轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)包含安裝于底座上的電機(jī)固定支架（2）和開關(guān)支架（3），所述電機(jī)固定支架（2）上設(shè)置有電機(jī)（6），所述電機(jī)（6）豎向向上設(shè)置的輸出軸上套裝有托盤（7），所述托盤（7）上固定壓置有一圓轉(zhuǎn)盤（5）。本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤提拉鍍膜機(jī)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且運(yùn)行穩(wěn)定性好。
【專利說明】轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]提拉鍍膜機(jī)是一款專門為液相制備薄膜材料而設(shè)計(jì)的精密儀器，可在不同液體中浸潰提拉生長(zhǎng)薄膜；提拉速度、提拉高度、浸潰時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)；對(duì)鍍膜基質(zhì)無特殊要求，運(yùn)行穩(wěn)定，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率，適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。如中國(guó)專利ZL201010515528.4公布的“一種數(shù)控提拉式鍍膜機(jī)”，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜，且運(yùn)行穩(wěn)定性較差。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于克服上述不足，提供一種轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且運(yùn)行穩(wěn)定性好的轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，且能夠?qū)崿F(xiàn)轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)多工位復(fù)合膜提拉。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤包含有安裝于底座上的電機(jī)固定支架和開關(guān)支架，所述電機(jī)固定支架上設(shè)置有電機(jī)，所述電機(jī)豎向向上設(shè)置的輸出軸上套裝有托盤，所述托盤上固定壓置有一圓轉(zhuǎn)盤。
[0005]本實(shí)用新型一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤還包含有一安裝于底座上的支柱，所述支柱的頂部與一靜音轉(zhuǎn)盤的外圈相連接，所述靜音轉(zhuǎn)盤的內(nèi)圈與圓轉(zhuǎn)盤相連接。
[0006]本實(shí)用新型一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述圓轉(zhuǎn)盤的底部均勻設(shè)置有多個(gè)感應(yīng)片，所述開關(guān)支架上設(shè)置有一與感應(yīng)片相對(duì)應(yīng)匹配的光電開關(guān)。
[0007]本實(shí)用新型一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述電機(jī)的輸出軸和托盤之間通過鎖緊螺絲進(jìn)行連接。
[0008]本實(shí)用新型一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述圓轉(zhuǎn)盤和托盤之間通過沉頭螺絲相連接。
[0009]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:
[0010]本實(shí)用新型旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單、實(shí)用方便；且通過設(shè)置靜音轉(zhuǎn)盤后，使得轉(zhuǎn)動(dòng)更為平穩(wěn)，有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量；并且通過光電開關(guān)與感應(yīng)片的配合，可方便對(duì)圓轉(zhuǎn)盤實(shí)時(shí)所處區(qū)域進(jìn)行偵測(cè)和控制，有利于生產(chǎn)時(shí)對(duì)轉(zhuǎn)盤實(shí)時(shí)控制和保證產(chǎn)品的質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]其中:
[0013]支柱1、電機(jī)固定支架2、開關(guān)支架3、靜音轉(zhuǎn)盤4、圓轉(zhuǎn)盤5、電機(jī)6、托盤7、感應(yīng)片
8、光電開關(guān)9、鎖緊螺絲10?！揪唧w實(shí)施方式】
[0014]參見圖1，本實(shí)用新型涉及的一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，所述轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤包含有安裝于底座上的支柱1、電機(jī)固定支架2和開關(guān)支架3，所述電機(jī)固定支架2上設(shè)置有電機(jī)6，所述電機(jī)6豎向向上設(shè)置的輸出軸上套裝有托盤7 (電機(jī)6的輸出軸和托盤7之間通過鎖緊螺絲10進(jìn)行連接)，所述托盤7上固定壓置有一圓轉(zhuǎn)盤5 (圓轉(zhuǎn)盤5和托盤7之間通過沉頭螺絲相連接)，所述支柱I的頂部與一靜音轉(zhuǎn)盤4的外圈相連接，所述靜音轉(zhuǎn)盤4的內(nèi)圈與圓轉(zhuǎn)盤5相連接；
[0015]同時(shí)，所述圓轉(zhuǎn)盤5的底部均勻設(shè)置有多個(gè)感應(yīng)片8，上述開關(guān)支架3上設(shè)置有一與感應(yīng)片8相對(duì)應(yīng)匹配的光電開關(guān)9 ;如在本實(shí)施例中，圓轉(zhuǎn)盤5分隔為六個(gè)等分區(qū)域，感應(yīng)片8相應(yīng)的設(shè)置有六個(gè)，六個(gè)燒杯分別放置于上述六個(gè)等分區(qū)域內(nèi)，光電開關(guān)9用于偵測(cè)當(dāng)前所處區(qū)域，從而可方便的控制燒杯的位置。
[0016]需要注意的是，上述實(shí)施方式僅為本專利的一個(gè)最優(yōu)化方案，本領(lǐng)域的技術(shù)人員根據(jù)上述構(gòu)思所的任何改動(dòng)或改進(jìn)均在本專利的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤包含有安裝于底座上的電機(jī)固定支架(2)和開關(guān)支架(3)，所述電機(jī)固定支架(2)上設(shè)置有電機(jī)(6)，所述電機(jī)(6)豎向向上設(shè)置的輸出軸上套裝有托盤(7)，所述托盤(7)上固定壓置有一圓轉(zhuǎn)盤(5)。
2.如權(quán)利要求1所述一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，其特征在于:所述提拉鍍膜機(jī)的轉(zhuǎn)盤還包含有一安裝于底座上的支柱(1)，所述支柱(I)的頂部與一靜音轉(zhuǎn)盤(4)的外圈相連接，所述靜音轉(zhuǎn)盤(4)的內(nèi)圈與圓轉(zhuǎn)盤(5)相連接。
3.如權(quán)利要求1所述一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，其特征在于:所述圓轉(zhuǎn)盤(5)的底部均勻設(shè)置有多個(gè)感應(yīng)片(8)，所述開關(guān)支架(3)上設(shè)置有一與感應(yīng)片(8)相對(duì)應(yīng)匹配的光電開關(guān)(9)。
4.如權(quán)利要求1、2或3所述一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，其特征在于:所述電機(jī)(6)的輸出軸和托盤(7)之間通過鎖緊螺絲(10)進(jìn)行連接。
5.如權(quán)利要求1、2或3所述一種轉(zhuǎn)盤式提拉鍍膜機(jī)，其特征在于:所述圓轉(zhuǎn)盤(5)和托盤(7)之間通過沉頭螺絲相連接。
【文檔編號(hào)】B05C3/09GK203695350SQ201420068865
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年2月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月18日
【發(fā)明者】宣海, 汪竹, 陳建鋒, 錢燕娟 申請(qǐng)人:江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司