專(zhuān)利名稱(chēng)：光刻系統(tǒng)和投影方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種形成光刻系統(tǒng)的4笨針，該光刻系統(tǒng)用于4吏用
"接通，，和"斷開(kāi)，，記錄策略(strategy)在目標(biāo)表面(諸如晶片)
上投影映像圖形，從而在包括柵格單元的柵格上劃分所述圖形，在 每個(gè)柵格單元中所述探針被"接通"或"斷開(kāi)"。
背景技術(shù)：
這些具有所謂的黑白記錄策略的系統(tǒng)在現(xiàn)有4支術(shù)中是眾所周 知的，并且例如可以是以激光器為基礎(chǔ)的，并且以使用直接記錄裝 置為特征，因此被稱(chēng)做無(wú)掩模系統(tǒng)。通過(guò)將所述探針轉(zhuǎn)換為接通或 斷開(kāi)，每個(gè)4冊(cè)格單元相應(yīng);也或^^己錄或不i己錄。該纟笨4十的特4i在于
目標(biāo)表面中的探針效應(yīng)，該探針效應(yīng)通常又被描述為所謂的點(diǎn)擴(kuò)散
函數(shù)。點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)(PSF)通常具有高斯分布。通常將來(lái)自該分布 的探針尺寸作為其中存在有所述探針的50%能量的分布的尺寸。
從本申請(qǐng)人名下的公開(kāi)號(hào)為WO2004038509的國(guó)際專(zhuān)利申請(qǐng) 中獲知了一種特殊類(lèi)型的基于這種探針的光刻系統(tǒng),并且所述光刻 系統(tǒng)涉及帶電粒子束柱中產(chǎn)生的帶電粒子束的多樣性，所述粒子束 柱用于在所述目標(biāo)上記錄所述圖形，為此，所述記錄射束在所述目 標(biāo)上掃描，所述目標(biāo)能夠在4黃切于所述射束的掃描方向的方向上移 動(dòng)，并且為此目的而調(diào)節(jié)所述記錄射束，基于此，利用所述目標(biāo)上 的虛擬柵格并且利用用于調(diào)節(jié)一個(gè)或者多個(gè)帶電射束的記錄信息 來(lái)將系統(tǒng)圖形特征定位在所述目標(biāo)上。因此，由已知的光刻系統(tǒng)來(lái)記錄圖形通過(guò)目標(biāo)表面的相對(duì)移動(dòng) 與記錄射束的定時(shí)1妄通"和"斷開(kāi)"轉(zhuǎn)換的組合來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述記
錄射束的定時(shí)"接通"和"斷開(kāi)"轉(zhuǎn)換由所述光學(xué)熄滅裝置(blanker optics )基于所述控制單元(更具體地，控制單元的所謂的圖形射束) 發(fā)出的信號(hào)來(lái)實(shí)現(xiàn)。
通過(guò)虛擬棚-才各的梯:作z使用，已知的系統(tǒng)能夠判定將記錄射束變 為"4妄通"方式還是"斷開(kāi)"方式，該1妄通"方式和"斷開(kāi)"方 式在具體的示例性系統(tǒng)中相應(yīng)地是指將射束熄滅(blank )還是不熄 滅。例如在具體已知的實(shí)施方式中，這種所使用的柵格的尺寸是由 以下問(wèn)題來(lái)確定的即，斑點(diǎn)(spot)的意外(即，不必要的)落 下(現(xiàn)今在多記錄射束系統(tǒng)中出現(xiàn)斑點(diǎn)意外落下的可能性是很大 的)是否會(huì)擾亂待記錄在襯底上的圖形。因此，存在選擇盡可能小 的柵格的趨勢(shì)。這個(gè)趨勢(shì)是由設(shè)計(jì)者期望在設(shè)計(jì)行寬或物體寬度時(shí) 或在確定定位位置時(shí)具有虛擬無(wú)限選擇而引起的。根據(jù)對(duì)本發(fā)明的 基本iU只，定位位置意味著在記錄時(shí)糾正鄰近效應(yīng)的額外可能性。 另一方面，在多記錄射束系統(tǒng)中，尤其希望柵格盡可能得大，以便 限制待處理和傳送到光刻系統(tǒng)的記錄裝置部分的數(shù)據(jù)量，以及使得 熄滅裝置能夠及時(shí)地轉(zhuǎn)換，以便進(jìn)行特征的正確記錄，而無(wú)需能夠 快速轉(zhuǎn)換的高度復(fù)雜和/或相對(duì)昂貴的熄滅裝置結(jié)構(gòu)。
