專利名稱：激光退火方法以及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理的激光退火方法以及直ο背景技術(shù)
近年來，對形成在玻璃等絕緣基板上的非晶半導(dǎo)體膜或結(jié)晶性半導(dǎo)體膜采用激光退火，制作高性能的薄膜晶體管。玻璃基板與以往經(jīng)常使用的石英基板相比較，具有價格低廉、加工性優(yōu)越、能夠?qū)崿F(xiàn)大面積化這樣的優(yōu)點(diǎn)。在半導(dǎo)體膜的結(jié)晶化中使用激光的原因在于，玻璃基板的融點(diǎn)為600°C以下，但若使用激光，則能夠不對玻璃基板加熱就使非晶半導(dǎo)體膜溶融、結(jié)晶化。
采用激光退火形成的晶體硅膜具有較高的遷移率，因而能夠形成薄膜晶體管，在一個玻璃基板上形成像素驅(qū)動用和驅(qū)動用電路的TFT，并裝載在便攜用或數(shù)碼靜態(tài)攝像機(jī) (digital still camera)等的液晶顯示器上，作為商品逐漸普及。
目前，激光退火裝置將由準(zhǔn)分子激光器或固體激光器等激光光源振蕩產(chǎn)生的脈沖激光整形為例如IOOmm 400mmX0. 05mm 0. 5mm的線狀光束，將該線狀光束照射在玻璃基板上的非晶硅膜上，使硅膜溶融以及凝固，從而進(jìn)行結(jié)晶化。通過搬送玻璃基板，從而能夠使例如730X920mm的玻璃基板上的硅膜的整個面從非晶硅改變?yōu)榫w硅。
在使用上述線狀光束的激光退火方法中存在幾個問題，其中最嚴(yán)重的問題是，能夠目視觀察到的條紋圖樣出現(xiàn)在與線狀光束的長軸方向垂直的方向和與長軸方向平行的方向上。下面，將與線狀光束的長軸方向垂直的條紋圖樣稱為“縱向條紋”，將與長軸方向平行的條紋圖樣稱為“橫向條紋”。另外，將縱向條紋、橫向條紋總稱為“照射條紋”。
在下述專利文獻(xiàn)的圖1 (a)以及(b)中示出了該照射條紋的狀態(tài)。在出現(xiàn)這樣的照射條紋的狀態(tài)下，在制作有源矩陣型的液晶顯示器或有機(jī)EL顯示器時，產(chǎn)生與該照射條紋相同的條紋圖樣直接出現(xiàn)在畫面上的問題。特別是，在有機(jī)EL顯示器中，與液晶顯示器相比，對照射條紋的靈敏度大，期望有用于減少照射條紋的有效的解決方法。
在下述專利文獻(xiàn)1 4中，關(guān)于用于減少照射條紋的方法，提出了幾個方案。但是， 關(guān)于照射條紋的發(fā)生的主要原因，提到由光束的均一性引起、或者干涉、激光的發(fā)射(shot) 的偏差、激光的分布的變動等，但并不確定。
專利文獻(xiàn)1 日本特開平10_29似88號公報。
專利文獻(xiàn)2 日本特開2001-68430號公報。
專利文獻(xiàn)3 日本特開平10-242073號公報。
專利文獻(xiàn)4 日本特公平5-41006號公報。
本發(fā)明的發(fā)明人為了明確照射條紋的原因，反復(fù)試驗的結(jié)果，確定了其原因。
本發(fā)明的發(fā)明人首先調(diào)查了在使用于使線狀光束的長軸方向的光強(qiáng)度均一化的均化器(homogenizer)中的透鏡陣列的位置在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向以Imm為單位進(jìn)行移動時，縱向條紋的圖案如何變化。其結(jié)果是，縱向條紋的圖案發(fā)生了變化。該變化的理由認(rèn)為是(a)、(b)中的任意一個(a)來自激光光源的激光光束自身的均一性成為主要原因，導(dǎo)致出現(xiàn)縱向條紋；或者，(b)在構(gòu)成均化器的透鏡表面產(chǎn)生的散射光成為主要原因，導(dǎo)致出現(xiàn)縱向條紋。
因此，接著，為了確定上述(a)、(b)中的哪一個正確，對相同的均化器光學(xué)系統(tǒng)入射不同的兩條激光，調(diào)查縱向條紋如何變化。通常，激光的光強(qiáng)度分布是各激光器裝置固有的，因此，如果縱向條紋的圖案不同，則能夠判斷照射條紋的主要原因在于激光光束自身的均一性。但其結(jié)果是，出現(xiàn)相同的縱向條紋的圖案。由此，判斷為照射條紋的主要原在于在透鏡表面產(chǎn)生的散射光。即，得出如下結(jié)論在透鏡表面產(chǎn)生激光的散射，使照射面上的均一性惡化，因而出現(xiàn)照射條紋。
透鏡的面精度(surface accuracy)通常為λ/4或λ/10，但由于在激光退火中使用的透鏡、特別是后級的透鏡為IOOmm以上的大型透鏡，所以，加工以及面精度的測量變得困難，因而也往往導(dǎo)致面精度顯著降低，面精度為λ以上。在現(xiàn)有的技術(shù)中，在大型透鏡的加工精度上受到限制，難以實(shí)現(xiàn)其以上的面精度，不得不通過除此以外的方法解決。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其課題在于，提供一種能夠大幅度降低伴隨照射面上的光束均一性惡化導(dǎo)致的照射條紋的產(chǎn)生的激光退火方法以及裝置，其中，照射面上的光束均一性惡化是由在透鏡表面產(chǎn)生的散射光引起的。
潛心研究使激光的由透鏡表面上的散射光引起的均一性的惡化降低的方法的結(jié)果是，提出了如下方法，即，不使照射面上的光束的狀態(tài)變化的情況下，隨時間改變?nèi)肷涞酵哥R上的激光的角度。即，是如下方法使入射到透鏡表面的激光的角度隨時間變化，由此， 改變在透鏡表面上產(chǎn)生的散射光的產(chǎn)生狀態(tài)，使由散射光引起的在照射面上的光束均一性隨時間變動，從而消除能夠目視觀察到的條紋。由于激光在線狀光束的短軸方向被重復(fù)照射，所以，按照每次發(fā)射使長軸方向或短軸方向的均一性發(fā)生變動，由此，產(chǎn)生條紋被分散的效果，在目視下照射條紋被降低。因此，在例如重疊率為90%以上的情況下，以目視不能夠觀察到條紋的方式照射。
具體地說，為了降低縱向條紋，采用以下的技術(shù)手段。
