仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的配方及其制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的坯體配方及其制造方法，本發(fā)明通過優(yōu)化瓷磚坯體的配方加強了瓷磚坯體的強度，通過增加超平全拋釉釉面的厚度增加了瓷磚的耐磨性能，通過減薄坯體的厚度降低了生產成本，實現(xiàn)低碳環(huán)保目標，通過硬拋工藝提高了瓷磚表面的平整度，產品圖案豐富，立體感強，富有石材的逼真效果。相比其他同種類產品，它最大的特點是高強度、高耐磨、高逼真、高平整度、高清淅、高環(huán)保。
【專利說明】
仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的配方及其制造方法[0001]【
技術領域
】本發(fā)明涉及瓷磚的配方及制造方法，尤其是涉及一種高光亮、富有立體感的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的配方及制造方法。
[0002]【【背景技術】】現(xiàn)在市面上流通的主要通過軟拋工藝進行制作，通過軟拋工藝制作的瓷磚有如下缺點，第一:瓷磚表面形成起伏不定的波紋、不平整，影響裝飾效果；第二，通過軟拋工藝制作的瓷磚難以達到富有立體感的裝飾效果，表面較為粗糙，在燈照下反射出來的光線模糊不清。而現(xiàn)在市面上流通的瓷磚無法采用其他工藝來解決上述技術問題，主要原因在于:傳統(tǒng)瓷磚的釉面薄，如果采用硬拋技術以使瓷磚表面平整，則會在拋光過程中將底釉磨光，甚至露出底釉，達不到生產標準。
[0003]【
【發(fā)明內容】
】本發(fā)明為解決上述技術問題而提供一種高光亮、富有立體感、裝飾效果好的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的坯體配方。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚拋釉配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，43%-52%的Si02,10%-17%的A1203, 10%-18%的CaO, 1%-4%的 MgO, 2.5%-4% 的 K20,1.8%-4.0% 的 Na20,10%-15% 的 ZnO, Fe203含量低于 0? 5%，T1 2含量低于 0? 5% ;底釉配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，53%-60%的Si02,27%-35%的A1203， 1%-2% 的 CaO, 1%-2% 的 MgO, 3.5%-4.5% 的 K20, 2.5%-3.5% 的 Na20，F(xiàn)e203含量低于 0? 2%，T1 2 含量低于〇.2% ;坯體配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，63%-73%的Si02,15%-24%的A1203， 0? l%-0.9% 的 Ca0,0.5%-l.4% 的 MgO, 1.5%-4.5% 的 K20,1.0%-3.0% 的 Na20,3%-6% 的 IL， Fe203含量低于1.5%，T1 2含量低于0.5%。該種配方制作出來的瓷磚還體適合相比于普通瓷磚更高燒制溫度，在充分的保證坯體強度外、與底釉結合更穩(wěn)定。
[0005]進一步的，本發(fā)明的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚坯體配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，66%-70% 的 Si02,18%-21% 的 A1203,0.2%-0.8% 的 Ca0,0.7%-L 2% 的 MgO, 2.5%-3.5% 的 K20,1.5%-2.5% 的 Na20,4.5%-5.0% 的 NaOH，F(xiàn)e203含量低于 0? 05%，T1 2 含量低于〇.05%。
[0006]為實現(xiàn)仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚高光亮、富有立體感、高平整度的目的，本發(fā)明的制造方法包括以下步驟:第一:制作瓷磚坯體a、將元素組分加入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按坯體配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機；b、向已添加配方的球磨機中加入水與添加劑，并進行濕法球磨，形成水分含量為 32%-38%的泥漿；c、將b步驟形成的泥漿過60-140目篩，并將篩余壓入干燥塔霧化器中霧化成細滴，細滴在熱風的作用下脫水形成含水率為6.5%-7.4%的粉料；d、將c步驟形成的粉料輸送到壓機壓制成初坯，然后將初坯送入干燥窯，形成水分含量低于0.5%、抗折強度大于1.4MPa、溫度為80-100°C的坯體；第二:準備釉料el、底釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按底釉配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.88-1.92g/ml、篩余為 1.1-1.3g/ml 的底釉；e2、拋釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按拋釉配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.87-1.92g/ml、篩余為 0? 