循環(huán)水箱9，循環(huán)水箱9與水循環(huán)式真空栗6連通，水循環(huán)式真空栗6與蒸發(fā)器5連接。
[0023]本發(fā)明的另一優(yōu)選的技術(shù)方案為，催化氧化池12為序批式催化氧化池，含兩級催化池、氧化池，兩級催化池內(nèi)裝填料，從下往上依次為鵝軟石、電化學(xué)氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形;兩級催化池、氧化池為底部曝氣。
[0024]本發(fā)明的進一步優(yōu)選的技術(shù)方案為，絮凝沉淀池13為中心布水的上進水上出水反應(yīng)器。
[0025]實施例2-實施例5為電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝實施例實施例2
助熔槽外排液PH為1.0、Sn2+濃度為2.4g/L、COD為18000mg/L，屬于典型強酸性、含金屬離子、高濃度難降解有機物，經(jīng)提升計量栗以8m3/h的流量打入加熱器，加熱器體積約4m3，加熱器通入溫度160°C、壓力0.55MPa的蒸汽，控制溫度65°C，加熱的助溶槽外排液進入蒸發(fā)器，蒸發(fā)器壓力為-0.08MPa，外排液在蒸發(fā)器內(nèi)蒸發(fā)，氣體進入氣液分離器，液體回到加熱器進行循環(huán)濃縮，當(dāng)檢測到循環(huán)濃縮液的Sn2+濃度達到24g/L時，關(guān)閉循環(huán)管路閥門，打開電鍍液儲存槽進口閥，濃縮液(體積約0.4m3)進入電鍍液儲存槽實現(xiàn)鍍錫線回用。氣液分離后冷凝液體積約3.6m3，C0D為600mg/L、PH為5.5，相對助熔槽外排液COD去除率達96.7%。用濃度為98%的濃硫酸調(diào)節(jié)冷凝液pH值為3.5，均質(zhì)后的冷凝液進入序批式催化氧化池，兩級催化池內(nèi)裝有鵝軟石、氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形，停留時間分別為Ih，曝氣量調(diào)整為10m3/h，之后進入氧化塔，曝氣量為10m3/h，停留時間2h，反應(yīng)結(jié)束的冷凝液進入絮凝沉淀池，用濃度30%的NaOH溶液調(diào)整PH為8.5，PAM投加量為0.2%，停留時間1.5h，經(jīng)沉淀后出水COD為80mg/L，小于電鍍廢水最低排放指標(biāo)達標(biāo)排放。本工藝實現(xiàn)了助熔槽外排液中Sn2+的全部回收，與傳統(tǒng)處理工藝相比，運行費用低，流程簡單，環(huán)境效益明顯。
[0026]實施例3
助熔槽外排液PH為1.2、Sn2+濃度為2.6g/L、COD為18500mg/L，屬于典型強酸性、含金屬離子、高濃度難降解有機物，經(jīng)提升計量栗以8m3/h的流量打入加熱器，加熱器體積約4m3，加熱器通入溫度160°C、壓力0.55MPa的蒸汽，控制溫度70°C，加熱的助溶槽外排液進入蒸發(fā)器，蒸發(fā)器壓力為-0.06MPa，外排液在蒸發(fā)器內(nèi)蒸發(fā)，氣體進入氣液分離器，液體回到加熱器進行循環(huán)濃縮，當(dāng)檢測到循環(huán)濃縮液的Sn2+濃度達到26g/L時，關(guān)閉循環(huán)管路閥門，打開電鍍液儲存槽進口閥，濃縮液(體積約0.4m3)進入電鍍液儲存槽實現(xiàn)鍍錫線回用。氣液分離后冷凝液體積約3.6m3，C0D為700mg/L、PH為5.5，相對助熔槽外排液COD去除率達96.2%。用濃度為98%的濃硫酸調(diào)節(jié)冷凝液pH值為4.0，均質(zhì)后的冷凝液進入序批式催化氧化池，兩級催化池內(nèi)裝有鵝軟石、氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形，停留時間分別為lh，曝氣量調(diào)整為10m3/h，之后進入氧化塔，曝氣量為10m3/h，停留時間1.5h，反應(yīng)結(jié)束的冷凝液進入絮凝沉淀池，用濃度30%的NaOH溶液調(diào)整PH為9.0，PAM投加量為0.1%，停留時間2h，經(jīng)沉淀后出水COD為100mg/L，小于電鍍廢水最低排放指標(biāo)達標(biāo)排放。本工藝實現(xiàn)了助熔槽外排液中Sn2+的全部回收，與傳統(tǒng)處理工藝相比，運行費用低，流程簡單，環(huán)境效益明顯。
[0027]實施例4
