專利名稱：具有定位功能的載物臺(tái)、包括該具有定位功能的載物臺(tái)的處理裝置和基板定位方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有定位功能的載物臺(tái)、包括該具有定位功能的載物臺(tái)的處理裝置和 基板定位方法，特別涉及包括沿一根軸自由移動(dòng)地配置的涂布頭的噴墨式涂布裝置中所采 用的具有定位功能的載物臺(tái)、包括該具有定位功能的載物臺(tái)的處理裝置和基板定位方法。
背景技術(shù)：
已知使用噴墨式涂布裝置(下面稱為“涂布裝置”)可以不經(jīng)光刻工藝直接在基板 上形成微細(xì)的導(dǎo)電圖形等，近年來，在大面積薄膜晶體管基板的制作工藝中形成數(shù)ym的 高精細(xì)源極·漏極電極圖形、形成平板顯示器用的色彩濾光片、取向膜或墊片中也被加以利用。對(duì)于該種涂布裝置，在專利文獻(xiàn)1中公開了具有如下結(jié)構(gòu)的涂布裝置。即，專利文 獻(xiàn)1記載的涂布裝置由載物臺(tái)和噴墨裝置構(gòu)成，所述載物臺(tái)對(duì)要處理的基板通過吸附進(jìn)行 保持同時(shí)暴露要處理的基板的處理面。載物臺(tái)可通過具有馬達(dá)的進(jìn)給絲杠沿X軸導(dǎo)桿自由 移動(dòng)。另一方面，噴墨裝置具有設(shè)置為在載物臺(tái)的移動(dòng)路徑上跨過該載物臺(tái)的門型支撐裝 置，沿Y軸方向自由移動(dòng)地設(shè)置在該支撐裝置上、向基板涂布規(guī)定的墨水的至少一個(gè)涂布 頭。其中，上述的涂布裝置有時(shí)會(huì)產(chǎn)生將基板吸附保持在載物臺(tái)上時(shí)和搬動(dòng)機(jī)械手將 基板設(shè)置在載物臺(tái)上時(shí)產(chǎn)生位置偏差的情況。因此，要在涂布墨水之前進(jìn)行相對(duì)于涂布頭 的基板掃描面的定位(定位)。此時(shí)，不僅X軸方向和Y軸方向，而且還需要使基板在同一 平面內(nèi)繞θ方向旋轉(zhuǎn)來調(diào)節(jié)相對(duì)于涂布頭的基板的斜度。在這種情況下，要考慮在吸附保持基板的狀態(tài)下使載物臺(tái)本體旋轉(zhuǎn)進(jìn)行定位的結(jié) 構(gòu)。但是，如上所述的在平板顯示器用的大面積基板為處理對(duì)象物時(shí)，隨著基板尺寸的增加 不僅基板重量增加，而且根據(jù)基板尺寸，載物臺(tái)本身也大型化，其重量增加。因此，在上述方 法中，需要使基板和搬運(yùn)載物臺(tái)共同旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(軸承等)，不能避免裝置本身的大型 化，另外，為了使載物臺(tái)旋轉(zhuǎn)而高精度地進(jìn)行定位，需要高推力并且高性能的馬達(dá)，存在成 本高的問題。另一方面，代替自由旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成載物臺(tái)，考慮自由旋轉(zhuǎn)地構(gòu)成支撐涂布頭的支撐 裝置進(jìn)行θ方向的定位，但是在進(jìn)行θ方向的定位時(shí)，需要一邊使支持裝置旋轉(zhuǎn)，一邊使 搬運(yùn)臺(tái)向X軸和Y軸方向適當(dāng)移動(dòng)，為了高精度地進(jìn)行定位而進(jìn)行的控制明顯變得復(fù)雜了。專利文獻(xiàn)1 特開2006-136770號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題本發(fā)明鑒于上面的問題，目的是提供一種即使在處理對(duì)象物的重量較大的情況 下，也能夠高精度并且容易地進(jìn)行特別是θ方向的定位、低成本的具有定位功能的載物臺(tái)，和包括該具有定位功能的載物臺(tái)的處理裝置以及基板定位方法。解決問題的手段為了解決上述問題，權(quán)利要求1記載的發(fā)明是包括暴露處理對(duì)象物的處理面并保 持處理對(duì)象物的載物臺(tái)本體的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于包括可自由吸附在與 所述處理對(duì)象物的所述處理面相對(duì)的另一面上的吸附裝置、向所述吸附裝置上的吸附位置 以外的區(qū)域供給氣體的氣體供給裝置、對(duì)所述吸附裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)以使所述處理對(duì)象物 以所述吸附裝置為旋轉(zhuǎn)中心在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置。根據(jù)本發(fā)明，暴露處理對(duì)象物的處理面并將處理對(duì)象物載置在載物臺(tái)上，使吸附 裝置吸附在與所述處理對(duì)象物的所述處理面相對(duì)的另一面上。而后，向除了被吸附裝置吸 附的區(qū)域的所述其他面上供給氣體。在該狀態(tài)下，由驅(qū)動(dòng)裝置以所述吸附裝置為旋轉(zhuǎn)中心 在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)規(guī)定角度時(shí)，處理對(duì)象物能夠與吸附裝置一體旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度。其結(jié)果 是能夠使基板在θ方向上旋轉(zhuǎn)進(jìn)行定位。這樣一來，根據(jù)本發(fā)明，通過向除了吸附區(qū)域的部分供給氣體，在除了該區(qū)域的部 分上浮的狀態(tài)下(在該情況下，至少該部分與載物臺(tái)上表面的摩擦阻力減小)，由于采用了 僅使處理對(duì)象物與吸附裝置一體旋轉(zhuǎn)從而進(jìn)行θ方向定位的結(jié)構(gòu)，所以例如在處理對(duì)象 物的重量較大的情況下，也不需要大型的軸承等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，能夠避免裝置本身的大型化。并 且，由于能夠用較小的推力使處理對(duì)象物旋轉(zhuǎn)，所以不用高性能的馬達(dá)就能高精度地進(jìn)行 定位，還能夠?qū)崿F(xiàn)低成本化。另外，不用移動(dòng)與載物臺(tái)保持的處理對(duì)象物相對(duì)設(shè)置的處理裝 置如噴墨裝置，就能夠進(jìn)行θ方向的定位，所以其控制容易。