在透鏡陣列方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)中，一邊使長軸用透鏡陣列在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化。因此，使被照射面上的長軸方向的光束均一性按照每次發(fā)射而變動，從而產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的縱向條紋被分散的效果，在目視下縱向條紋被大幅度降低。另外，在將長軸用透鏡陣列的往復(fù)移動的移動寬度設(shè)為S，將在不使長軸用透鏡陣列往復(fù)移動地進(jìn)行激光退火的情況下能夠目視出現(xiàn)的與線狀光束的掃描方向平行的條紋圖樣的間距設(shè)為P，將構(gòu)成長軸用透鏡陣列的各柱面透鏡的寬度設(shè)為W時，滿足P/3 ( S<W、P/2彡3<1或？彡S<ff 的關(guān)系，成為縱向條紋的原因的能量分布的不均勻在與基板搬送方向垂直的方向(圖2的左右方向)適當(dāng)偏移，因而使縱向條紋適度分散，能有效地降低能夠目視的縱向條紋的產(chǎn)生?；蛘?，滿足1. Omm彡S<W、1. 5mm ^ S<W或3. Omm彡S<ff的關(guān)系即可。
另外，在透鏡陣列方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)中，將長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和被照射物的表面的光路上的距離保持為恒定，一邊使長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和長軸用透鏡陣列的光路上的相對距離增減，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度也按照每次發(fā)射而變化，因而縱向條紋被大幅度降低。在該情況下，使構(gòu)成為小型的長軸用透鏡陣列在光軸方向往復(fù)移動，由此，能夠容易地進(jìn)行長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和長軸用透鏡陣列的光路上的相對距離的增減。
另外，在波導(dǎo)方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)的情況下，一邊使長軸用導(dǎo)入透鏡在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，從而入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，所以，縱向條紋被大幅度降低。
為了降低橫向條紋，采用以下的技術(shù)手段。
在透鏡陣列方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)中，一邊使短軸用透鏡陣列在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成短軸方向聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化。因此，被照射面上的短軸方向的光束均一性按照每次發(fā)射而變動，由此，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的橫向條紋被分散的效果，在目視下，橫向條紋被大幅度降低。
另外，在透鏡陣列方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)的情況下，一邊使設(shè)置在短軸用透鏡陣列的后級的短軸用聚光透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的大型的投影透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度也按照每次發(fā)射而變化，因而橫向條紋被大幅度降低。
另外，使在短軸用均化器的上游側(cè)的光路上設(shè)置的反射鏡以線狀光束在短軸方向上往復(fù)移動的方式擺動，由此，入射到在后級設(shè)置的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度也按照每次發(fā)射而變化，因而橫向條紋被大幅度降低。在該情況下，短軸用均化器可以為透鏡陣列方式、波導(dǎo)方式中的任意一種。
另外，在波導(dǎo)方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)的情況下，一邊使短軸用導(dǎo)入透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡的激光的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，所以，橫向條紋被大幅度降低。
另外，優(yōu)選激光的偏振方向相對于被照射物的表面為S偏振。在利用S偏振的激光對非晶半導(dǎo)體膜進(jìn)行了退火處理的情況下，與利用P偏振光進(jìn)行處理相比，能夠得到粒徑變大(粗)且均勻的結(jié)晶粒的多晶半導(dǎo)體膜。因此，能夠得到在目視下能夠觀察到的條紋降低的效果。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的激光退火方法以及裝置，能夠得到如下良好的效果，即， 能夠大幅度降低伴隨照射面上的光束均一性的惡化產(chǎn)生的照射條紋的發(fā)生，其中，照射面上的光束均一性的惡化由在透鏡表面上產(chǎn)生的散射光引起。


圖IA是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
圖IB是表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的另一個圖。
圖2是說明縱向條紋的間距P的圖。
圖3是說明長軸用柱面透鏡陣列的往復(fù)移動的移動寬度S和柱面透鏡的寬度W的圖。
