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一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置的制造方法

文檔序號(hào):10946336閱讀:786來源:國(guó)知局
一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,包括酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置(1)、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置(2)和反應(yīng)釜(3),反應(yīng)釜(3)由蒸氣室(4)進(jìn)行加熱,反應(yīng)釜(3)底部出口與板框壓濾機(jī)(5)連接,板框壓濾機(jī)(5)分別與真空干燥機(jī)(6)和與蒸餾釜連接,真空干燥機(jī)(6)用于對(duì)板框壓濾機(jī)(5)分離后的固體物質(zhì)進(jìn)行干燥,蒸餾釜用于對(duì)板框壓濾機(jī)(5)分離后的母液進(jìn)行蒸餾濃縮。該裝置具有生產(chǎn)流程短、工藝簡(jiǎn)單、能耗低、操作方便、適應(yīng)性廣的優(yōu)勢(shì);實(shí)現(xiàn)了蝕刻廢液有效成分的全部資源化利用、無害化目標(biāo)。
【專利說明】
一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于電子工業(yè)電鍍廢水處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]電子工業(yè)上使用電鍍的情況非常多,其中硫酸銅電鍍?cè)赑CB電鍍中占著極為重要的地位,所以在使用中會(huì)產(chǎn)生相當(dāng)多的硫酸銅廢液,廢液如果直接排放會(huì)嚴(yán)重污染環(huán)境,而且浪費(fèi)資源。
[0003]目前,有多種方式回收蝕刻廢液中的銅,有代表性的技術(shù)包括:1.化學(xué)法。在廢液中加入NaOH,與銅離子結(jié)合生成氫氧化銅沉淀,再制成CuO或CuS04結(jié)晶等,這種方法可以回收Cu,但消耗化學(xué)品較高,能耗大,而且產(chǎn)生難處理的廢水,廢水中Cu離子濃度超標(biāo),廢液中的大量氨也難以降解,需要花大量的成本進(jìn)行在處理;2.直接電解法。3.萃取后電解的銅。
[0004]此外,專利CN1903732A公開了一種用線路板蝕刻廢液生產(chǎn)氧氯化銅的方法,其通過在酸性蝕刻液和堿性蝕刻液中分別加入凝聚還原劑,過濾分別得到兩種蝕刻液的澄清液,然后將兩種澄清液進(jìn)行中和反應(yīng),反應(yīng)溫度為75-85°C,控制pH值為4.5-5.5,制得氧氯化銅晶體。但該方法在進(jìn)行中和反應(yīng)前需對(duì)蝕刻液進(jìn)行凝聚澄清、去除雜質(zhì),對(duì)反應(yīng)液要求高,且操作復(fù)雜,同時(shí)反應(yīng)液中的氧氯化銅收率低,純度也相對(duì)較低,需進(jìn)行再次提純,不能直接作為原料使用。
[0005]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,我公司創(chuàng)新性地提供一種從酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液中回收銅、生產(chǎn)氧氯化銅的的裝置,以實(shí)現(xiàn)蝕刻廢液有效成分的全部資源化利用,節(jié)約資源,實(shí)現(xiàn)處置危險(xiǎn)廢物的資源化、無害化目標(biāo),保護(hù)環(huán)境;
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,進(jìn)一步的提高了蝕刻廢液的處理效率,實(shí)現(xiàn)處置危險(xiǎn)廢物的資源化、無害化目標(biāo);以及提高了氧氯化銅的回收率和純度,不需進(jìn)行再次提純,可直接作為原料使用,從而降低蝕刻液的處理成本,提企業(yè)高經(jīng)濟(jì)效益。
[0007]本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案:
[0008]本實(shí)用新型提供了一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,包括包括酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置1、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置2和反應(yīng)釜3,所述反應(yīng)釜3由蒸氣室4進(jìn)行加熱,所述反應(yīng)釜3底部出口與板框壓濾機(jī)5連接,所述板框壓濾機(jī)5分別與真空干燥機(jī)6和與蒸餾釜連接,所述真空干燥機(jī)6用于對(duì)板框壓濾機(jī)5分離后的固體物質(zhì)進(jìn)行干燥,所述蒸餾釜用于對(duì)板框壓濾機(jī)5分離后的母液進(jìn)行蒸餾濃縮。
[0009]進(jìn)一步地,所述反應(yīng)釜3上設(shè)有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)溶液pH值的pH值傳感器7。