另外，為了解決上述問題，權(quán)利要求2記載的發(fā)明是具有定位功能的載物臺(tái)，包括 暴露處理對(duì)象物的處理面并保持處理對(duì)象物的保持盤和可自由旋轉(zhuǎn)地支撐所述保持盤的 載物臺(tái)本體，其特征在于包括向所述保持盤中的處理對(duì)象物的處理面相對(duì)的另一面供給氣 體的氣體供給裝置、對(duì)所述保持盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)以使所述保持盤在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)直ο根據(jù)本發(fā)明，在保持盤保持處理對(duì)象物的狀態(tài)下，在該保持盤上浮的狀態(tài)(與上 述相同，至少該保持盤與載物臺(tái)上表面的摩擦阻力減小)下，由于采用了由驅(qū)動(dòng)裝置使其 與吸附裝置一體旋轉(zhuǎn)進(jìn)行基板的θ方向定位的結(jié)構(gòu)，所以如上述相同，不需要大型的軸承 等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和高性能馬達(dá)，并且能夠?qū)崿F(xiàn)低成本化。在本發(fā)明中，通過采用還包括引導(dǎo)裝置、使所述載物臺(tái)本體沿所述引導(dǎo)裝置移動(dòng) 的移動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)，相對(duì)于設(shè)置在引導(dǎo)裝置的上方的涂布頭等的處理裝置僅改變載物臺(tái)本 體的停止位置，就能夠進(jìn)行載物臺(tái)本體的移動(dòng)方向上的定位。另外，可采用包括真空泵的結(jié)構(gòu)，通過在所述載物臺(tái)本體或保持盤的與所述處理 對(duì)象物接觸的面上形成吸附槽，在將所述處理對(duì)象物載置在載物臺(tái)上或?qū)⒒遢d置在保持 盤上的狀態(tài)下對(duì)所述吸附槽抽真空，使載物臺(tái)本體例如沿引導(dǎo)裝置移動(dòng)時(shí)，能夠可靠地將 處理對(duì)象物保持在載物臺(tái)本體或保持盤上。但是，在進(jìn)行上述載物臺(tái)的θ方向定位的情況下，不僅要求定位精度(例如 1 μ rad以下)，還對(duì)定位時(shí)間的縮短有較強(qiáng)的要求。在該情況下，若所述驅(qū)動(dòng)裝置由使所述 吸附裝置在規(guī)定的微小角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的微動(dòng)機(jī)構(gòu)以及使所述吸附裝置在比微動(dòng)機(jī)構(gòu)大 的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的粗動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成，則能夠在粗動(dòng)機(jī)構(gòu)使處理對(duì)象物高速旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)到目標(biāo)4位置的附近之后，由微動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行更高精度的位置確定。由此能夠?qū)崿F(xiàn)在短時(shí)間內(nèi)的高精 度定位。另外，所述粗動(dòng)機(jī)構(gòu)連接到所述吸附裝置，所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)包括臂和搖動(dòng)該臂的驅(qū) 動(dòng)源，若所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述粗動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，則能夠與旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)吸附裝置的旋轉(zhuǎn)軸共用，從 而在該驅(qū)動(dòng)源使該臂搖動(dòng)時(shí)，通過粗動(dòng)機(jī)構(gòu)來對(duì)所述吸附裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，能夠避免驅(qū) 動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。并且在進(jìn)行θ方向定位時(shí)，能夠平滑地進(jìn)行從粗動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行的旋 轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)向微動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的轉(zhuǎn)換。而且，所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)的臂采用具有至少伸展到載物臺(tái)本體一側(cè)的長(zhǎng)度、其前端與 所述驅(qū)動(dòng)源連接的結(jié)構(gòu)，則轉(zhuǎn)動(dòng)規(guī)定的微小角度所需要的臂前端的位移量變大，能夠提高 檢測(cè)位移量的編碼器等檢測(cè)裝置的分辨率，實(shí)現(xiàn)更高精度的定位。另外，為了解決上述問題，本發(fā)明的處理裝置的特征在于包括權(quán)利要求1至權(quán)利 要求7中任一項(xiàng)記載的具有定位功能的載物臺(tái)，和與保持在所述載物臺(tái)上的處理對(duì)象物相 對(duì)配置、對(duì)處理對(duì)象物實(shí)施規(guī)定的處理的處理裝置。而且，為了解決上述問題，本發(fā)明的基板定位方法的特征在于暴露要處理的基板 的處理面并將該基板載置在載物臺(tái)上，使吸附裝置吸附在與所述處理面背向的另一面上， 向除了被所述吸附裝置吸附的區(qū)域的所述其他面上供給氣體，以所述吸附裝置為中心使所 述基板在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度進(jìn)行所述處理對(duì)象物的定位。在該情況下，進(jìn)行所述處理對(duì)象物的定位的工序通過在比規(guī)定的微小角度大的角 度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)吸附裝置之后，進(jìn)一步在所述微小角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)吸附裝置來進(jìn)行，則能夠 在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)高精度的定位。