圖4A是表示不使長軸用柱面透鏡陣列往復(fù)移動地進(jìn)行激光退火后的半導(dǎo)體膜的照片的圖。
圖4B是表示使長軸用柱面透鏡陣列往復(fù)移動進(jìn)行激光退火后的半導(dǎo)體膜的照片的圖。
圖5是表示由偏振引起的結(jié)晶粒的差異的SEM照片。
圖6A是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
圖6B是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的另一個圖。
圖7A是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
圖7B是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的另一個圖。
圖8A是表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
圖8B是表示本發(fā)明的第四實(shí)施方式的激光退火裝置的概略結(jié)構(gòu)的另一個圖。
具體實(shí)施方式
下面，基于附圖詳細(xì)地對本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說明。此外，對在各圖中共用的部分標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記，并省略重復(fù)的說明。
[第一實(shí)施方式]在圖IA以及圖IB中示出本發(fā)明的第一實(shí)施方式的激光退火裝置10的概略結(jié)構(gòu)。圖 IA是平面圖，圖IB是側(cè)視圖。另外，在圖IA中，僅在線狀光束的短軸方向進(jìn)行作用的光學(xué)系統(tǒng)以假想線(虛線)示出。在圖IB中，僅在線狀光束的長軸方向進(jìn)行作用的光學(xué)系統(tǒng)以假想線示出。
該激光退火裝置10對脈沖振蕩產(chǎn)生的激光1進(jìn)行整形，在被照射物3的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光1的方式，使線狀光束對被照射物3在線狀光束的短軸方向上相對地掃描，利用激光照射對被照射物3的表面進(jìn)行退火處理。此外，在圖IA中，上下方向為線狀光束的長軸方向，在圖IB中，被照射面的左右方向為線狀光束的短軸方向。
下面，對激光退火裝置10更具體地進(jìn)行說明。
激光1由激光光源12例如以2 4kHz的脈沖頻率振蕩產(chǎn)生。激光光源12的種類并不特別限定，能夠采用準(zhǔn)分子激光器、YAG激光器、YLF激光器、YVO4激光器、玻璃激光器、 半導(dǎo)體激光器、CO2激光器等。特別是，YAG激光器、YLF激光器、YVO4激光器等固體激光器的可靠性高，能夠以較高的效率實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的激光能量的利用。另外，對于硅膜，在330nm SOOnm的可見光區(qū)域，吸收系數(shù)高，因而在準(zhǔn)分子激光器的情況下用基波即可，但是，在上述的YAG激光器、YLF激光器、YVO4激光器、玻璃激光器的情況下，可以使用二次諧波或三次諧波。
由激光光源12脈沖振蕩產(chǎn)生的激光1被反射鏡IlaUlb依次反射后，由光束擴(kuò)展器14對光束直徑進(jìn)行擴(kuò)大。作為一結(jié)構(gòu)例而示出的光束擴(kuò)展器14包括凸球面透鏡15、在短軸方向進(jìn)行作用的短軸用柱面透鏡16、在長軸方向進(jìn)行作用的長軸用柱面透鏡17。在該結(jié)構(gòu)的光束擴(kuò)展器14中，能夠分別設(shè)定長軸方向和短軸方向的擴(kuò)大率。此外，光束擴(kuò)展器 14也可以是其他結(jié)構(gòu)，例如，也可以是將凹球面透鏡和凸球面透鏡組合的結(jié)構(gòu)。
對于由光束擴(kuò)展器14將光束直徑擴(kuò)大后的激光1來說，利用長軸用均化器19使被照射面上的線狀光束的長軸方向的光強(qiáng)度分布均一化，利用短軸用均化器25使被照射面上的線狀光束的短軸方向的光強(qiáng)度分布均一化。
如圖IA所示，長軸用均化器19包括多個長軸用透鏡陣列20a、20b，將入射的激光1在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向分割為多個；作為長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的長軸用聚光透鏡22，在被照射物3的表面將在長軸方向被分割成多個后的激光1在長軸方向上疊加。
在這樣構(gòu)成的長軸用均化器19中，由光束擴(kuò)展器14擴(kuò)大的激光1被長軸用透鏡陣列20a、20b在長軸方向分割成多個。通過長軸用透鏡陣列20a、20b并被分割的激光 1由長軸用聚光透鏡22在基板2上的被照射物3的表面成像為在長軸方向上細(xì)長的矩形狀光束。此外，在長軸用聚光透鏡22和基板2之間的光路上配置有垂直反射鏡(vertical reflecting mirror) M，來自長軸用聚光透鏡22的出射光被反射向基板2的方向。
照射在基板2上的矩形狀光束的長軸方向的長度能夠為例如數(shù)十毫米。
在本實(shí)施方式中，兩個長軸用透鏡陣列20a、20b在光軸方向上隔著間隔配置。長軸用透鏡陣列20a、20b的合成焦距取決于各透鏡陣列20a、20b的焦距和光軸方向的距離。 另外，作為決定線狀光束的長軸方向的尺寸的要素，包括長軸用透鏡陣列20a、20b的合成焦距。因此，若作為能夠變更各透鏡陣列20a、20b的光軸方向的距離的結(jié)構(gòu)，則能夠根據(jù)需要改變合成焦距，從而改變線狀光束的長軸方向的尺寸。但是，在本發(fā)明中，也可以是長軸用透鏡陣列為一個的結(jié)構(gòu)。