8-1.lg/ml 的拋釉；e3、印花釉:將無機色料經超細研磨機研磨，形成印花釉；e4、保護釉:將拋釉原料與添加劑加入球磨機中球磨，形成比重為1.87-1.92g/ml保護軸；第二:施釉f、將步驟d的瓷磚坯體打磨、掃塵、噴水后，再將el步驟形成的底釉通過鐘罩淋釉器均勻的覆蓋在瓷磚坯體表面，形成帶釉面的坯磚；g、將e3步驟的印花釉通過網板或者噴墨打印技術印刷到坯磚上，形成絲網圖案或者噴墨圖案；h、將e4步驟的保護釉均勻的印在絲網圖案或者噴墨圖案上；1、將e2步驟的拋釉通過鐘罩淋釉器均勻的覆蓋在經過h步驟后的枉磚上，拋釉的用量為 1250-1350g/m2,厚度為 0? 4-0.9mm ;第四:燒制j、將i步驟后的坯磚在陶瓷輥道內燒制，燒制溫度1195-1215 °C，燒制周期 75-105min ；k、將燒制后的坯磚施釉面進行硬拋加工后制成成品，成品的釉面厚度為0.3-0.7mm。
[0007]進一步的，為保證坯體與底釉的結合度，底釉添加按照如下步驟進行:步驟f?中的底釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.83-1.85g/ml，流速28-38秒，再抽到使用缸；用毛巾鋪在鐘罩淋釉器上圍成半弧形，使底釉在弧形內流動；再將底釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使底釉通過光滑的鐘罩淋釉器， 均勻如瀑布一樣覆蓋在坯體的表面，底釉在坯體表面的用量為450-550g/m2。
[0008]進一步的，為保證超平全拋釉的厚度以及保證超平全拋釉與保護釉的完美結合， 本發(fā)明添加超平全拋釉按照以下步驟進行:將步驟i中的超平全拋釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.86-1.88g/ml，流速30-39秒，再抽到使用缸；用毛巾鋪在鐘罩淋釉器上圍成半弧形，使超平全拋釉在弧形內流動；再將超平全拋釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使超平全拋釉通過光滑的鐘罩淋釉器，均勻如瀑布一樣覆蓋在坯體的表面。
[0009]本發(fā)明的貢獻在于，彌補了普通全拋釉本身表面不平整、有明顯水波紋、容易給使用者造成視覺暈眩的技術缺陷，同時彌補了普通全拋釉瓷磚釉面容易產生裂紋的缺陷；本發(fā)明的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚最表層的釉面比普通瓷磚厚0.1-0.6mm，增加了瓷磚的耐磨性能，為瓷磚表面的高平整度打下了基礎；由于本發(fā)明的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚表層釉面厚，可進行硬拋工藝對瓷磚表面進行處理，在高產生光亮的視覺特點外， 石材也更富有立體感，更逼真；由于本發(fā)明生產的瓷磚釉面層厚，可適量減薄坯體，無論是從原材料使用量到生產過程都可以減少能源損耗，減少生產成本，實現(xiàn)“節(jié)能、減耗”的低碳環(huán)保目標；超平全拋釉瓷質磚的薄形化、輕量化，既節(jié)約物流運輸成本，減輕建筑物的負荷載，更是直接降低物流和施工的碳排放；依照本發(fā)明生產的瓷磚不但在價格、環(huán)保、耐用和清潔上極具優(yōu)勢，在質感、規(guī)格、花色、重量等指標上超平全拋釉瓷質磚都遠遠勝于石材、拋光磚。相比其他同種類產品，它最大的特點是高強度、高耐磨、高逼真、高平整度、高清淅、高環(huán)保。
[0010]【【具體實施方式】】下列實施例是對本發(fā)明的進一步解釋和補充，對本發(fā)明不構成任何限制。
[0011]實施例1本實施例仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的坯體配方為以下元素組分按重量百分比配制而成，67% 的 Si02, 21% 的 A1203,0? 55% 的 CaO, 1.0% 的 MgO, 3.0% 的 K20, 2.4% 的 Na20, 5% 的 NaOH，0? 03%Fe203，0? 02% 的 Ti02。
[0012]底釉配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，59.6%的Si02，30%的A1203， 1.5% 的 CaO, 1.5% 的 MgO，4% 的 K20, 3% 的 Na20，0? 2% 的 Fe203，0? 2% 的 Ti02;坯體配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，68%的Si02,20%的A1203,0.6%的 CaO，1% 的 MgO, 3% 的 K20, 2% 的 Na20,4% 的 IL，F(xiàn)e203為 1%，T1 2為 0? 4% ;該種配方制作出來的瓷磚坯體適合相比于普通瓷磚更高燒制溫度，在充分的保證坯體強度外、與底釉結合更穩(wěn)定。