具體實(shí)施例方式下面，參照附圖舉例說明以直接形成微細(xì)導(dǎo)電圖形等、由玻璃等制成的基板S為 處理對(duì)象物，將保持基板S的本發(fā)明實(shí)施方式的具有定位功能的載物臺(tái)適用于處理裝置即 噴墨式涂布裝置的情況。噴墨裝置包括平臺(tái)1，在該平臺(tái)1上配置正方體形狀的底板2。底板2由花崗巖等 形成以確保其上表面的平滑性，在底板2的上表面隔著規(guī)定的間隔設(shè)置有在其整個(gè)長(zhǎng)度上 沿軸方向水平延伸的左右一對(duì)軌道部件(引導(dǎo)裝置)3R、3L(參照?qǐng)D2)。在軌道部件3R、3L上往返移動(dòng)自由地設(shè)置具有定位功能的載物臺(tái)4。載物臺(tái)4包 括板狀的載物臺(tái)本體4a，在載物臺(tái)本體如的下面四個(gè)角處安裝有與軌道部件3R、3L滑動(dòng) 自由地嚙合的滑塊5。在載物臺(tái)本體如的下表面上設(shè)置有未圖示的螺母部件，在該螺母部 件上螺合有在兩根軌道部件3R、3L之間沿兩軌道部件3R、3L設(shè)置的未圖示的進(jìn)給絲杠。于 是，在驅(qū)動(dòng)與進(jìn)給絲杠的一端連接的未圖示的馬達(dá)使進(jìn)給絲杠旋轉(zhuǎn)時(shí)，載物臺(tái)4在軌道部 件3R、3L上往復(fù)移動(dòng)(下面稱該往返移動(dòng)方向?yàn)閄軸方向)。在該情況下，上述進(jìn)給絲杠和 馬達(dá)構(gòu)成本實(shí)施方式的移動(dòng)裝置。再有，移動(dòng)裝置不限于此，例如也可以使用由磁浮式可動(dòng) 元件和固定元件構(gòu)成的線性馬達(dá)。其中，在載物臺(tái)本體如的軌道部件3R、3L的X軸方向一側(cè)的位置(圖1中位于右 側(cè)的位置交接位置)上，由具有公知結(jié)構(gòu)的多關(guān)節(jié)式臂的搬運(yùn)機(jī)械手R把基板S轉(zhuǎn)移到載 物臺(tái)本體如。為了轉(zhuǎn)移基板S，設(shè)置由在底板2的上下方向上貫通該底板2縱向設(shè)置的多根支持桿6a和使該支持桿6a升降的氣缸(未圖示)構(gòu)成的提升裝置6，從而能夠從載物臺(tái) 本體如的上面將基板S推升到規(guī)定的高度位置進(jìn)行支撐(參照?qǐng)D1)。另一方面，在載物臺(tái)4的軌道部件3R、3L的X軸方向另一側(cè)的位置(圖1中位于 左側(cè)的位置處理位置)上，一邊使載物臺(tái)本體如沿夂軸方向適當(dāng)往返移動(dòng)，一邊進(jìn)行規(guī)定 的處理。本實(shí)施方式的噴墨式涂布裝置中位于軌道部件3R、3L的大致中央部位設(shè)置有處理 裝置即噴墨裝置7。噴墨裝置7包括設(shè)置在底板2上以在與X軸方向垂直的方向上跨過 載物臺(tái)本體如的門型支撐部件7a、設(shè)置在載物臺(tái)本體如上的對(duì)基板S涂布墨水的多個(gè)涂 布頭7b。各涂布頭7b，其噴嘴7c的前端位于同一水平面上并且彼此等間隔地由支架7d保 持，支架7d安裝在支撐部件7a的上側(cè)水平部上以使涂布頭7b存在于處理位置一側(cè)(圖1 中左側(cè))。在該情況下，支架7d與裝載在支持裝置7a的上側(cè)水平部?jī)?nèi)的具有馬達(dá)的進(jìn)給絲 杠(未圖示)螺合，驅(qū)動(dòng)馬達(dá)使進(jìn)給絲杠旋轉(zhuǎn)時(shí)，各涂布頭3在與X軸方向垂直的方向上一 體往返移動(dòng)(下面稱該往返移動(dòng)方向?yàn)閅軸方向)。各涂布頭7b具有公知的結(jié)構(gòu)，適當(dāng)驅(qū)動(dòng)設(shè)置在墨水腔中的壓電元件，使裝載在墨 水容器5中的墨水滴下。裝載在墨水容器5中的墨水根據(jù)要在基板S的表面上形成的圖案 適當(dāng)選擇，例如形成平板顯示器用的墊片用途的圖案時(shí)，使用由隔離粒子、粘接劑、溶劑構(gòu) 成的墨水?？墒?，如上所述由搬運(yùn)機(jī)械手R將基板S交接到載物臺(tái)本體如上時(shí)，有時(shí)基板S 相對(duì)于載物臺(tái)本體如會(huì)產(chǎn)生位置偏差。因此，在涂布墨水之前有必要進(jìn)行基板S相對(duì)于涂 布頭7b的定位(對(duì)準(zhǔn))。此時(shí)，不僅要在X軸方向和Y軸方向上進(jìn)行調(diào)節(jié)，而且還要使基板 S在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)基板S相對(duì)于各涂布頭7b的斜度(旋轉(zhuǎn)角θ )(下面稱該旋轉(zhuǎn)方 向?yàn)棣确较?，參照?qǐng)D2)。于是，第1實(shí)施方式的載物臺(tái)4包括自由吸附在基板S背面的中央?yún)^(qū)域上的吸附 裝置8，向吸附裝置8的吸附位置以外的基板S的背面區(qū)域上供給氣體的氣體供給裝置9， 向吸附裝置8施加旋轉(zhuǎn)力從而使基板S以吸附裝置8為旋轉(zhuǎn)中心在同一平面內(nèi)在θ方向 上旋轉(zhuǎn)、即對(duì)吸附裝置8進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置10(參照?qǐng)D3)。吸附裝置8包括卡板11，其裝載在載物臺(tái)本體如的中央設(shè)置的平面視圖為矩形 的凹部4b中?？ò?1例如由公知結(jié)構(gòu)的吸附墊和多孔結(jié)構(gòu)的圓板構(gòu)成，通過未圖示的排 氣管連接到真空泵。因此，使真空泵運(yùn)行時(shí)，卡板11的整個(gè)表面被吸附到基板S的背面上。 另外，在載物臺(tái)本體如的背面?zhèn)戎醒胩幫牡匦纬韶炌ò疾?b的貫通孔如，在貫通孔如 中設(shè)置套管部件12和球軸承13，由球軸承13支撐按壓部件14。在該情況下，按壓部件14 和球軸承13的內(nèi)座圈13a為使用平行鍵的鍵結(jié)合或花鍵結(jié)合(參照?qǐng)D4)。另外，按壓部件14與在該按壓部件14的下方設(shè)置的公知結(jié)構(gòu)的直動(dòng)式驅(qū)動(dòng)器15 的驅(qū)動(dòng)桿1 連接。再有，根據(jù)基板尺寸，可以用空氣氣缸代替直動(dòng)式驅(qū)動(dòng)器，在這種情況 下，采用利用氣體供給裝置9供給的氣體使該空氣氣缸運(yùn)行的結(jié)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)裝置的簡(jiǎn)化。 并且，使驅(qū)動(dòng)器15運(yùn)行時(shí)，卡板11的上表面可在從載物臺(tái)本體如的上面向上方突出的上 升位置與卡板11的上表面至少與載物臺(tái)本體的上表面在同一面上的下降位置之間自由升 降。除此之外，由后述的臂向內(nèi)座圈13a施加旋轉(zhuǎn)力時(shí)，對(duì)按壓部件14進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，以吸 附裝置8的旋轉(zhuǎn)軸即按壓部件14為旋轉(zhuǎn)中心，卡板11進(jìn)而基板S在θ方向上旋轉(zhuǎn)。