短軸用均化器25具有短軸用透鏡陣列^aJ6b，將入射光在短軸方向分割成多個；短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)(29、30)，在被照射物3的表面，將由短軸用透鏡陣列26a、26b分割后的激光1在短軸方向上疊加。本實(shí)施方式中的短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)包括短軸用聚光透鏡四，在成像面S上，將由短軸用透鏡陣列26a、26b分割后的激光1在短軸方向上疊加； 投影透鏡30，將成像面S的短軸像以預(yù)定倍率縮小投影在被照射物3的表面上。
在這樣構(gòu)成的短軸方向均化器25中，由光束擴(kuò)展器14擴(kuò)大的激光1被短軸用透鏡陣列^5a、26b在短軸方向上分割成多個。對于通過短軸用透鏡陣列^5a、26b并被分割的激光1來說，利用短軸用聚光透鏡四在短軸方向上聚光并在成像面S上成像后，由垂直反射鏡M向基板2的方向反射，之后，由投影透鏡30將成像面S上的短軸像在短軸方向上以預(yù)定倍率縮小投影在基板2上的被照射物3的表面。照射在基板2上的矩形狀光束的短軸方向的長度能夠為例如數(shù)十微米。
在本實(shí)施方式中，兩個短軸用透鏡陣列26a、26b在光軸方向上隔著間隔配置，若作為能夠變更各透鏡陣列的光軸方向的距離的結(jié)構(gòu)，則根據(jù)需要改變合成焦距， 從而能夠改變線狀光束的短軸方向的尺寸。但是，在本發(fā)明中，也可以是短軸用透鏡陣列為一個的結(jié)構(gòu)。9
被照射激光1的被照射物3是非晶半導(dǎo)體膜，通過例如CVD等成膜法成膜在基板2 上。作為非晶半導(dǎo)體膜，例示出『Si膜或具有非晶結(jié)構(gòu)的化合物半導(dǎo)體膜(非晶硅鍺膜等)寸。
基板2由基板承載臺4保持，并在線狀光束的短軸方向上被搬送。借助基板承載臺4的移動，能夠使線狀光束對基板2上的被照射物3在短軸方向上相對地掃描。以如下方式控制基板承載臺4的移動速度被照射面的每單位區(qū)域的照射次數(shù)為多次，即，重復(fù)照射線狀光束。例如，以重疊率為90%以上的方式照射。此外，重疊率表示，每次照射激光發(fā)射(laser shot)使基板2移動的距離相對線狀光束在短軸方向的光強(qiáng)度分布中的平坦的區(qū)域(在高斯(Gaussian)形狀的情況下為半輻值)的比例。
在本實(shí)施方式中，基板承載臺4設(shè)置在能夠?qū)?nèi)部控制為真空或非氧化性氣體環(huán)境的處理室40內(nèi)。在退火處理中，將處理室40內(nèi)控制為真空或非氧化性氣體環(huán)境，從而能夠防止被照射物3的表面的氧化。作為非氧化性氣體，能夠使用氫氣或非活性氣體(氮?dú)狻?氬氣、氦氣、氖氣等)。此外，在處理室40中設(shè)置用于使激光1透過的透過窗41。
此外，也可以取代在處理室40內(nèi)對形成有被照射物3的基板2進(jìn)行處理的上述結(jié)構(gòu)例，而采用不設(shè)置處理室40，僅向線狀光束的照射部分噴射非活性氣體的方式。關(guān)于這點(diǎn)，在后述的第二 第四實(shí)施方式中也同樣。
如圖IA所示，激光退火裝置10還具有在激光照射中使長軸用透鏡陣列20a、20b 在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向(圖中的X方向)往復(fù)移動的長軸用透鏡陣列移動裝置 32。長軸用透鏡陣列移動裝置32被未圖示的控制裝置自動控制。
這樣，一邊使長軸用透鏡陣列20a、20b在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，從而入射至構(gòu)成后級的長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(在本實(shí)施方式中為長軸用聚光透鏡22)的激光1的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化。因此， 使被照射面的長軸方向的光束均一性按照每次發(fā)射而變動，從而產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的縱向條紋被分散的效果，在目視下，縱向條紋被大幅度降低。因此，例如重疊率為90%以上的情況下，也能夠以在目視下觀察不到條紋的方式被照射。
接著，將長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動的移動寬度設(shè)為S，將在不使長軸用透鏡陣列20a、20b往復(fù)移動地進(jìn)行激光退火的情況下能夠目視出現(xiàn)的與線狀光束的掃描方向(在本實(shí)施方式中為基板2的搬送方向)平行的條紋圖樣(縱向條紋)的間距設(shè)為P，將構(gòu)成長軸用透鏡陣列20a、20b的各柱面透鏡21的寬度設(shè)為W，在該情況下，對移動寬度S和透鏡寬度W的優(yōu)選條件進(jìn)行說明。
圖2是說明縱向條紋的間距P的示意圖。如圖2所示，縱向條紋包括交替出現(xiàn)的明部L和暗部D。由于圖2是示意圖，所以，雖然明確地示出了明部L和暗部D的邊界，但是，在實(shí)際的條紋中，明部L和暗部D順次排列交替出現(xiàn)。明部L的中心間的各間隔PU、P『 PL3-■■存在偏差，暗部D的中心間的各間隔Pdi、PD2、Pd3■ ■ ■存在偏差。
在本說明書中，縱向條紋的間距P是指，明部L的中心間的各間隔Pu、PL2> PL3-■■ 的平均值Pu、暗部D的中心間的各間隔PD1、PD2> PD3-■■平均值PDA、或者將Pu和Pda相加后的平均值中的任意一個。
圖3是說明長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動的移動寬度S和柱面透鏡21的寬度W的圖。
如圖3所示，長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動的移動寬度S是柱面透鏡陣列 21的X方向的移動行程，柱面透鏡21的寬度W是往復(fù)移動方向(X方向)的長度。