的光刻機(jī)辨別所謂的臨界尺寸單元(典型地例如45 nm )，所述單元 由具有相應(yīng)*見(jiàn)格#1針尺寸(例如30nm)的記錄射束來(lái)記錄，并且 所述單元被劃分為多個(gè)4冊(cè)格單元，例如20乘20個(gè)柵格單元，因此， 柵格單元相對(duì)于探針尺寸具有小的尺寸，例如2.25 nm。在這樣的 設(shè)置中，僅一個(gè)柵格單元的意外熄滅或不熄滅對(duì)電子的沉積劑量只 會(huì)存在很小的影響(例如只是0.25% )，實(shí)際上這個(gè)影響被認(rèn)為是可 忽略的?，F(xiàn)在，本發(fā)明處理以下問(wèn)題即，在基于光柵的光刻系統(tǒng)中， 如何在沒(méi)有上述缺點(diǎn)的情況下將圖形特征更并*確地定位在待圖形 化的襯底表面上。除了前面提及的原因以外，尤其在多射束記錄射 束系統(tǒng)中，精確地定位特征或邊緣是非常重要的，這具體地是因?yàn)?襯底的待曝光的不同部分可以通過(guò)不同的探針(諸如多射束系統(tǒng)中 的不同帶電粒子束)來(lái)圖形化，并且還因?yàn)檫@會(huì)提供在熄滅裝置中 通過(guò)特征的亞像素再定位來(lái)4交正鄰近效應(yīng)的另 一種方法。
在其他現(xiàn)有技術(shù)中， 一種通過(guò)射束使襯底圖形化的廣泛使用的 方法也是光柵掃描。為了在襯底上精確地記錄圖形，圖形被光柵化。 每個(gè)帶電粒子束在待圖形化的襯底上執(zhí)行其記錄操作，所述襯底被 定位在以連續(xù)方式移動(dòng)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)平臺(tái)上。同時(shí)，射束沿垂直于平 臺(tái)移動(dòng)的方向掃描。通過(guò)在合適的時(shí)間向射束提供記錄信息，圖形 被記錄在柵格上，所述4冊(cè)格不一定必須是笛卡爾柵格(Cartesian grid)。這種現(xiàn)有技術(shù)的主要問(wèn)題在于，特征只能被定位在單個(gè)纟冊(cè)格 單元的尺寸中。發(fā)布圖形設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)沒(méi)有解決這個(gè)問(wèn)題，這是因?yàn)樵?曝光之前，需要對(duì)圖形i殳計(jì)的多個(gè)分辨率擾亂現(xiàn)象(例如鄰近效應(yīng)) 進(jìn)行校正。這些校正可以將特征的邊緣移動(dòng)得遠(yuǎn)離柵格行。
從US5103101中獲知了一種有助于改進(jìn)在多射束光刻系統(tǒng)的 現(xiàn)有技術(shù)中研發(fā)出的記錄的精確度的方法，其中，通過(guò)采用多通道 來(lái)記錄圖形，圖形首先^皮光4冊(cè)化。在光4冊(cè)化以后， <象素#1分成可選 擇凄t量的"相"。每個(gè)相在單獨(dú)的光4冊(cè)掃描中^皮印刷。這導(dǎo)致所選 數(shù)量的光柵掃描構(gòu)成特征。由于像素之間的間距在兩個(gè)方向上被擴(kuò) 大，因此能夠以更高的速度執(zhí)4亍每次掃描。因此，在這種方法中， 在第 一次曝光期間圖形#1部分地^己錄。整個(gè)4冊(cè)格在單個(gè)4冊(cè)格單元的 尺寸內(nèi)移動(dòng)，然后圖形的第二部分被記錄。如此，特征邊緣因此能 夠比之前精確兩倍地定位。通過(guò)采用更多的通道，能夠獲得更4青確的圖形布置。這種方法的一個(gè)相當(dāng)嚴(yán)重的缺點(diǎn)是，多通道所意p木的 生產(chǎn)量的巨大損失，尤其是在精確度的等級(jí)提高時(shí)。