氣體供給裝置9由在載物臺(tái)本體如上表面的X方向大致整個(gè)長(zhǎng)度上形成的多個(gè) 凹槽16、在各凹槽16內(nèi)隔著規(guī)定的間隔設(shè)置的多孔結(jié)構(gòu)的氣墊17、以及由未示的壓縮機(jī)等 向各氣墊17供給壓縮空氣等的氣體管18所構(gòu)成(參照?qǐng)D2和圖4)。在該情況下，凹槽16 的個(gè)數(shù)和氣墊的配置個(gè)數(shù)根據(jù)載物臺(tái)本體如所支撐的基板S的重量適當(dāng)設(shè)定。驅(qū)動(dòng)裝置10包括板狀的臂19。臂19的一端在其中心線上與內(nèi)座圈13a銷結(jié)合。 另外，臂19的另一端與延伸到載物臺(tái)本體的側(cè)面上的、在其側(cè)面上設(shè)置的驅(qū)動(dòng)源20連接。 驅(qū)動(dòng)源20包括框架20a，在框架20a內(nèi)在X軸方向上設(shè)置具有馬達(dá)M的進(jìn)給絲杠20b。具 有螺紋孔的可動(dòng)部件20c與進(jìn)給絲杠20b螺合，在可動(dòng)部件20c的上部形成滑動(dòng)部20d，滑 動(dòng)部20d與在框架20a的上表面內(nèi)側(cè)上與進(jìn)給絲杠20b平行安裝的軌道部件20e滑動(dòng)自由 地嚙合。由此在驅(qū)動(dòng)馬達(dá)M使進(jìn)給絲杠20b旋轉(zhuǎn)時(shí)，根據(jù)馬達(dá)M的旋轉(zhuǎn)方向可動(dòng)部件20c 在X方向上自由地往復(fù)移動(dòng)(參照?qǐng)D2和圖5)。另外，在可動(dòng)部件20c的下面具有在Y軸方向上延伸的軌道部20f，在軌道部20f 上滑動(dòng)自由地嚙合支撐部件20g。在支撐部件20g的下端通過軸承20h連接臂19的另一 端。于是在使進(jìn)給絲杠20b旋轉(zhuǎn)使可動(dòng)部件20c沿著軌道部件20e移動(dòng)時(shí)，支撐部件20g 在沿著軌道部20f移動(dòng)的同時(shí)向吸附裝置8的旋轉(zhuǎn)軸即按壓部件14施加旋轉(zhuǎn)力。在該情況下，臂19在可動(dòng)部件20c的往復(fù)移動(dòng)的沖程范圍內(nèi)搖動(dòng)，構(gòu)成在規(guī)定的 微小角度范圍內(nèi)(例如1度以內(nèi))對(duì)按壓部件14進(jìn)而對(duì)吸附裝置9進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的微動(dòng)機(jī) 構(gòu)(下面用標(biāo)記10表示該驅(qū)動(dòng)裝置即微動(dòng)機(jī)構(gòu))。其中，本發(fā)明的微小角度范圍可以根據(jù) 進(jìn)行基板S的定位時(shí)要求的精度等適當(dāng)設(shè)定，通過改變可動(dòng)部件20c的往復(fù)移動(dòng)的沖程可 以調(diào)整微小角度范圍。另外，在驅(qū)動(dòng)源20上附設(shè)未圖示的光電式線性編碼器等檢測(cè)裝置， 可以檢測(cè)可動(dòng)部件20c的位移量。由此為了在規(guī)定的微小角度(例如1度)內(nèi)移動(dòng)而移動(dòng) 臂19時(shí)的可動(dòng)部件20c的位移量，與例如在按壓部件14上設(shè)置回轉(zhuǎn)式編碼器等檢測(cè)裝置 檢測(cè)旋轉(zhuǎn)位移量的情況相比，位移量變大。其結(jié)果是能夠提高檢測(cè)位移量的檢測(cè)裝置的分 辨率，實(shí)現(xiàn)更高精度的定位?？墒?，例如使載物臺(tái)本體如從交接位置移動(dòng)到處理位置上時(shí)，若將基板S僅吸附 保持在吸附裝置8上，恐怕在載物臺(tái)本體如的移動(dòng)開始之初或移動(dòng)停止時(shí)會(huì)發(fā)生基板S從 吸附裝置8脫離等的問題。因此，在載物臺(tái)本體如的上表面上，形成多條沿X軸方向和Y 方向延伸的與真空泵相通的吸附槽21 (參照?qǐng)D2)。于是，在移動(dòng)載物臺(tái)本體如的情況下， 通過對(duì)吸附槽21抽真空，可在基板S的大致整個(gè)面上吸附保持基板S。接下來說明由本實(shí)施方式的具有定位功能的載物臺(tái)4所進(jìn)行的基板S的定位。在 載物臺(tái)本體如的交接位置上使提升裝置6的各支撐桿6a上升之后，由搬運(yùn)機(jī)械手搬運(yùn)基 板S，設(shè)置為基板S被各支撐桿6a的前端所支撐(參照?qǐng)D1)。然后使各支撐桿6a下降將 基板S裝載到載物臺(tái)本體如上。再有，在涂布了墨水的基板S上，在由噴墨裝置7涂布墨 水時(shí)成為其掃描面的起點(diǎn)的位置上貼附至少一個(gè)規(guī)定形狀的標(biāo)記R(幾十ym 0. Imm左 右的標(biāo)記)(參照?qǐng)D2)。在載物臺(tái)本體如上載置基板S時(shí)，對(duì)吸附槽21抽真空，使基板S在其大致整個(gè)面 上吸附在載物臺(tái)本體如上。在該狀態(tài)下，使未圖示的進(jìn)給絲杠旋轉(zhuǎn)將載物臺(tái)本體如移動(dòng)到 處理位置上。在載物臺(tái)本體如到達(dá)處理位置上時(shí)，由安裝在噴墨裝置7的支撐部件7a上 的CCD照相機(jī)等照相裝置對(duì)基板S進(jìn)行照相，用具有公知結(jié)構(gòu)的圖像解析裝置對(duì)拍攝的圖像進(jìn)行解析，解析后的數(shù)據(jù)輸出到控制噴墨式涂布裝置動(dòng)作的微機(jī)等控制裝置(未圖示)。 數(shù)據(jù)被輸入到控制裝置中時(shí)，以基板S的標(biāo)記R為基準(zhǔn)，計(jì)算出用來調(diào)整基板位置的X軸方 向、Y軸方向和θ方向的位移量(校正值)。算出校正值時(shí)，根據(jù)其來控制移動(dòng)載物臺(tái)本體 4a的進(jìn)給絲杠用馬達(dá)和使噴墨裝置的支架7d移動(dòng)的馬達(dá)，首先進(jìn)行相對(duì)于涂布頭7a的X 軸方向和Y軸方向的定位。然后停止真空泵的動(dòng)作，解除基板S的吸附。接下來，在使驅(qū)動(dòng)器15動(dòng)作從而使卡板11上升時(shí)，從載物臺(tái)本體如的上面壓升 基板。此時(shí)，運(yùn)行與卡板11連通的真空泵和氣體供給裝置9，將基板S吸附到卡板11與基 板S的接觸位置上，同時(shí)從氣體供給裝置9的各氣墊18中噴射的氣體使除了被卡板11所 吸附的區(qū)域以外的位置(基板的邊緣部分)上浮。這樣吸附保持基板S的中央，其周圍上 浮時(shí)，驅(qū)動(dòng)微動(dòng)機(jī)構(gòu)10的馬達(dá)M，根據(jù)控制裝置所產(chǎn)生的校正值適當(dāng)旋轉(zhuǎn)進(jìn)給絲杠。由此通 過以驅(qū)動(dòng)器15為中心搖動(dòng)的臂19和按壓部件14向卡板11施加以其中心為旋轉(zhuǎn)中心的旋 轉(zhuǎn)力，相對(duì)于載物臺(tái)本體如的上表面使只有基板S根據(jù)上述校正值在θ方向上旋轉(zhuǎn)規(guī)定 的微小角度，進(jìn)行θ方向的定位(參照?qǐng)D6)。再有，不使卡板11上升而在其下降位置上從氣體供給裝置9供給氣體，嚴(yán)格上講 除了被卡板11所吸附的區(qū)域以外的部分即使不上浮，也能夠在實(shí)質(zhì)上減小了該部分與載 物臺(tái)本體如上表面的摩擦阻力的狀態(tài)下進(jìn)行θ方向的定位，從而在例如基板有彎曲的情 況下有利于正確的定位。