若考慮利用長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動使成為縱向條紋的原因的光束長軸方向的能量分布的不均勻分散，則長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動的移動寬度S 可以為至少P/3以上。另外，為了長軸用透鏡陣列20a、20b的移動行程不超過透鏡寬度W， 優(yōu)選移動寬度S比柱面透鏡的寬度W小。
因此，優(yōu)選以滿足P/3 ( S<ff的條件的方式設(shè)定移動寬度S和透鏡寬度W。由此， 成為縱向條紋的原因的能量分布的不均勻向與基板搬送方向垂直的方向(圖2的左右方向) 偏移相當(dāng)于條紋間距P的至少1/3的距離，所以，能夠適度分散縱向條紋，有效地降低能夠目視的縱向條紋的產(chǎn)生。另外，若將上述條件設(shè)為P/2 < S<W或P < S<W，則能夠進(jìn)一步增大分散的效果，得到更顯著的條紋降低效果。
另外，確認(rèn)縱向條紋的間距P約為3 4mm左右。因此，具體地說，優(yōu)選移動寬度 S為1. Omm以上，更優(yōu)越選1. 5mm以上，進(jìn)一步優(yōu)選為3. Omm以上。在該情況下也優(yōu)選S<W。
另外，優(yōu)選長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動的頻率F為5Hz以上。圖4A是表示不使長軸用透鏡陣列20a、20b往復(fù)移動地進(jìn)行激光退火后的半導(dǎo)體膜的照片的圖。圖4B 是表示在使長軸用透鏡陣列20a、20b以7. 5Hz的頻率往復(fù)移動進(jìn)行激光退火后的半導(dǎo)體膜的照片的圖。從圖4B可知，通過使頻率F高速化，由此，僅通過長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動，不僅能夠降低縱向條紋，而且能夠降低橫向條紋。推測其理由在于，利用長軸用透鏡陣列20a、20b的往復(fù)移動，具有使入射到在后級設(shè)置的大型透鏡(投影透鏡30)的激光 1的短軸方向的能量分布發(fā)生變動的作用，根據(jù)上述的移動寬度S和透鏡寬度W的優(yōu)選的條件設(shè)定以及頻率F的高速化，所述的作用變得更顯著，從而對橫向條紋也產(chǎn)生降低效果。
另外，優(yōu)選激光1的偏振方向相對非晶半導(dǎo)體膜3的表面為S偏振。S偏振是指， 相對入射面(在本發(fā)明的情況下為非晶半導(dǎo)體膜3的表面)水平的偏振方向，P偏振是指，相對入射面垂直的偏振方向。
圖5是以P偏振光進(jìn)行了處理的情況和以S偏振光進(jìn)行了處理的情況的結(jié)晶粒的 SEM照片。在利用S偏振的激光對非晶半導(dǎo)體膜進(jìn)行了退火處理的情況下，如圖5所示，與利用P偏振光進(jìn)行處理相比，粒徑變大(粗)，得到均一的結(jié)晶粒的多晶半導(dǎo)體膜。因此，能夠得到降低由目視觀察到的條紋的效果。
關(guān)于目視條紋的降低效果，P偏振成分越少越好，所以，S偏振光最好，其次為P偏振光和S偏振光的交替照射、隨機(jī)偏振、最后為P偏振光。另外，從這樣的偏振方向的影響的觀點(diǎn)來看，作為激光光源12，優(yōu)選為振蕩發(fā)生直線偏振的激光的固體激光器裝置。此外， 關(guān)于激光1的偏振方向優(yōu)選為S偏振，在后述的第二 第四實(shí)施方式中也同樣。
如圖IB所示，激光退火裝置10還具有在激光照射中使短軸用透鏡陣列26a、26b 在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向(圖中的Y方向)往復(fù)移動的短軸用透鏡陣列移動裝置 33。短軸用透鏡陣列移動裝置33被未圖示的控制裝置自動控制。
這樣，一邊使短軸用透鏡陣列26a、26b在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，從而入射到構(gòu)成后級的短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(在本實(shí)施方式中為投影透鏡30)的激光1的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化。因此，通過使被照射面上的短軸方向的光束均一性按照每次發(fā)射而變動，由此，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的橫向條紋被分散的效果，在目視下橫向條紋被大幅度降低。
此外，如上所述，使長軸用透鏡陣列20a、20b往復(fù)移動，由此，不僅能夠降低縱向條紋，而且能夠降低橫向條紋。因此，可以做成不使短軸用透鏡陣列^5a、26b往復(fù)移動而僅使長軸用透鏡陣列20a、20b往復(fù)移動的結(jié)構(gòu)，由此，降低縱向條紋和橫向條紋這兩者。
此外，在本實(shí)施方式中，即便使透鏡陣列20a、20b、^a、26b往復(fù)移動，被照射面上的光束位置等也不發(fā)生變化。
[第二實(shí)施方式]在圖6A以及圖6B中示出本發(fā)明的第二實(shí)施方式的激光退火裝置10的概略結(jié)構(gòu)。
如圖6A所示，本實(shí)施方式的激光退火裝置10中，取代第一實(shí)施方式中的長軸用透鏡陣列移動裝置32，在激光照射中將長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)(在本實(shí)施方式中為長軸用聚光透鏡22)和被照射物3的表面的光路上的距離保持為恒定不變，作為用于使長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和長軸用透鏡陣列20a、20b的光路上的相對距離增減的單元，具有在激光照射中使長軸用透鏡陣列20a、20b在光軸方向(圖中的Z方向)往復(fù)移動的長軸用透鏡陣列往復(fù)移動裝置34。長軸用透鏡陣列往復(fù)移動裝置34被未圖示的控制裝置自動控制。