另一個(gè)應(yīng)用光4冊(cè)的已知才支術(shù)已知為灰色i己錄(grey writing), 并且例如在早期的美國(guó)專(zhuān)利5393987中所描述的。在這種方法中， 使用了相對(duì)少量的4冊(cè)格單元。然而，每個(gè)柵格單元中所應(yīng)用的劑量 可通過(guò)改變照射的持續(xù)時(shí)間而改變?yōu)槔?%、 30%、 70%和100%。 沿著特4正邊續(xù) 使用了 30%和70%<象素，以《更在笛卡爾光4冊(cè)的刊-(line)間記錄時(shí)定位邊緣。因此，能夠在不需要多通道的情況下 精確地調(diào)整特征的位置。此外，需要較少的數(shù)據(jù)來(lái)得到同樣的結(jié)果。 然而，這個(gè)已知的4支術(shù)和系統(tǒng)伴隨有多個(gè)缺點(diǎn)。例如，劑量等級(jí)通 過(guò)部分的熄滅或通過(guò)控制曝光時(shí)間而產(chǎn)生。在這樣的設(shè)置中，所需 的對(duì)不連續(xù)步驟的控制要求以非常精確的方式來(lái)操作。尤其對(duì)于高 生產(chǎn)量應(yīng)用，這樣的要求導(dǎo)致光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)非常困難并且相應(yīng);也 導(dǎo)致高成本。另外，像這樣的系統(tǒng)的產(chǎn)量損失很大。由于相對(duì)大的 才冊(cè)格尺寸，圖形控制數(shù)據(jù)中的一個(gè)位誤差會(huì)對(duì)系統(tǒng)中的相關(guān)曝光產(chǎn) 生相對(duì)大的影響。因此，已處理的襯底(如掩才莫或晶片)的相對(duì)大 的范圍存在需要修補(bǔ)的風(fēng)險(xiǎn)，或者更壞地，存在報(bào)廢(即，變得無(wú) 法〈多補(bǔ))的風(fēng)險(xiǎn)。
為了克服對(duì)光柵或柵格系統(tǒng)的限制而設(shè)計(jì)的又一種方法和機(jī) 器由術(shù)語(yǔ)虛擬地址指出，并且例如在美國(guó)專(zhuān)利4498010中所披露的。 才艮據(jù)這個(gè)系統(tǒng)，其中，柵—各單元的尺寸等于揭:4十的尺寸，可通過(guò)在 所選特4正之前或之后記錄附加^f象素而將特4正邊纟彖幾乎定位在兩個(gè) 柵格行之間，從而在交替的探針位置中熄滅射束。這個(gè)方法將會(huì)損 壞已記錄特征的邊緣平滑度，但減少了系統(tǒng)的定位誤差，并且有利 地維持了系統(tǒng)的產(chǎn)量。然而，該系統(tǒng)受限于邊緣位移的一個(gè)特定距 離，即，4冊(cè)格單元尺寸的一半，在這個(gè)系統(tǒng)中，棚-才各單元尺寸的一 半對(duì)應(yīng)于探針尺寸的一半，實(shí)際上這不僅意味著定位位置的延伸受限于一個(gè)j象素中間的單個(gè)位置，而且如本〃>開(kāi)所指出的，也意p木著 這一移動(dòng)的邊緣在形狀上會(huì)是相當(dāng)粗糙的。這個(gè)已知的系統(tǒng)既沒(méi)有 說(shuō)明如何實(shí)現(xiàn)光滑邊緣的虛擬無(wú)限亞像素布置，也沒(méi)有涉及到纟罙針 尺寸明顯大于^f象素尺寸的同時(shí)期系統(tǒng)。
在如US2002/0104970中所4皮露的所謂向量掃描記錄策略和光 柵掃描策略的組合中，待記錄的圖形被光柵化并且一組像素被組 合，從而形成一個(gè)單元。在這個(gè)單元中，可得到有限數(shù)量的可能圖 形結(jié)構(gòu)。每種可得到的結(jié)構(gòu)均被賦予一個(gè)形狀碼。隨后，在以光柵 掃描的方式從某一位置移動(dòng)到另一位置的同時(shí)，通過(guò)在期望的位置 處照射每個(gè)單元來(lái)記錄圖形。能夠通過(guò)應(yīng)用合適的形狀碼來(lái)調(diào)整邊 緣相對(duì)于光柵化的柵格的位置。因此，可以確定這個(gè)具體專(zhuān)利公開(kāi) 4皮露了一種利用已圖形化的單元的灰色記錄形式。除^U吏用有限凝: 量的單元結(jié)構(gòu)之外，還可顯而易見(jiàn)的是，這個(gè)構(gòu)思不是如光刻系統(tǒng) 中所討論的那樣基于單個(gè)像素的貢獻(xiàn)來(lái)考慮。