其中，對(duì)于基板S的上浮確認(rèn)，例如可以根據(jù)連接到與各個(gè)氣墊18連通的氣體管 18上的氣體流量傳感器的流量變化量，或者在基板上表面上用激光位移儀等直接掃描基板 表面檢測(cè)高度的變化來進(jìn)行。于是，通過在上浮確認(rèn)后進(jìn)行θ方向的定位來防止基板S背 面與載物臺(tái)本體4a的接觸，可以進(jìn)行定位而不會(huì)對(duì)基板S的背面造成損傷。再有，即使在 卡板11的下降位置上旋轉(zhuǎn)基板S，由氣體供給裝置9供給的空氣層的存在也能防止對(duì)基板 S的背面造成損傷。這樣在本實(shí)施方式中，由于采用了通過氣墊18所噴射的氣體使除了吸附區(qū)域以 外的部分上浮的狀態(tài)下，或者在實(shí)質(zhì)上降低了至少除了吸附區(qū)域的部分與載物臺(tái)本體如 上表面的摩擦阻力的狀態(tài)下，僅使基板S旋轉(zhuǎn)來進(jìn)行θ方向定位的結(jié)構(gòu)，所以即使在基板S 的重量大時(shí)，也不需要大型的軸承等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，能夠避免裝置本身的大型化。并且，由于能 夠用小的推力使基板S旋轉(zhuǎn)，所以可以高精度地進(jìn)行定位而不用高性能的馬達(dá)，能夠?qū)崿F(xiàn) 低成本化。除此之外，在進(jìn)行θ方向定位期間，由于不需要移動(dòng)噴墨裝置7進(jìn)而涂布頭7b 的位置，所以在基板定位時(shí)沒有必要進(jìn)行特別的控制。上述定位結(jié)束之后，為了調(diào)整基板位置而要根據(jù)計(jì)算出的位移量(校正值)確認(rèn) 基板S是否向X軸方向、Y軸方向和θ方向發(fā)生了移動(dòng)。即，在停止氣體供給裝置9的動(dòng) 作的同時(shí)，使驅(qū)動(dòng)器15運(yùn)行降低卡板11，停止與卡板11連通的真空泵的運(yùn)行。并且，對(duì)吸 附槽21進(jìn)行抽真空，在基板S的大致整個(gè)面上將基板S吸附到載物臺(tái)本體如上。在該狀 態(tài)下，與上述方式相同，用CCD照相機(jī)等照相裝置對(duì)基板S進(jìn)行照相，用圖像解析裝置對(duì)拍 攝的圖像進(jìn)行解析，解析后的數(shù)據(jù)輸出到控制裝置。由此以基板S的標(biāo)記R為基準(zhǔn)進(jìn)行上 述確認(rèn)。這樣在結(jié)束定位之后，在基板S被再次吸附在載物臺(tái)本體如上的狀態(tài)下進(jìn)行確 認(rèn)，就可以進(jìn)行上述確認(rèn)而不受基板S在存在于載物臺(tái)本體如上的情況與上浮的情況之間產(chǎn)生的位置偏差的影響。接下來，X軸方向、Y軸方向和θ方向的基板S的定位確認(rèn)結(jié)束時(shí)，在使載物臺(tái)如 在X方向上適當(dāng)往復(fù)移動(dòng)、各涂布頭7a —體地在Y軸方向上往復(fù)移動(dòng)的同時(shí)，沿基板的掃 描面移動(dòng)各涂布頭7b，按照預(yù)先確定的圖形向基板S涂布墨水。此時(shí)，將基板S的中央向上 提升，能夠在由氣墊18噴射的氣體使基板S的邊緣部分上浮的狀態(tài)下涂布墨水，另一方面， 將基板S再次裝載到載物臺(tái)本體如上，可對(duì)吸附槽21進(jìn)行抽真空，在基板S在其大致整個(gè) 面上吸附到載物臺(tái)本體如上的狀態(tài)下進(jìn)行墨水的涂布。再有，在上述實(shí)施方式中，說明了僅通過氣墊18噴射的氣體使基板S上浮的情況， 但是為了使基板穩(wěn)定地上浮，也可以在吸附槽21的抽真空時(shí)，一邊均衡地保持與氣墊18噴 射的氣體的壓力之間的平衡，一邊使基板S上浮。另外，作為氣墊18，也可以采用能夠同時(shí) 進(jìn)行氣體的噴出和抽真空的結(jié)構(gòu)。另外，在上述實(shí)施方式中，以基板S僅在θ方向旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行了說明，但是 也可以將暴露基板S的處理面并保持基板S的保持盤旋轉(zhuǎn)自由地設(shè)置在載物臺(tái)本體上。S卩，參照?qǐng)D7至圖9進(jìn)行說明，根據(jù)第1變形例的具有定位功能的載物臺(tái)30與上述 相同，往復(fù)移動(dòng)自由地設(shè)置在底板2的上表面上設(shè)置的左右一對(duì)軌道部件3R、3L上。載物 臺(tái)30包括板狀的載物臺(tái)本體31，在載物臺(tái)本體31下表面的四個(gè)角上安裝與軌道部件3R、 3L滑動(dòng)自由地嚙合的滑塊32。于是，載物臺(tái)本體31與上述相同，在兩條軌道部件3R、3L之 間使沿兩軌道部件3R、3L設(shè)置的未圖示的進(jìn)給絲杠旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿軌道部件3R、3L往復(fù)移動(dòng)。在載物臺(tái)本體31上旋轉(zhuǎn)自由地設(shè)置能夠吸附保持基板S的板狀的保持盤33。在 保持盤33的背面多個(gè)位置具有凹狀的凹形空間33b，從而形成保持該保持盤33的強(qiáng)度的 同時(shí)確保其表面平滑性的肋部33a。另外，在保持盤33的背面中央形成旋轉(zhuǎn)軸33c，該旋轉(zhuǎn) 軸33c被在載物臺(tái)本體31的中央形成的貫通孔中通過套筒部件34設(shè)置的球軸承35支撐。 在該情況下，與上述相同，旋轉(zhuǎn)軸33c與球軸承35的內(nèi)座圈3 成為使用平行鍵的鍵結(jié)合 或花鍵結(jié)合，另外，在后述的氣體供給裝置的非運(yùn)行狀態(tài)下，肋部33a的下表面與載物臺(tái)本 體31的上表面接觸(參照?qǐng)D7)。在載物臺(tái)本體31上包括向保持盤33的凹形空間33供給氣體的氣體供給裝置36、 和對(duì)保持盤33進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)以使保持了基板S的保持盤33在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的微動(dòng)機(jī)構(gòu) 37。氣體供給裝置36由在載物臺(tái)本體31上表面規(guī)定位置處形成的平面視圖為圓形的 凹孔36a、分別裝在該凹孔36a內(nèi)的多孔結(jié)構(gòu)的氣墊36b、向各氣墊36b供給壓縮空氣等氣 體的氣體管36c構(gòu)成(參照?qǐng)D7)。微動(dòng)裝置即微動(dòng)機(jī)構(gòu)37包括安裝在載物臺(tái)本體31的一個(gè)側(cè)面上的框架37a，在 框架37a上沿X軸方向設(shè)置具有馬達(dá)M的進(jìn)給絲杠37b。