這樣，將長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和被照射物3的表面的光路上的距離保持為恒定不變，一邊使長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和長軸用透鏡陣列20a、20b的光路上的相對距離增減，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到構(gòu)成后級的長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(長軸用聚光透鏡22)的激光1的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的縱向條紋被分散的效果，所以，縱向條紋被大幅度降低。另外，如本實(shí)施方式那樣，使構(gòu)成為小型的長軸用透鏡陣列20a、20b在光軸方向往復(fù)移動，由此，能夠容易地進(jìn)行長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)和長軸用透鏡陣列20a、20b的光路上的相對距離的增減。
另外，如圖6B所示，本實(shí)施方式的激光退火裝置10中，取代第一實(shí)施方式中的短軸用透鏡陣列移動裝置，而具有在激光照射中使短軸用聚光透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向(圖中的Y方向)往復(fù)移動的短軸用聚光透鏡移動裝置35。短軸用聚光透鏡移動裝置35被未圖示的控制裝置自動控制。
一邊使在短軸用透鏡陣列的后級設(shè)置的短軸用聚光透鏡四在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到后級的投影透鏡30 上的激光1的入射角以及強(qiáng)度也按照每次發(fā)射而變化，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的橫向條紋被分散的效果，所以，橫向條紋大幅度降低。
本實(shí)施方式的其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。
[第三實(shí)施方式]圖7A以及圖7B中示出本發(fā)明的第三實(shí)施方式的激光退火裝置10的概略結(jié)構(gòu)。
如圖7A所示，在本實(shí)施方式的激光退火裝置10中，長軸用均化器19構(gòu)成為采用了波導(dǎo)39的波導(dǎo)形式。即，在本實(shí)施方式中，長軸用均化器19包括長軸用波導(dǎo)39，將激光1在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個；長軸用導(dǎo)入透鏡38，向該長軸用波導(dǎo)39導(dǎo)入激光1 ；作為長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的長軸用端面轉(zhuǎn)印光學(xué)系統(tǒng)23，在被照射物 3的表面，將被長軸用波導(dǎo)39分割后的激光1在長軸方向上疊加。在本實(shí)施方式中，長軸用端面轉(zhuǎn)印光學(xué)系統(tǒng)23包括兩個柱面透鏡23a、23b，將在長軸用波導(dǎo)39的出射面上的長軸像以預(yù)定倍率擴(kuò)大，并投影到被照射面上。
另外，如圖7A所示，本實(shí)施方式的激光退火裝置10具有在激光照射中使長軸用導(dǎo)入透鏡38在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向(圖中的X方向)上往復(fù)移動的長軸用導(dǎo)入透鏡移動裝置36。長軸用導(dǎo)入透鏡移動裝置36被未圖示的控制裝置自動控制。
這樣，一邊使長軸用導(dǎo)入透鏡38在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到構(gòu)成后級的長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)(在本實(shí)施方式中為長軸用端面轉(zhuǎn)印光學(xué)系統(tǒng)23)的大型透鏡(在本實(shí)施方式中為柱面透鏡23a、23b)的激光1 的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的縱向條紋被分散的效果，所以，縱向條紋被大幅度降低。
如圖7B所示，在本實(shí)施方式的激光退火裝置10中，取代第一實(shí)施方式中的短軸用透鏡陣列移動裝置33，而具有鏡擺動裝置37，該鏡擺動裝置37在激光照射中使反射鏡lib 擺動，使得線狀光束在短軸方向上往復(fù)移動。鏡擺動裝置37被未圖示的控制裝置自動控制。
這樣，使設(shè)置在短軸用均化器25的上游側(cè)的光路上的反射鏡Ila以線狀光束在短軸方向往復(fù)移動的方式擺動，從而入射到后級的大型透鏡(在本實(shí)施方式中為投影透鏡30 以及柱面透鏡23a、23b)的激光1的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的橫向條紋被分散的效果，因而橫向條紋被大幅度降低。 在該情況下，短軸用均化器25可以是透鏡陣列方式、波導(dǎo)方式中的任意一種。另外，擺動的反射鏡只要是設(shè)置在短軸用均化器25的上游側(cè)的光路上的反射鏡，哪個都可以，也可以取代反射鏡lib而使反射鏡Ila擺動。
本實(shí)施方式的其他結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。
[第四實(shí)施方式]在圖8A以及圖8B中示出本發(fā)明的第四實(shí)施方式的激光退火裝置10的概略結(jié)構(gòu)。