本發(fā)明的目的在于克月良如現(xiàn)有寺支術(shù)中通過(guò)光4冊(cè)方法將特征定 位在襯底上所帶來(lái)的限制，或者涉及實(shí)際上獨(dú)立于這種光4冊(cè)或者棚-格在期望的位置處定位特征的邊纟彖。更具體地，本發(fā)明的目的在于， 在采用傳統(tǒng)的黑白記錄策略的同時(shí)，通過(guò)養(yǎng)護(hù)相對(duì)非常細(xì)小的4冊(cè)格 結(jié)構(gòu)，使得至少實(shí)際上光刻系統(tǒng)的生產(chǎn)量沒(méi)有損失，并使得實(shí)際上 特征的邊緣平滑度沒(méi)有降低。通過(guò)這樣的形成光刻系統(tǒng)的探針(其 中，事實(shí)上，特4正的定位不再、至少幾乎不限于4冊(cè)格單元的有限尺 寸到它的一半尺寸)，獲得了高度先進(jìn)的臨界尺寸控制，更具體地， 甚至以一種相對(duì)經(jīng)濟(jì)的方式獲得，臨界尺寸控制使得實(shí)質(zhì)上獨(dú)立于 所應(yīng)用的棚-4各對(duì)目標(biāo)上的邊纟彖進(jìn)4于實(shí)質(zhì)上無(wú)阻礙布置成為可能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明通過(guò)特征和/或其邊纟彖的虛擬無(wú)限亞〗象素定位而實(shí)質(zhì)上 甚至更進(jìn)一步減小像素尺寸來(lái)提高了當(dāng)今光刻系統(tǒng)示出的柵格尺 寸明顯小于探針尺寸的可能性，沒(méi)有損失邊^(qū)^平滑度，并且可應(yīng)用 在諸如無(wú)掩模的多射束系統(tǒng)中，沒(méi)有與進(jìn)一步減小柵格尺寸相關(guān)的
缺點(diǎn)，即，沒(méi)有增加系統(tǒng)中4寺處理和待傳送的翁:據(jù)，并且無(wú)需如與 小柵格尺寸相關(guān)的快速轉(zhuǎn)換所需的技術(shù)上復(fù)雜且相對(duì)昂貴的熄滅系統(tǒng)。
以上的效果通過(guò)用于在目標(biāo)表面(諸如晶片)上投影映像圖形 的系統(tǒng)來(lái)實(shí)現(xiàn)，其中，利用虛擬柵格將光刻系統(tǒng)圖形特征定位在所 述目標(biāo)上，在所述系統(tǒng)中，記錄射束探針在所述目標(biāo)表面上的點(diǎn)擴(kuò) 散函數(shù)明顯大于柵格單元的尺寸，由于探針覆蓋了至少多個(gè)柵格單 元，并且在所述系統(tǒng)中，通過(guò)調(diào)節(jié)所述特征中的至少多個(gè)4冊(cè)格單元 中的至少一組的方法來(lái)定位待記錄的特征邊纟彖。通過(guò)本發(fā)明，現(xiàn)在 以空前的精確程度和邊緣平滑度來(lái)定位特征和/或其邊緣成為可能。 明顯地，本發(fā)明的范圍延伸到各種基于光柵的光刻系統(tǒng)。此外，應(yīng) 注意到本發(fā)明涉及記錄尺寸大于柵格單元的尺寸的特征。
通過(guò)具有當(dāng)今特性的光刻系統(tǒng)并且因此通過(guò)以下說(shuō)明書(shū)，在無(wú) 需多通道的情況下，即，在保持生產(chǎn)量的情況下，通過(guò)相對(duì)小的柵 格尺寸方法并且在無(wú)需改變傳統(tǒng)的黑白記錄工具的情況下，實(shí)現(xiàn)特 征的高精度圖形化。根據(jù)本發(fā)明的方法的一個(gè)具體優(yōu)點(diǎn)是，在尺寸 和定位上控制光刻系統(tǒng)的特征的新可能性。本發(fā)明的一個(gè)特殊優(yōu)點(diǎn) 是，能夠在點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)明顯大于所應(yīng)用的柵格尺寸的應(yīng)用中進(jìn)行這 種精確定位。根據(jù)對(duì)本發(fā)明的根本的進(jìn)一步認(rèn)識(shí)，后者是理想的， 至少對(duì)于減'J 、對(duì)行寬的不準(zhǔn)確度和行寬粗糙度的靈敏度是優(yōu)選的。另外，對(duì)于本發(fā)明，無(wú)需使系統(tǒng)的熄滅部分的成本和技術(shù)復(fù)雜 性受到過(guò)分細(xì)孩吏的限制。例如，在典型的當(dāng)前光刻系統(tǒng)中，省去定