在進(jìn)給絲杠37b上螺合有形成了 螺紋孔的可動(dòng)部件37c，在可動(dòng)部件37c的下部形成滑塊37d，滑塊部37d與在框架37a的 下表面內(nèi)側(cè)與進(jìn)給絲杠37b平行安裝的軌道部件37e滑動(dòng)自由地嚙合。由此在運(yùn)行馬達(dá)M 使進(jìn)給絲杠37b旋轉(zhuǎn)時(shí)，根據(jù)馬達(dá)M的旋轉(zhuǎn)方向可動(dòng)部件37c在X軸方向上自由往復(fù)移動(dòng) (參照?qǐng)D8)。另外，在可動(dòng)部件37c的上表面上形成沿Y軸方向延伸的軌道部37f，在軌道部 37f上滑動(dòng)自由地嚙合由支撐部件37g。并且在支撐部件37g的上端通過軸承3 安裝臂37i，臂37i與保持盤33的側(cè)面連接。于是旋轉(zhuǎn)進(jìn)給絲杠37b使可動(dòng)部件37c沿軌道部件 37e移動(dòng)時(shí)，支撐部件37g在沿軌道部37f移動(dòng)的同時(shí)向保持盤33施加旋轉(zhuǎn)力進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū) 動(dòng)。在該情況下，在可動(dòng)部件37c的往復(fù)移動(dòng)的沖程范圍內(nèi)，臂37i搖動(dòng)從而在規(guī)定的微小 角度范圍內(nèi)(例如1度以內(nèi))對(duì)保持盤33進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。另外，在支撐部件37g與臂37i 之間附設(shè)加到軸承3 上并允許臂37i相對(duì)于支撐部件37g的上下移動(dòng)的鍵槽軌道37j。在保持盤33的上表面上，可采用下述結(jié)構(gòu)，即與真空泵連通的吸附槽38沿X軸方 向和Y軸方向適當(dāng)形成，通過對(duì)吸附槽38進(jìn)行抽真空，在基板S的大致整個(gè)面上吸附保持 基板S(參照?qǐng)D9)。并且，在進(jìn)行θ方向定位的情況下，在基板S的在大致整個(gè)區(qū)域上吸附保持基板S 的狀態(tài)下，向氣體供給裝置36的各氣墊36b供給壓縮空氣等氣體。由此成為保持盤33從 載物臺(tái)本體31的上表面上浮的狀態(tài)或壓縮空氣使兩者的摩擦阻力實(shí)質(zhì)上減小的狀態(tài)。此 時(shí)，由于保持盤33上浮，所以在與載物臺(tái)本體31連接的微動(dòng)機(jī)構(gòu)37與保持盤33之間產(chǎn)生 高度方向的偏差(間隙)，但是鍵槽軌道37j能夠消除由該偏差產(chǎn)生的機(jī)械矛盾，即能夠吸 收該偏差。接下來，驅(qū)動(dòng)微動(dòng)機(jī)構(gòu)37的馬達(dá)M，與上述方式相同，根據(jù)控制裝置產(chǎn)生的校正值 適當(dāng)旋轉(zhuǎn)進(jìn)給絲杠37b。由此通過臂37i對(duì)保持盤33進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，以旋轉(zhuǎn)軸33c為旋轉(zhuǎn) 中心相對(duì)于載物臺(tái)本體31的上表面吸附保持基板S的保持盤33，在θ方向上僅旋轉(zhuǎn)規(guī)定 的角度。這樣在上述第1變形例中，具有使保持基板S的保持盤33旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)，但是通過 在保持盤33的背面形成凹形空間3 而被輕量化，再加上從氣墊36b供給氣體使除了與旋 轉(zhuǎn)軸33c連接的位置以外的部分上浮，例如即使在需處理的基板S的重量較大時(shí)，也不需要 大型的軸承等旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，能夠避免裝置本身的大型化，而且由于能夠用小的推力旋轉(zhuǎn)基板 S，所以可以高精度地進(jìn)行定位而不用高性能的馬達(dá)。在上述第1變形例中，說明了使基板S或保持基板S的保持盤33在θ方向上旋轉(zhuǎn) 的結(jié)構(gòu)，但是也可以在載物臺(tái)本體上進(jìn)一步安裝例如具有馬達(dá)進(jìn)給絲杠的驅(qū)動(dòng)裝置，以在X 軸方向和Y軸方向上也能夠自由移動(dòng)，能夠進(jìn)行這兩個(gè)方向上的定位。另外，在上述實(shí)施方式和第1變形例中，說明了由微動(dòng)機(jī)構(gòu)10構(gòu)成的裝置作為驅(qū) 動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)，但是不限于此。例如為了在使基板S在θ方向上移動(dòng)的同時(shí)涂布規(guī)定的墨 水，驅(qū)動(dòng)裝置也可以由吸附裝置8能夠在比微動(dòng)機(jī)構(gòu)大的角度范圍內(nèi)，根據(jù)情況也可使基 板S旋轉(zhuǎn)90度或180度的粗動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成。作為包括這樣的粗動(dòng)機(jī)構(gòu)的第2變形例，如圖10 所示，由安裝在驅(qū)動(dòng)器15的驅(qū)動(dòng)桿1 上、與球軸承13的內(nèi)座圈13a連接的蝸輪101，和 支撐在被固定在未圖示的框架上、由未圖示的馬達(dá)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的蝸桿102構(gòu)成粗動(dòng)機(jī)構(gòu) 100。另外，粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100不限于上述結(jié)構(gòu)，也可以采用DD馬達(dá)等其他公知的結(jié)構(gòu)。另一方面，作為第3變形例，如圖11和圖12所示，也可以設(shè)置由包括臂19和驅(qū)動(dòng) 源20的微動(dòng)機(jī)構(gòu)10及包括蝸輪101和蝸桿102的粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100構(gòu)成驅(qū)動(dòng)裝置。在該情況 下，粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100的蝸輪101與內(nèi)座圈13a連接，在旋轉(zhuǎn)自由地支撐與蝸輪101嚙合的蝸桿 102的外殼103的下表面上固定臂19的一端。在上述驅(qū)動(dòng)裝置中，通過設(shè)置在外殼103上的馬達(dá)M對(duì)粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100的蝸桿102進(jìn) 行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)時(shí)，蝸輪101旋轉(zhuǎn)，隨著與其連接的內(nèi)座圈13a旋轉(zhuǎn)按壓部件14旋轉(zhuǎn)。