如圖8B所示，在本實(shí)施方式的激光退火裝置10中，短軸用均化器25構(gòu)成為采用了波導(dǎo)44的波導(dǎo)形式。即，在本實(shí)施方式中，短軸用均化器25包括短軸用波導(dǎo)44，將激光1在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個；短軸用導(dǎo)入透鏡43，向該短軸用波導(dǎo)44導(dǎo)入激光1 ；作為短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的短軸用端面轉(zhuǎn)印光學(xué)系統(tǒng)(31a、31b)，在被照射物3的表面，使被短軸用波導(dǎo)44分割后的激光1在短軸方向上疊加。在本實(shí)施方式中， 短軸用端面轉(zhuǎn)印光學(xué)系統(tǒng)包括兩個柱面透鏡31a、31b，將在短軸用波導(dǎo)44的出射面上的短軸像以預(yù)定倍率縮小并投影到被照射面上。
另外，如圖8B所示，本實(shí)施方式的激光退火裝置10具有在激光照射中使短軸用導(dǎo)入透鏡43在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向(圖中的Y方向)往復(fù)移動的短軸用導(dǎo)入透鏡移動裝置45。
這樣，一邊使短軸用導(dǎo)入透鏡43在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，從而入射到構(gòu)成后級的短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(在本實(shí)施方式中為柱面透鏡31b、長軸用聚光透鏡22)的激光1的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，產(chǎn)生由透鏡表面上的散射光引起的在被照射面上的橫向條紋被分散的效果，所以，橫向條紋被大幅度降低。
此外，用于降低縱向條紋的結(jié)構(gòu)和用于降低橫向條紋的結(jié)構(gòu)的組合并不限于在上述的各實(shí)施方式說明的方式，可以在各實(shí)施方式之間自由地更換用于降低縱向條紋的結(jié)構(gòu)13和用于降低橫向條紋的結(jié)構(gòu)來組合。
在上述中，對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但上述公開的本發(fā)明的實(shí)施方式只不過是例示，本發(fā)明的范圍并不限于這些發(fā)明的實(shí)施方式。本發(fā)明的范圍由所記載的技術(shù)方案示出，還包括與技術(shù)方案的記載相同的意思以及在范圍內(nèi)的所有變更。
權(quán)利要求
1.一種激光退火方法，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，利用長軸用導(dǎo)入透鏡向長軸用波導(dǎo)導(dǎo)入激光，利用所述長軸用波導(dǎo)，將激光在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個， 利用長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)，在被照射物的表面，將被所述長軸用波導(dǎo)分割后的激光在長軸方向上疊加，在激光照射中，使所述長軸用導(dǎo)入透鏡在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的所述長軸用導(dǎo)入透鏡的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的長軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
2.一種激光退火方法，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，利用短軸用透鏡陣列，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個， 利用短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)，在被照射物的表面，將被所述短軸用透鏡陣列分割后的激光在短軸方向上疊加，在激光照射中，使所述短軸用透鏡陣列在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的所述短軸用透鏡陣列的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上，并且，所述往復(fù)移動的移動寬度比構(gòu)成所述短軸用透鏡陣列的各柱面透鏡的寬度W小。
3.一種激光退火方法，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，利用短軸用透鏡陣列，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個， 利用短軸用聚光透鏡，在成像面上，將被所述短軸用透鏡陣列分割后的激光在短軸方向上疊加，利用投影透鏡，將成像面的短軸像以預(yù)定倍率縮小投影在被照射物的表面， 在激光照射中，使所述短軸用聚光透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的被照射物上的線狀光束的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
4.一種激光退火方法，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，利用短軸用均化器，使線狀光束的短軸方向的光強(qiáng)度分布均一化， 在激光照射中，使在短軸用均化器的上游側(cè)的光路上設(shè)置的反射鏡擺動，使得線狀光束在短軸方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的被照射物上的線狀光束的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