向在才幾才戒或平臺(tái)移動(dòng)方向Mm上、而不是在掃描方向Sd上的一整 行，這現(xiàn)在將要求熄滅裝置能夠以一定像素頻率接通和斷開(kāi)，并且 因此將要求上升/下落時(shí)間，由于滿足這個(gè)要求的熄滅裝置的相關(guān)成 本和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，該時(shí)間實(shí)際上不會(huì)被實(shí)現(xiàn)。因此，除了熄滅裝置 的經(jīng)濟(jì)但卻有限的操作頻率外，期望在成本和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性方面有所 降低，有利地，可以根據(jù)本發(fā)明的兩種方法的組合來(lái)調(diào)整待投影的 圖形，如此，系統(tǒng)的單獨(dú)熄滅裝置不需比這一限制頻率轉(zhuǎn)換得更快。 簡(jiǎn)而言之，這些方法(它們也可以分開(kāi)應(yīng)用)包括除已投影的圖形 邊纟彖以外的其他已記錄的〗象素并且省去(即，不記錄)圖形的已賴(lài): 影邊界中的這一邊界附近的〗象素。
然而，才艮據(jù)本發(fā)明的另一方面，可以在幾個(gè)特4正直到全部圖形 的大部分的范圍內(nèi)執(zhí)行局部劑量調(diào)節(jié)，以便克服其他存在的鄰近效應(yīng)。
對(duì)于其中的特征密度具有較大差別的圖形，所述圖形的不同部 分可以不分享共同的顯影水平，這意p木著已曝光圖形的一部分在顯 影以后將不顯示出任何特征。通過(guò)在具有不同圖形密度的區(qū)域之間 應(yīng)用劑量調(diào)節(jié)(即，對(duì)于圖形的稠密部分應(yīng)用較少的劑量)，因此， 通過(guò)本發(fā)明產(chǎn)生了共同的顯影水平。為了特征邊緣的準(zhǔn)確定位，這 個(gè)劑量調(diào)節(jié)與記錄或省去邊緣處的像素或者省去平行于所述邊緣 的全部4于相結(jié)合。
事實(shí)上，本發(fā)明也可被表示為具有所述當(dāng)前特征的光刻系統(tǒng)， 出于移動(dòng)特征或其邊》彖的位置的目的，本發(fā)明4吏用了一套方法中的 至少一個(gè)，所述方法包4舌-以在每次接通/斷開(kāi)轉(zhuǎn)換之間都有多于一個(gè)連續(xù)接通/斷開(kāi)像
素的方式在特征的外側(cè)且在特征的邊緣附近記錄另外的像素；
-省去(即，不記錄)所述特;f正的邊界中的所述特4i的邊纟彖附 近的像素或全部行；
-對(duì)于待通過(guò)不記錄特征所圍繞的像素的一部分(包括鄰接特 征的已投影邊緣的單元)來(lái)記錄的一個(gè)或多個(gè)完整特征，降低圖形 中的能量劑量；
-應(yīng)用前面三種方法中的兩種或全部的組合。
本發(fā)明的特征還在于，其提出了一種用于不能僅通過(guò)命令設(shè)計(jì) 者僅可在柵格尺寸的多倍范圍內(nèi)設(shè)計(jì)特征就解決的這一 問(wèn)題的解 決方案，具體地是一種高質(zhì)量的解決方案。因?yàn)楝F(xiàn)有技術(shù)中通常已 知的鄰近效應(yīng)，；降記錄的結(jié)構(gòu)附近的特4正可以在任意的距離上移動(dòng) 特征的邊緣。因此，存在經(jīng)濟(jì)地且有利地在預(yù)見(jiàn)位置處定位特;f正的 邊鄉(xiāng)彖的高需求，即，至少實(shí)質(zhì)上獨(dú)立于實(shí)際所應(yīng)用的才冊(cè)格。