[0013]實施例2本實施例的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的制作方法包括如下步驟:第一:制作瓷磚坯體a、將元素組分加入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按坯體配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機；b、向已添加配方的球磨機中加入水與添加劑，并進行濕法球磨，形成水分含量為35% 的泥漿；c、將b步驟形成的泥漿過60-140目篩，并將篩余壓入干燥塔霧化器中霧化成細滴，細滴在熱風的作用下脫水形成含水率為7%的粉料；d、將c步驟形成的粉料輸送到壓機壓制成初坯，然后將初坯送入干燥窯，形成水分含量低于0.5%、抗折強度大于1.4MPa、溫度為80-100°C的坯體；第二:準備釉料el、底釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按底釉配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.88-1.92g/ml、篩余為 1.1-1.3g/ml 的底釉；e2、拋釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按拋釉配方重量百分比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.87-1.92g/ml、篩余為0? 8-1.lg/ml 的拋釉；e3、印花釉:將無機色料經超細研磨機研磨，形成印花釉；e4、保護釉:將拋釉原料與添加劑加入球磨機中球磨，形成比重為1.87-1.92g/ml保護軸；第二:施釉f、將步驟d的瓷磚坯體打磨、掃塵、噴水后，再將el步驟形成的底釉通過鐘罩淋釉器均勻的覆蓋在瓷磚坯體表面，形成帶釉面的坯磚；g、將e3步驟的印花釉通過網板或者噴墨打印技術印刷到坯磚上，形成絲網圖案或者噴墨圖案；h、將e4步驟的保護釉均勻的印在絲網圖案或者噴墨圖案上；1、將e2步驟的拋釉通過鐘罩淋釉器均勻的覆蓋在經過h步驟后的枉磚上，拋釉的用量為 1300g/m2,厚度為 0.4mm ;第四:燒制j、將i步驟后的坯磚在陶瓷輥道內燒制，燒制溫度1200°C，燒制周期90min ;k、將燒制后的坯磚施釉面進行硬拋加工后制成成品，成品的釉面厚度為0.5mm。
[0014]步驟g中，印花釉通過網板印刷到釉坯表面，或采用納米技術的墨水和ro噴墨打印技術，而印刷的素材是真石的高精密大副精細掃描圖，達到360dpi高清淅、高分辨率的設計圖案效果噴刷到釉坯表面，步驟h中，保護釉均勻的印在絲網圖案或噴墨圖案上，保護釉使花釉、墨水與超平全拋釉的更好結合；本實施例的仿天然大理石超平釉瓷質磚的制造方法工藝簡單，生產出的瓷質磚極具立體感、圖像高逼真、高清晰，不會讓使用者產生視覺暈眩，產品質地和通透性均有所提升，與石材相比更富有線條的飽和感，豐富的藝術表現(xiàn)力，花色紋理更加立體豐滿，色彩過渡更加自然逼真。
[0015]實施例3本實施例在實施例2的基礎上完善了底釉的添加工藝，將步驟f中的底釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.85g/ml，流速32秒；再將底釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使底釉通過光滑的鐘罩淋釉器， 均勻如瀑布一樣覆蓋在坯體的表面，底釉在坯體表面的用量為500g/m2。
[0016]本實施例的坯體勻速通過鐘罩淋釉器，底釉均勻的覆蓋在坯體上，使坯體表與底軸結合完美。
[0017]實施例4本實施例在實施例2的基礎上完善了超平全拋釉的添加工藝，步驟i中的超平全拋釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.88g/ml，流速35秒，再抽到使用缸；用毛巾鋪在鐘罩淋釉器上圍成半弧形，使超平全拋釉在弧形內流動；再將超平全拋釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使超平全拋釉通過光滑的鐘罩淋釉器，均勻如瀑布一樣覆蓋在坯體的表面。
[0018]本實施例的超平全拋釉均勻如瀑布一樣覆蓋在坯體的表面，厚度達到0.5mm，為后來的硬拋工藝打下了基礎。
[0019]實施例5在釉面和超平全拋釉添加工藝中，還設置有釉漿回收工藝，回收工藝包括三部分:第一，皮帶上的釉漿通過導釉管過120目篩回收到回收缸；第二，側板過磚回收的釉漿直接過 60目篩再收到使用缸；第三，高位罐回收管的釉漿直接回到120目振動篩過篩再使用；按生產工藝要求檢測總施釉量，以及左、中、左的施釉量±1克，加強過篩除鐵。本實施例減少了能源損耗，降低了企業(yè)的生產成本，實現(xiàn)“節(jié)能、低耗”的低碳環(huán)保目標。
[0020] 盡管通過以上實施例對本發(fā)明進行了揭示，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此， 在不偏離本發(fā)明構思的條件下，對以上各構件所做的變形、替換等均將落入本發(fā)明的權利要求范圍內。
【主權項】