5.一種激光退火方法，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，利用短軸用導(dǎo)入透鏡，向短軸用波導(dǎo)導(dǎo)入激光，利用所述短軸用波導(dǎo)，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個， 利用短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)，在被照射物的表面，將被所述短軸用波導(dǎo)分割后的激光在短軸方向上疊加，在激光照射中，使所述短軸用導(dǎo)入透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的所述短軸用導(dǎo)入透鏡的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
6.一種激光退火裝置，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，具有短軸用透鏡陣列，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個； 短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)，在被照射物的表面，將被所述短軸用透鏡陣列分割后的激光在短軸方向上疊加；短軸用透鏡陣列移動裝置，在激光照射中，使所述短軸用透鏡陣列在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，在所述往復(fù)移動中所述短軸用透鏡陣列的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上，并且，所述往復(fù)移動的移動寬度比構(gòu)成所述短軸用透鏡陣列的各柱面透鏡的寬度W小。
7.一種激光退火裝置，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，具有短軸用透鏡陣列，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個； 短軸用聚光透鏡，在成像面上將被所述短軸用透鏡陣列分割后的激光在短軸方向上疊加；投影透鏡，將成像面的短軸像以預(yù)定倍率縮小投影在被照射物的表面； 短軸用聚光透鏡移動裝置，在激光照射中，使所述短軸用聚光透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的被照射物上的線狀光束的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
8.一種激光退火裝置，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，具有短軸用均化器，使線狀光束的短軸方向的光強(qiáng)度分布均一化；反射鏡，設(shè)置在該短軸用均化器的上游側(cè)的光路上；鏡擺動裝置，在激光照射中，以線狀光束在短軸方向往復(fù)移動的方式使所述反射鏡擺動，所述往復(fù)移動的被照射物上的線狀光束的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
9.一種激光退火裝置，對由脈沖振蕩產(chǎn)生的激光進(jìn)行整形，在被照射物的表面聚光成線狀光束，以重復(fù)照射激光的方式使線狀光束對被照射物在線狀光束的短軸方向相對地掃描，利用激光照射對被照射物的表面進(jìn)行退火處理，其特征在于，具有短軸用波導(dǎo)，將激光在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上分割為多個； 短軸用導(dǎo)入透鏡，向該短軸用波導(dǎo)導(dǎo)入激光；短軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)，在被照射物的表面，將被所述短軸用波導(dǎo)分割后的激光在短軸方向上疊加；短軸用導(dǎo)入透鏡移動裝置，在激光照射中，使所述短軸用導(dǎo)入透鏡在與線狀光束的短軸方向?qū)?yīng)的方向上往復(fù)移動，所述往復(fù)移動的短軸用導(dǎo)入透鏡的移動寬度S為在被照射物的表面能夠目視出現(xiàn)的線狀光束的短軸方向的條紋圖樣的間距P的1/3以上。
10.如權(quán)利要求1、2至5中的任意一項所述的激光退火方法，其特征在于， 所述激光的偏振方向相對于被照射物的表面為S偏振。
11.如權(quán)利要求6至9中的任意一項所述的激光退火裝置，其特征在于， 所述激光的偏振方向相對于被照射物的表面為S偏振。
全文摘要
本發(fā)明涉及激光退火方法以及裝置。在透鏡陣列方式的均化器光學(xué)系統(tǒng)的情況下，一邊使長軸用透鏡陣列(20a、20b)在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向(X方向)往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(長軸用聚光透鏡22)的激光(1)的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，所以，縱向條紋被大幅度降低。另外，一邊使短軸用透鏡陣列(26a、26b)在與線狀光束的長軸方向?qū)?yīng)的方向(Y方向)往復(fù)移動，一邊進(jìn)行激光照射，由此，入射到在后級設(shè)置的構(gòu)成長軸用聚光光學(xué)系統(tǒng)的大型透鏡(投影透鏡30)的激光(1)的入射角以及強(qiáng)度按照每次發(fā)射而變化，所以，橫向條紋被大幅度降低。
文檔編號B23K26/073GK102513701SQ20121001705
公開日2012年6月27日 申請日期2008年5月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月7日
發(fā)明者M.正木, 川上隆介, 森田勝, 河口紀(jì)仁, 西田健一郎 申請人:株式會社Ihi