助熔槽外排液PH為1.0、3112+濃度為2.(^/1、0)0為175001^/1，屬于典型強酸性、含金屬離子、高濃度難降解有機物，經(jīng)提升計量栗以8m3/h的流量打入加熱器，加熱器體積約4m3，加熱器通入溫度160°C、壓力0.55MPa的蒸汽，控制溫度60°C，加熱的助溶槽外排液進入蒸發(fā)器，蒸發(fā)器壓力為-0.09MPa，外排液在蒸發(fā)器內(nèi)蒸發(fā)，氣體進入氣液分離器，液體回到加熱器進行循環(huán)濃縮，當(dāng)檢測到循環(huán)濃縮液的Sn2+濃度達到28g/L時，關(guān)閉循環(huán)管路閥門，打開電鍍液儲存槽進口閥，濃縮液(體積約0.33m3)進入電鍍液儲存槽實現(xiàn)鍍錫線回用。氣液分離后冷凝液體積約3.67m3，COD為650mg/L、PH為5.4，相對助熔槽外排液COD去除率達96.6%。用濃度為98%的濃硫酸調(diào)節(jié)冷凝液pH值為3.5，均質(zhì)后的冷凝液進入序批式催化氧化池，兩級催化池內(nèi)裝有鵝軟石、氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形，停留時間分別為lh，曝氣量調(diào)整為llm3/h，之后進入氧化塔，曝氣量為llm3/h，停留時間2h，反應(yīng)結(jié)束的冷凝液進入絮凝沉淀池，用濃度30%的NaOH溶液調(diào)整PH為10.0，PAM投加量為0.5%，停留時間2h，經(jīng)沉淀后出水COD為90mg/L，小于電鍍廢水最低排放指標(biāo)達標(biāo)排放。本工藝實現(xiàn)了助熔槽外排液中Sn2+的全部回收，與傳統(tǒng)處理工藝相比，運行費用低，流程簡單，環(huán)境效益明顯。
[0028]實施例5
助熔槽外排液PH為1.1、Sn2+濃度為2.1g/L、COD為17800mg/L，屬于典型強酸性、含金屬離子、高濃度難降解有機物，經(jīng)提升計量栗以8m3/h的流量打入加熱器，加熱器體積約4m3，加熱器通入溫度160°C、壓力0.55MPa的蒸汽，控制溫度50°C，加熱的助溶槽外排液進入蒸發(fā)器，蒸發(fā)器壓力為-0.1MPa，外排液在蒸發(fā)器內(nèi)蒸發(fā)，氣體進入氣液分離器，液體回到加熱器進行循環(huán)濃縮，當(dāng)檢測到循環(huán)濃縮液的Sn2+濃度達到18g/L時，關(guān)閉循環(huán)管路閥門，打開電鍍液儲存槽進口閥，濃縮液(體積約0.33m3)進入電鍍液儲存槽實現(xiàn)鍍錫線回用。氣液分離后冷凝液體積約3.67m3，COD為650mg/L、PH為5.4，相對助熔槽外排液COD去除率達96.6%。用濃度為98%的濃硫酸調(diào)節(jié)冷凝液pH值為3.0，均質(zhì)后的冷凝液進入序批式催化氧化池，兩級催化池內(nèi)裝有鵝軟石、氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形，停留時間分別為lh，曝氣量調(diào)整為llm3/h，之后進入氧化塔，曝氣量為llm3/h，停留時間2h，反應(yīng)結(jié)束的冷凝液進入絮凝沉淀池，用濃度30%的NaOH溶液調(diào)整PH為8.0，PAM和PAC投加總量為0.5%，停留時間2h，經(jīng)沉淀后出水COD為90mg/L，小于電鍍廢水最低排放指標(biāo)達標(biāo)排放。本工藝實現(xiàn)了助熔槽外排液中Sn2+的全部回收，與傳統(tǒng)處理工藝相比，運行費用低，流程簡單，環(huán)境效益明顯。
【主權(quán)項】
1.一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)，其特征在于包括助熔槽(I)、外排液收集槽(2)、計量提升栗(3)、加熱器(4)、蒸發(fā)器(5)、電鍍液儲存槽(7)、氣液分離器(8)、冷凝器(1 )、冷凝水均質(zhì)池(11)、催化氧化池(12 )和絮凝沉淀池(13 );所述助熔槽(I)、外排液收集槽(2)、計量提升栗(3)、加熱器(4)和蒸發(fā)器(5)依次連通，蒸發(fā)器(5)分別通過第一管道(14)和第二管道(16)與電鍍液儲槽(7)和加熱器(4)相連通； 所述蒸發(fā)器(5)通過蒸汽管道(15)與氣液分離器(8)連通;氣液分離器(8)的氣相出口與冷凝器(10)相連通;氣液分離器(8)的液相出口與加熱器(4)連通;冷凝器(10)出口與冷凝水均質(zhì)池(11)、催化氧化池(12)和絮凝沉淀池(13)依次連通。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)，其特征在于還包括水環(huán)式真空栗(6)和循環(huán)水箱(9)，循環(huán)水箱(9)與水循環(huán)式真空栗(6)連通，水循環(huán)式真空栗(6)與蒸發(fā)器(5)連接。