在前述方面中，對(duì)本發(fā)明的基本認(rèn)識(shí)提供了，射束(具體地是 電子束)的4笨針尺寸遠(yuǎn)大于通常應(yīng)用在當(dāng)前光刻系統(tǒng)中的才冊(cè)格尺 寸。因此，當(dāng)像素被直接添加在特征的邊緣附近時(shí)，例如，優(yōu)選地， 在每對(duì)添加的單元之間的兩個(gè)或更多個(gè)空白柵格單元存在中斷，因 此所產(chǎn)生的邊緣的粗糙度將至少實(shí)質(zhì)上在最后的特征中不是顯而 易見(jiàn)的。然而，特征的邊^(qū)彖在最后的圖形中已經(jīng)朝向特征的外側(cè)移 動(dòng)了這樣一個(gè)數(shù)值，該數(shù)值是用已記錄的像素的數(shù)量除以添加這一 數(shù)量的像素時(shí)的系數(shù)而得到的。例如，如果第l行在寬度方向上延 伸到n+l像素，第2行也如此，第3行保持在由所應(yīng)用的柵格定義 的寬度n處，那么相關(guān)特征的實(shí)際邊緣將實(shí)際上變成位于柵格位置 n+2/3處。應(yīng)注意到，在最終獲得的特征形狀沒(méi)有出現(xiàn)明顯的粗糙 度效應(yīng)的情況下，可以容易地將另外的像素定位在與所應(yīng)用探針尺 寸的一半左右相對(duì)應(yīng)的柵格距離處。然而，以這樣的方式可以獲得沖冊(cè)才各單元的尺寸中明顯的再分圖形位置(例如，以系凄t 10)。在這 點(diǎn)上，在柵格尺寸為2.25 nm處，并且具有9個(gè)已記錄行而留有另 一不記錄單元，當(dāng)臨界尺寸控制為0.11 nm時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)邊緣清晰 度為0.22nm的再分。還應(yīng)進(jìn)一步注意到，根據(jù)本發(fā)明，本方法的 可替換應(yīng)用和效果是增大了所應(yīng)用光柵的單元寬度，從而減小了所 需的如通常包含在圖形光束亞系統(tǒng)中的電子存儲(chǔ)器的數(shù)量。本發(fā)明 的這個(gè)效果可以例如在所謂的多射束光刻系統(tǒng)(例如，具有10000 個(gè)記錄射束或更多)中尤其變得引人關(guān)注。
其次，上述才艮據(jù)本發(fā)明的解決方案，并且它的一部分涉及省去 (即，不記錄)特4正(即，已記錄結(jié)構(gòu))內(nèi)的4冊(cè)格點(diǎn)。才艮據(jù)對(duì)本發(fā) 明的又一基本認(rèn)識(shí)，公認(rèn)的是探針的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)大于地址柵格，并 且/>《人的是這種狀況能夠產(chǎn)生積才及的效用。具體地，因?yàn)檫呮韪浇?的柵格點(diǎn)的影響，出于移動(dòng)特征的邊緣位置的目的，本發(fā)明提出了 省去結(jié)構(gòu)內(nèi)的點(diǎn)的構(gòu)思和方法，然而內(nèi)部的特4正展開(kāi)到這個(gè)邊纟彖。 這一移動(dòng)距離取決于距離相關(guān)特征邊緣多遠(yuǎn)的柵格點(diǎn)被刪除(即， 不被記錄)。刪除的柵格點(diǎn)的效用在于，在邊緣處局部有效地降低 劑量并且因此移動(dòng)特征的邊緣位置。
才艮據(jù)本發(fā)明的又一方面，省去照明的方法，即，不在特征(可 替換地為指定結(jié)構(gòu))內(nèi)的柵格點(diǎn)上進(jìn)行記錄也被用作通過(guò)劑量校正 而用于鄰近效應(yīng)的額外4交正。因?yàn)槠溆行У厝コ似毓饬?，因此?相對(duì)容易地計(jì)算出哪個(gè)附近結(jié)構(gòu)已經(jīng)沉積了劑量。有效地，其利用 了灰度等級(jí)。在例如20乘20的柵格處，半臨界尺寸正方形有100 個(gè)柵格點(diǎn)，因此有效地，用IOO灰度等級(jí)加上自由度來(lái)選擇哪些柵
格點(diǎn)爿,#:留下而不^皮i己錄。
才艮據(jù)本發(fā)明的又一方面，有利地，邊纟彖定位能夠通過(guò)結(jié)合上述 定位邊緣的方式(即，通過(guò)以具體的方式添加<象素或者通過(guò)去除{象 素)中的兩種來(lái)實(shí)it見(jiàn)。才艮據(jù)對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步認(rèn)識(shí)，特征和/或其邊緣的亞<象素布置中 的可能步驟的最大數(shù)值不僅因?yàn)樘结槼叽绲南拗品秶?，而且還因?yàn)?