1.仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的配方，包括拋釉配方、底釉配方和坯體配方，其特 征在于:拋釉配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，43%-52%的Si02,10%-17%的A1203， 10%-18% 的 CaO, 1%-4% 的 MgO, 2.5%-4% 的 K20,1.8%-4.0% 的 Na20,10%-15% 的 ZnO, Fe203含 量低于0.5%，打02含量低于0.5%;底釉配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，53%-60%的Si02,27%-35%的A1203， 1%-2% 的 CaO, 1%-2% 的 MgO, 3.5%-4.5% 的 K20, 2.5%-3.5% 的 Na20，F(xiàn)e203含量低于 0? 2%，T1 2 含量低于〇.2% ;坯體配方由以下元素組分按重量百分比配制而成，63%-73%的Si02,15%-24%的A1203， 0? l%-0.9% 的 Ca0,0.5%-l.4% 的 MgO, 1.5%-4.5% 的 K20,1.0%-3.0% 的 Na20,3%-6% 的 IL， Fe203含量低于1.5%，T1 2含量低于0.5%。2.如權利要求1所述的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的配方，其特征在于:坯體配 方由以下元素組分按重量百分比配制而成，66%-70%的Si02,18%-21%的A1203,0.2%-0.8%的 CaO, 0? 7%-1.2% 的 MgO, 2.5%-3.5% 的 K20,1.5%-2.5% 的 Na20,4.5%-5.0% 的 NaOH，F(xiàn)e203含量 低于1.5%，1102含量低于0.5%。3.仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的制造方法，其特征在于包括以下步驟:第一:制作瓷磚坯體a、將元素組分加入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按坯體配方重量百分比搭配好并 輸送到球磨機；b、向已添加配方的球磨機中加入水與添加劑，并進行濕法球磨，形成水分含量為 32%-38%的泥漿；c、將b步驟形成的泥漿過60-140目篩，并將篩余壓入干燥塔霧化器中霧化成細滴，細 滴在熱風的作用下脫水形成含水率為6.5%-7.4%的粉料；d、將c步驟形成的粉料輸送到壓機壓制成初坯，然后將初坯送入干燥窯，形成水分含 量低于0.5%、抗折強度大于1.4MPa、溫度為80-100°C的坯體；第二:準備釉料el、底釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按底釉配方重量百分 比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.88-1.92g/ml、篩余為 1.1-1.3g/ml 的底釉；e2、拋釉:將元素組分送入電子稱喂料機，通過電子稱喂料機按拋釉配方重量百分 比搭配好并輸送到球磨機，加入添加劑球磨后過篩，形成比重為1.87-1.92g/ml、篩余為 0? 8-1.lg/ml 的拋釉；e3、印花釉:將無機色料經超細研磨機研磨，形成印花釉；e4、保護釉:將拋釉原料與添加劑加入球磨機中球磨，形成比重為1.87-1.92g/ml保護 軸；第二:施釉f、將步驟d的瓷磚坯體打磨、掃塵、噴水后，再將el步驟形成的底釉通過鐘罩淋釉器均 勻的覆蓋在瓷磚坯體表面，形成帶釉面的坯磚；g、將e3步驟的印花釉通過網板或者噴墨打印技術印刷到坯磚上，形成絲網圖案或者噴墨圖案；h、將e4步驟的保護釉均勻的印在絲網圖案或者噴墨圖案上；1、將e2步驟的拋釉通過鐘罩淋釉器均勻的覆蓋在經過h步驟后的枉磚上，拋釉的用量 為 1250-1350g/m2,厚度為 0? 4-0.9mm ;第四:燒制j、將i步驟后的坯磚在陶瓷輥道內燒制，燒制溫度1195-1215 °C，燒制周期 75-105min ；k、將燒制后的坯磚施釉面進行硬拋加工后制成成品，成品的釉面厚度為0.3-0.7mm。4.如權利要求3所述的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的制造方法，其特征在于: 步驟f中的底釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.83-1.86g/ml，流速 28-38 秒；再將底釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使底釉通過光滑的鐘罩淋釉器， 均勻如瀑布一樣覆蓋在瓷磚坯體的表面，底釉在瓷磚坯體表面的用量為450-550g/m2。5.如權利要求3所述的仿天然大理石超平全拋釉瓷質磚的制造方法，其特征在于: 步驟i中的拋釉通過空氣壓縮泵抽到中轉缸，在中轉缸內調好比重1.86-1.88g/ml，流速 30-39 秒；再將拋釉抽入高位罐，通過釉槽和篩網格的緩沖作用，使超平全拋釉通過光滑的鐘罩 淋釉器，均勻如瀑布一樣覆蓋在坯磚的表面，淋1250?1350 g/ m2,拋釉成品厚度為0.3? 0.7暈米。
【文檔編號】C04B41/86GK105985142SQ201510080050
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2015年2月15日
【發(fā)明人】王常德, 蔡三良
【申請人】廣東嘉俊陶瓷有限公司