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用系統(tǒng)，其特征在于所述催化氧化池(12)為序批式催化氧化池，含兩級催化池、氧化池，兩級催化池內(nèi)裝填料，從下往上依次為鵝軟石、電化學(xué)氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形;兩級催化池、氧化池為底部曝氣;所述絮凝沉淀池(13)為中心布水的上進水上出水反應(yīng)器。4.一種電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于包括下述步驟: 助熔槽(I)的外排液進入外排液收集槽(2)，然后進入加熱器(4)進行加熱，經(jīng)溫度傳感器檢測溫度達標(biāo)后進入蒸發(fā)器(5)進行濃縮，濃縮液在蒸發(fā)器(5)和加熱器(4)間循環(huán)； 蒸發(fā)器(5)的濃縮液經(jīng)錫離子濃度在線檢測后，關(guān)閉第二管道(16)，打開符合質(zhì)量要求的濃縮液經(jīng)第一管道(14)進入電鍍液儲存槽(7)實現(xiàn)回用； 蒸發(fā)器(5)蒸發(fā)出的蒸汽通過蒸汽管道(15)進入氣液分離器(8)進行氣液分離，氣液分離器(8)分離出的液相進入加熱器(4)繼續(xù)循環(huán)，分離出的氣相進入冷凝器(10)進行冷凝，然后依次經(jīng)進入冷凝水均質(zhì)池(11)進行均質(zhì)處理、催化氧化池(12)催化氧化處理、絮凝沉淀池(13 )混凝沉淀，混凝沉淀后達到出水直接達標(biāo)排放。5.如權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述蒸發(fā)器(5)壓力為_0.06MPa?-0.1MPa，由水環(huán)式真空栗(6)控制蒸發(fā)器壓力，水環(huán)式真空栗(6)與循環(huán)水箱(9)相連。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述加熱器(4)溫度為50?70°C，由溫度傳感器實時監(jiān)測溫度。7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述蒸發(fā)器(5)中的濃縮液中錫離子經(jīng)Sn2+濃度在線檢測濃度在18-28g/L時，進入電鍍液儲存槽，實現(xiàn)鍍錫線回用。8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述催化氧化池(12)為序批式催化氧化池，含兩級催化池、氧化池，兩級催化池內(nèi)裝填料，從下往上依次為鵝軟石、電化學(xué)氧化填料，填料孔隙率為60-70%，為l-3cm的橢球形;兩級催化池、氧化池為底部曝氣，曝氣量根據(jù)來水水量調(diào)節(jié)氣水比:4:1-2:1。9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述絮凝沉淀池(13)為中心布水的上進水上出水反應(yīng)器，通過中和劑調(diào)整進水PH為8.0-10.0 ；絮凝劑計量栗、中和劑計量栗與PH在線檢測儀實現(xiàn)連鎖控制，所述絮凝劑為PAM、PAC的一種或兩種;所述中和劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的NaOH。10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電鍍錫助熔槽外排液分級回用工藝，其特征在于所述冷凝水均質(zhì)后PH為3.0-4.0，酸性調(diào)節(jié)劑為質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的硫酸，pH在線檢測儀與酸性調(diào)節(jié)劑流量栗連鎖控制。
【文檔編號】C02F103/16GK106045177SQ201610597989
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年7月27日 公開號201610597989.8, CN 106045177 A, CN 106045177A, CN 201610597989, CN-A-106045177, CN106045177 A, CN106045177A, CN201610597989, CN201610597989.8
【發(fā)明人】田京雷, 李立業(yè), 黃世平, 王慶森, 畢杰勛
【申請人】河鋼股份有限公司