于是，卡板11旋轉(zhuǎn)，在比微動(dòng)機(jī)構(gòu)10大的角度范圍內(nèi)使基板S在θ方向上旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，旋轉(zhuǎn)力未 傳導(dǎo)到臂19上。接著，驅(qū)動(dòng)源20開始驅(qū)動(dòng)(參照?qǐng)D1及圖2)，臂19以驅(qū)動(dòng)器15為中心搖 動(dòng)。此時(shí)，固定在臂19上的外殼103與蝸桿102 —起搖動(dòng)，通過伴隨上述搖動(dòng)蝸輪101的 旋轉(zhuǎn)，按壓部件14及卡板11旋轉(zhuǎn)，使基板S以規(guī)定的微小角度在θ方向上旋轉(zhuǎn)。通過這種結(jié)構(gòu)，為了對(duì)吸附裝置8進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)，可以由微動(dòng)機(jī)構(gòu)10和粗動(dòng)機(jī)構(gòu) 100向共用的旋轉(zhuǎn)軸即按壓部件14施加旋轉(zhuǎn)力。其結(jié)果是能夠共用用來對(duì)吸附裝置8進(jìn) 行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)軸(按壓部件14)，從而避免驅(qū)動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。并且，在進(jìn)行θ 方向的定位時(shí)，還能夠平滑地從由粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)向由微動(dòng)機(jī)構(gòu)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) 轉(zhuǎn)換。另外，例如由拍照裝置對(duì)基板S進(jìn)行拍照，以基板S的標(biāo)記R為基準(zhǔn)算出要調(diào)整基 板S的位置的θ方向的位移量(校正值)時(shí)，在標(biāo)記R過度超出拍照裝置的拍照范圍的情 況下或算出的校正值超出微動(dòng)機(jī)構(gòu)可以進(jìn)行定位的微小角度范圍的情況下，可以首先由粗 動(dòng)機(jī)構(gòu)100高速將基板S旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)到目標(biāo)位置的附近(即，微動(dòng)機(jī)構(gòu)10能夠進(jìn)行定位的角 度范圍)，根據(jù)情況，由拍照裝置對(duì)基板S再次進(jìn)行拍照，以基板S的標(biāo)記R為基準(zhǔn)算出校正 值，接著由微動(dòng)機(jī)構(gòu)10進(jìn)行高精度的定位。由此能夠?qū)崿F(xiàn)高精度并且短時(shí)間的定位。其中，在驅(qū)動(dòng)裝置具有微動(dòng)機(jī)構(gòu)10和粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100的上述第3變形例中，來自于 各機(jī)構(gòu)10、100的旋轉(zhuǎn)力被輸入到按壓部件14，但是不限于此。作為第4變形例，如圖13所 示，可以通過與按壓部件14同心地、借助微動(dòng)驅(qū)動(dòng)用軸承201a設(shè)置另一中空旋轉(zhuǎn)軸201，在 裝載蝸輪101和蝸桿102的外殼202的上面連接該中空旋轉(zhuǎn)軸201的下面來構(gòu)成。由此對(duì) 粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100的蝸桿102進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)時(shí)，按壓部件14旋轉(zhuǎn)而不會(huì)將旋轉(zhuǎn)力傳送到臂19。 另一方面，驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)源20時(shí)，臂19以驅(qū)動(dòng)器15為中心搖動(dòng)，通過外殼202與臂19連接的 中空旋轉(zhuǎn)軸201旋轉(zhuǎn)，與此相伴通過蝸輪101使按壓部件14旋轉(zhuǎn)。作為其他的變形例，沒有特別圖示，但是在與按壓部件14同心地設(shè)置中空旋轉(zhuǎn)軸 201的情況下，還可以具有將來自于微動(dòng)機(jī)構(gòu)10的旋轉(zhuǎn)力僅傳送到中空旋轉(zhuǎn)軸201的結(jié)構(gòu)。 在該情況下，還可以在中空旋轉(zhuǎn)軸201上附設(shè)上下移動(dòng)該中空旋轉(zhuǎn)軸201的驅(qū)動(dòng)器(未圖 示)，在由粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100通過按壓部件14使基板S旋轉(zhuǎn)時(shí)，僅使按壓部件14上升按壓卡板 11，另一方面，由微動(dòng)機(jī)構(gòu)10通過中空旋轉(zhuǎn)軸201使基板S旋轉(zhuǎn)時(shí)，僅使中空旋轉(zhuǎn)軸201上 升按壓卡板11來構(gòu)成。再有，在附設(shè)上下移動(dòng)中空旋轉(zhuǎn)軸201的驅(qū)動(dòng)器的情況下，不需要 使施加來自微動(dòng)機(jī)構(gòu)10的旋轉(zhuǎn)力的旋轉(zhuǎn)軸(按壓部件)與施加來自粗動(dòng)機(jī)構(gòu)100的旋轉(zhuǎn) 力的旋轉(zhuǎn)軸(中空旋轉(zhuǎn)軸)同心設(shè)置。而且，在上述實(shí)施方式和各變形例中，以將具有定位功能的載物臺(tái)4、30適用于涂 布裝置的結(jié)構(gòu)為例進(jìn)行了說明，但是不限定于此。例如，本發(fā)明也適用于如在半導(dǎo)體裝置的 制造工藝中所進(jìn)行的背面研磨工序，對(duì)移動(dòng)自由地設(shè)置的載物臺(tái)上所設(shè)置的晶片(處理對(duì) 象物)，從其相對(duì)一側(cè)用切削工具(處理裝置)進(jìn)行規(guī)定的加工的情況，可以進(jìn)行處理對(duì)象 物相對(duì)于切削工具的定位。


圖1是本發(fā)明實(shí)施方式的包括具有定位功能的載物臺(tái)噴墨式涂布裝置的側(cè)面示 意圖。