[0010]進(jìn)一步地,所述反應(yīng)釜3上設(shè)置有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)反應(yīng)溫度的溫度傳感器8。
[0011]進(jìn)一步地,所述反應(yīng)釜3內(nèi)設(shè)有螺旋式攪拌槳。
[0012]進(jìn)一步地,還包括用于控制該裝置自動(dòng)化運(yùn)行的PCL控制系統(tǒng)。
[0013]進(jìn)一步地,所述蒸餾釜的出液口通過管道依次與結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)相連通,所述結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)分別對(duì)蒸餾釜濃縮后的液體進(jìn)行冷卻結(jié)晶、分離。
[0014]進(jìn)一步地,所述離心機(jī)的母液出口通過管道分別與所述反應(yīng)釜3和蒸餾釜相連通。
[0015]本實(shí)用新型采用以上技術(shù)方案,與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下技術(shù)效果:
[0016]本實(shí)用新型裝置從酸性蝕刻廢液和堿性蝕刻廢液中生產(chǎn)氧氯化銅的方法,實(shí)現(xiàn)了蝕刻廢液有效成分的全部資源化利用,節(jié)約資源,實(shí)現(xiàn)處置危險(xiǎn)廢物的資源化、無害化目標(biāo),保護(hù)環(huán)境;銅的回收率可以達(dá)到99%以上,氧氯化銅的含量可以達(dá)到99.5%以上,不需進(jìn)行再次提純,可直接作為原料使用;降低蝕刻液的處理成本,提企業(yè)高經(jīng)濟(jì)效益,具有良好的市場(chǎng)前景;且該生產(chǎn)裝置具有生產(chǎn)流程短、工藝簡(jiǎn)單、能耗低、操作方便、適應(yīng)性廣的優(yōu)勢(shì)。
【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]其中,1-酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置,2-堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置,3-反應(yīng)釜,4-蒸氣室,5-板框壓濾機(jī),6-真空干燥機(jī),7-pH值傳感器,8-溫度傳感器。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0020]如圖1所示,本實(shí)用新型提供了一種利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,包括包括酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置1、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置2和反應(yīng)釜3,所述反應(yīng)釜3由蒸氣室4進(jìn)行加熱,所述反應(yīng)釜3底部出口與板框壓濾機(jī)5連接,所述板框壓濾機(jī)5分別與真空干燥機(jī)6和與蒸餾釜連接,所述真空干燥機(jī)6用于對(duì)板框壓濾機(jī)5分離后的固體物質(zhì)進(jìn)行干燥,所述蒸餾釜用于對(duì)板框壓濾機(jī)5分離后的母液進(jìn)行蒸餾濃縮。
[0021]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例,所述反應(yīng)釜3上設(shè)置有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)溶液pH值的pH值傳感器7;所述反應(yīng)釜3上設(shè)置有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)反應(yīng)溫度的溫度傳感器8;所述反應(yīng)釜3內(nèi)設(shè)有螺旋式攪拌槳。
[0022]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例,還包括用于控制該裝置自動(dòng)化運(yùn)行的PCL控制系統(tǒng)。
[0023]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例,所述蒸餾釜的出液口通過管道依次與結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)相連通,所述結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)分別對(duì)蒸餾釜濃縮后的液體進(jìn)行冷卻結(jié)晶、分離;所述離心機(jī)的母液出口通過管道分別與所述反應(yīng)釜3和蒸餾釜相連通。