熄滅裝置約束，即，目的在于保持經(jīng)濟(jì)上可實(shí)現(xiàn)的具有技術(shù)上有限 復(fù)雜性的熄滅裝置。在光柵掃描(諸如，無(wú)掩模、多射束系統(tǒng)中的 偏轉(zhuǎn)掃描)的情況下，這個(gè)約束只存在于最快掃描方向上。這意味 著對(duì)于位于平臺(tái)(包括將在其上進(jìn)行記錄的所述目標(biāo))的機(jī)械移動(dòng) 方向上的特征邊緣來(lái)說(shuō)，可以記錄各種類(lèi)型的"粗糙邊緣"，然而， 由于所述熄滅裝置約束，不記錄相關(guān)特征的邊界中在相同方向上的 <義單個(gè)4于或其一部分實(shí)際上是不可4亍的。因此，與用于主要定向在 電子掃描方向上的邊纟彖的策略相比，用于應(yīng)用在定位沿積4成移動(dòng)方 向的邊*彖中的邊*彖的亞^f象素位置的策略稍有不同。
從光刻設(shè)備的實(shí)際用途中，在該領(lǐng)域中變得顯而易見(jiàn)的是，對(duì) 設(shè)計(jì)用于芯片的柵格的需求是不期望的。因此，為了這個(gè)效果，預(yù)
計(jì)了對(duì)于臨界尺寸控制(CDC)和覆蓋的貢獻(xiàn)。通過(guò)提及的粗糙邊 緣方法，這很可能小于柵格尺寸的十分之一。
應(yīng)注意到，根據(jù)本發(fā)明的范圍和目的，不僅特征的邊緣要在亞 <象素4青度水平下定位，而且全部特4正在尺寸上也可纟皮4青確地定位、 脫位或調(diào)整。實(shí)際上，這意味著在圖形化時(shí)有利地實(shí)現(xiàn)了更多的靈 活性，除此之外圖像還包括防止由于待定位在目標(biāo)上的特征之間 的鄰近歲丈應(yīng)而導(dǎo)致的4于寬i吳差的新方式。
本發(fā)明進(jìn)一步包括一種限制用于待投影的圖像的全部能量劑 量的構(gòu)思和方法，以使得上述布置特征及其邊緣的目的被實(shí)現(xiàn)。根 據(jù)本發(fā)明，這是通過(guò)不記錄落入待記錄的特征的邊界內(nèi)的一部分單 元來(lái)實(shí)現(xiàn)的，包括直接與特征的邊緣相鄰的單元陣列。優(yōu)選但非必 需的，這種不記錄單元在特征的邊界內(nèi)的主要規(guī)則圖形中執(zhí)行。以 這種方式，不僅可以定位或移動(dòng)特征及其邊緣，而且根據(jù)本發(fā)明， 可以操縱特征的尺寸(例如，寬度)。以上所述的^4居本發(fā)明的所有三種方法均可以組合i也應(yīng)用，然 而也可以單獨(dú)地應(yīng)用。 一個(gè)常用的組合是鄰近邊纟彖且在特征外添加 已記錄單元的方法與鄰近邊》彖且在特^正內(nèi)不記錄單元的方法。在如
上所述的用于定位或梯:縱特征的計(jì)算才幾程序中，三種方法的可能組 合的全部范圍都是可利用的。


將在以下根據(jù)本發(fā)明的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的實(shí)施例中以實(shí)例的
方式進(jìn)一步闡明本發(fā)明，附圖中
圖1是現(xiàn)有技術(shù)光刻系統(tǒng)的示意圖，本發(fā)明是以該光刻系統(tǒng)為 基礎(chǔ)的；
圖2A和圖2B示出了具有笛卡兒柵格的已知光刻系統(tǒng)的對(duì)齊 問(wèn)題；
圖3示出了利用高斯射束的圖形沉積的構(gòu)思；
圖4示出了高斯射束原理的俯視圖，以及邊緣定位圖形的第三 實(shí)例；
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的光刻實(shí)施例的結(jié)果；
圖6示出了利用"粗糙邊緣"方法的根據(jù)本發(fā)明的亞像素行寬 調(diào)節(jié)方法；
圖7示出了出于移動(dòng)邊緣的目的而在特征內(nèi)不記錄整行單元的 原理方法；圖8示出了對(duì)于以每臨界尺寸的單元數(shù)量表示的幾個(gè)柵格尺寸 來(lái)說(shuō)，單行"粗糙邊緣"的最大允許調(diào)節(jié)步驟尺寸，即，通過(guò)在單 元邊緣附近的最后一行待記錄單元之外記錄附加單元的特征邊緣 的位移。