圖2是說明載物臺(tái)本體的噴墨式涂布裝置的局部平面圖。圖3是說明載物臺(tái)本體的結(jié)構(gòu)的噴墨式涂布裝置的局部剖面圖。圖4是圖3的IV部局部放大剖面圖。圖5是圖3的V部局部放大剖面圖。圖6是說明通過本發(fā)明的載物臺(tái)進(jìn)行θ方向的基板定位示意圖。圖7是說明本發(fā)明的具有定位功能的載物臺(tái)的第1變形例的側(cè)面示意圖。圖8是圖7的VDI部局部放大剖面圖。圖9是圖7中示出的載物臺(tái)的平面圖。圖10是說明本發(fā)明的具有定位功能的載物臺(tái)的第2變形例的局部剖面圖。圖11是說明本發(fā)明的具有定位功能的載物臺(tái)的第3變形例的局部剖面圖。圖12是第3變形例的具有定位功能的載物臺(tái)的驅(qū)動(dòng)裝置的局部立體圖。圖13是說明本發(fā)明的具有定位功能的載物臺(tái)的第4變形例的局部剖面圖。附圖標(biāo)記說明3R、3L軌道部件(引導(dǎo)部件)4、30 載物臺(tái)4a、31載物臺(tái)本體8吸附裝置9氣體供給裝置10微動(dòng)機(jī)構(gòu)(驅(qū)動(dòng)裝置)100粗動(dòng)機(jī)構(gòu)(驅(qū)動(dòng)裝置)21吸附槽33保持盤S基板(處理對(duì)象物)
權(quán)利要求
1.一種具有定位功能的載物臺(tái)，包括暴露處理對(duì)象物的處理面并保持處理對(duì)象物的載 物臺(tái)本體，其特征在于包括可自由吸附在與所述處理對(duì)象物的所述處理面相對(duì)的另一面上的吸附裝置、向所 述吸附裝置上的吸附位置以外的區(qū)域供給氣體的氣體供給裝置、對(duì)所述吸附裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動(dòng)以使所述處理對(duì)象物以所述吸附裝置為旋轉(zhuǎn)中心在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置。
2.一種具有定位功能的載物臺(tái)，包括暴露處理對(duì)象物的處理面并保持處理對(duì)象物的保 持盤、旋轉(zhuǎn)自由地支撐所述保持盤的載物臺(tái)本體，其特征在于包括向所述保持盤中處理對(duì)象物的處理面相對(duì)的另一面供給氣體的氣體供給裝置、對(duì) 所述保持盤進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)以使所述保持盤在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于還包括引導(dǎo)裝置、使 所述載物臺(tái)本體沿所述弓I導(dǎo)裝置移動(dòng)的移動(dòng)裝置。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于包括在所 述載物臺(tái)本體或保持盤的與所述處理對(duì)象物接觸的面上形成吸附槽，在將所述處理對(duì)象物 載置在載物臺(tái)上或保持盤上的狀態(tài)下，對(duì)所述吸附槽抽真空的真空泵。
5.權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)裝 置由使所述吸附裝置在規(guī)定的微小角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的微動(dòng)機(jī)構(gòu)、使所述吸附裝置在比微動(dòng) 機(jī)構(gòu)大的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)的粗動(dòng)機(jī)構(gòu)構(gòu)成。
6.權(quán)利要求5所述的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于所述粗動(dòng)機(jī)構(gòu)連接到所述 吸附裝置，所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)包括臂和搖動(dòng)該臂的驅(qū)動(dòng)源，所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述粗動(dòng)機(jī)構(gòu)連接， 從而在該驅(qū)動(dòng)源使該臂搖動(dòng)時(shí)，通過粗動(dòng)機(jī)構(gòu)來對(duì)所述吸附裝置進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。
7.權(quán)利要求5或6所述的具有定位功能的載物臺(tái)，其特征在于所述微動(dòng)機(jī)構(gòu)的臂具 有至少伸展到載物臺(tái)本體一側(cè)的長(zhǎng)度，其前端與所述驅(qū)動(dòng)源連接。
8.—種處理裝置，其特征在于包括權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的具有定位功能的 載物臺(tái)，和與保持在所述載物臺(tái)上的處理對(duì)象物相對(duì)配置、對(duì)處理對(duì)象物實(shí)施規(guī)定的處理 的處理裝置。
9.一種基板定位方法，其特征在于包括暴露要處理的處理對(duì)象物的處理面并將該基板載置在載物臺(tái)上的工序；使設(shè)置在所述載物臺(tái)上的吸附裝置吸附在與所述處理對(duì)象物的所述處理面相對(duì)的另 一面上的工序；向除了被所述吸附裝置吸附的區(qū)域以外的所述其他區(qū)域上供給氣體的工序；使所述基板以所述吸附裝置為旋轉(zhuǎn)中心在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)規(guī)定的角度，從而對(duì)所述處 理對(duì)象物進(jìn)行定位的工序。
10.如權(quán)利要求9所述的基板定位方法，其特征在于對(duì)所述處理對(duì)象物進(jìn)行定位的工 序，在比規(guī)定的微小角度大的角度范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)吸附裝置之后，進(jìn)一步在所述微小角度范圍 內(nèi)旋轉(zhuǎn)吸附裝置來進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有定位功能的載物臺(tái)，該載物臺(tái)即使在處理對(duì)象物重量大的情況下，也能夠高精度并且容易地進(jìn)行特別是θ方向的定位，且成本低。該具有定位功能的載物臺(tái)具有暴露基板(S)處理面并保持基板(S)的載物臺(tái)本體(4a)，還包括可自由地吸附在與所述的基板處理面相對(duì)的另外一面上的吸附裝置(8)、向所述吸附裝置上吸附位置以外的區(qū)域供給氣體的氣體供給裝置(9)和向所述吸附裝置施加旋轉(zhuǎn)力使基板以所述吸附裝置為旋轉(zhuǎn)中心在同一平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置(10)。
文檔編號(hào)B65G49/07GK102057477SQ20098012084
公開日2011年5月11日 申請(qǐng)日期2009年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月3日
發(fā)明者佐藤誠(chéng)一, 南展史, 武者和博, 矢作充, 高橋誠(chéng) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社愛發(fā)科