[0024]本實(shí)用新型利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置的使用原理為:通過在反應(yīng)釜3內(nèi)加入一定量的水,通過蒸氣室4將水加熱至65-75 0C,在攪拌條件下,同時(shí)分別將酸性蝕刻液和堿性蝕刻液從酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置1、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置2加入反應(yīng)釜3內(nèi);保持反應(yīng)釜3內(nèi)的溫度在45-55°C,攪拌均勻,不斷控制酸性蝕刻液和堿性蝕刻液的加入量,通過pH值傳感器7和溫度傳感器8對(duì)PH值進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)、調(diào)節(jié),使反應(yīng)混合溶液的pH值持續(xù)保持在5?6之間,反應(yīng)溫度為48-51°C,反應(yīng)2-3h,反應(yīng)式為:
[0025]CuCl2+Cu(NH3)2Cl+3H20—CuCl2.3Cu(0H)2+3NH4C1 ;
[0026]待反應(yīng)充分后,將反應(yīng)混合液依次經(jīng)板框壓濾機(jī)5壓濾、真空干燥機(jī)6干燥后,即得固體物質(zhì)氧氯化銅,其含量為99.5 %以上。
[0027]本實(shí)用新型裝置通過在反應(yīng)釜內(nèi)的反應(yīng)溫度的控制和PH值得控制,最后生產(chǎn)出來的氧氯化銅含量可以達(dá)到98%以上,價(jià)格每噸在30000元以上,可以實(shí)現(xiàn)可觀的經(jīng)濟(jì)效益;銅的回收率可以達(dá)到99%以上,實(shí)現(xiàn)了蝕刻廢液有效成分的全部資源化利用,節(jié)約資源,實(shí)現(xiàn)處置危險(xiǎn)廢物的資源化、無害化目標(biāo),保護(hù)環(huán)境。
[0028]以上對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)描述,但其只作為范例,本實(shí)用新型并不限制于以上描述的具體實(shí)施例。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,任何對(duì)該實(shí)用進(jìn)行的等同修改和替代也都在本實(shí)用新型的范疇之中。因此,在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍下所作的均等變換和修改,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,包括酸性蝕刻液儲(chǔ)存裝置(I)、堿性蝕刻液儲(chǔ)存裝置(2)和反應(yīng)釜(3),所述反應(yīng)釜(3)由蒸氣室(4)進(jìn)行加熱,所述反應(yīng)釜(3)底部出口與板框壓濾機(jī)(5)連接,所述板框壓濾機(jī)(5)分別與真空干燥機(jī)(6)和與蒸餾釜連接,所述真空干燥機(jī)(6)用于對(duì)板框壓濾機(jī)(5)分離后的固體物質(zhì)進(jìn)行干燥,所述蒸餾釜用于對(duì)板框壓濾機(jī)(5)分離后的母液進(jìn)行蒸餾濃縮。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,所述反應(yīng)釜(3)上設(shè)有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)溶液pH值的pH值傳感器(7)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,所述反應(yīng)釜(3)上設(shè)置有用于實(shí)時(shí)檢測(cè)反應(yīng)溫度的溫度傳感器(8)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,所述反應(yīng)釜(3)內(nèi)設(shè)有螺旋式攪拌槳。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,還包括用于控制該裝置自動(dòng)化運(yùn)行的PCL控制系統(tǒng)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,所述蒸餾釜的出液口通過管道依次與結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)相連通,所述結(jié)晶冷卻槽、離心機(jī)分別對(duì)蒸餾釜濃縮后的液體進(jìn)行冷卻結(jié)晶、分離。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的利用酸性蝕刻液和堿性蝕刻液制備氧氯化銅的裝置,其特征在于,所述離心機(jī)的母液出口通過管道分別與所述反應(yīng)釜(3)和蒸餾釜相連通。
【文檔編號(hào)】C01G3/06GK205634920SQ201620501394
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年5月27日
【發(fā)明人】徐全林, 柏曉雪, 周伯明, 吳偉軍
【申請(qǐng)人】上海綠澄環(huán)??萍加邢薰?br>
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