在這些附圖中，相應(yīng)(即，至少在功能上相應(yīng))的結(jié)構(gòu)特征以 相同的參考標(biāo)號(hào)指出。
具體實(shí)施例方式
圖1示出了能通過(guò)本發(fā)明進(jìn)行改進(jìn)的一個(gè)現(xiàn)有技術(shù)光刻系統(tǒng)的 整體側(cè)-見(jiàn)圖。在這個(gè)系統(tǒng)中，在此作為一個(gè)實(shí)例描述了本發(fā)明可以 應(yīng)用的i也方，在光發(fā)射器處或者光載體Fb的調(diào)節(jié)裝置端2，在以光 纖Fb作為實(shí)施例的情況下，利用以透鏡54表示的光學(xué)系統(tǒng)將光束 8投影到調(diào)節(jié)器陣列24上。來(lái)自每個(gè)光纖端的已調(diào)節(jié)的光束8被投 影到光敏元件(即，所述調(diào)節(jié)器陣列24的一個(gè)調(diào)節(jié)器的光敏部分) 上。具體地，光纖Fb的端部被投影到調(diào)節(jié)器陣列上。每個(gè)光束8 保持用于控制 一個(gè)或多個(gè)調(diào)節(jié)器的圖形數(shù)據(jù)的一部分，對(duì)調(diào)節(jié)器的 調(diào)節(jié)構(gòu)成了用于基于調(diào)節(jié)器陣列指示來(lái)傳送圖形數(shù)據(jù)以在所述目 標(biāo)表面上實(shí)現(xiàn)期望的圖像的信號(hào)系統(tǒng)。圖l還示出了一個(gè)射束發(fā)生 器50,該發(fā)生器產(chǎn)生發(fā)散的帶電粒子束51 (在該實(shí)例中是電子束)。 利用光學(xué)系統(tǒng)52 (在該實(shí)例中是電子光學(xué)系統(tǒng))，該射束51成形為 平行射束。平行射束51撞擊在帶孔板53上，從而產(chǎn)生多個(gè)基本上 平行的記錄射束22，該射束射向調(diào)節(jié)陣列24 (可選擇地被稱(chēng)為熄 滅裝置陣列)。利用調(diào)節(jié)陣列24 (包括靜電偏轉(zhuǎn)元件)中的調(diào)節(jié)器 使得i己錄射束27偏離光刻系統(tǒng)的光軸，并JM吏得記錄射束28未偏 轉(zhuǎn)地通過(guò)調(diào)節(jié)器。利用射束阻擋陣列25來(lái)阻擋偏轉(zhuǎn)的記錄射束27。 穿過(guò)阻擋陣列25的記錄射束28在偏轉(zhuǎn)陣列56處沿著第一記錄方 向偏專(zhuān)爭(zhēng)，并且利用才殳射透4竟55來(lái)減小每個(gè)細(xì)光束(beamlet)的才黃截面。在記錄期間，目標(biāo)表面49相對(duì)于系統(tǒng)的其余部分沿第二記 錄方向移動(dòng)。
此外，光刻系統(tǒng)包括控制單元60,該控制單元包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器 61、讀出單元62和數(shù)據(jù)變換器63,包括所謂的圖形光束?？刂茊?元60 ^皮定4立在遠(yuǎn)離系統(tǒng)的其余部分處，例如4立于無(wú)塵室中心部分 的外面。利用光纖Fb將保持圖形數(shù)據(jù)的已調(diào)節(jié)的光束8傳送到投 射器54，該投射器將光纖的端部投射到調(diào)節(jié)陣列24上。
首先將概括地示出由例如上述類(lèi)型的光刻系統(tǒng)改進(jìn)而來(lái)的本 發(fā)明的主題，之后將更詳細(xì)地論述本發(fā)明。圖2A和圖2B示出了根 據(jù)柵格約束設(shè)計(jì)的特征因而無(wú)阻礙設(shè)計(jì)的特征，這正是系統(tǒng)的用戶 所期望的，并且是現(xiàn)在本發(fā)明可能做到的。圖2A示出了完全與所 應(yīng)用的柵格對(duì)齊的圖形。每個(gè)柵格單元或是完全曝光或是一點(diǎn)也沒(méi) 曝光。圖2B示出了相同的圖形，該圖形現(xiàn)在與所應(yīng)用的棚"格未對(duì) 準(zhǔn)。圖形的邊緣沒(méi)有落到與曝光設(shè)備的記錄柵格對(duì)應(yīng)的柵格線上， 然而，仍然示出了實(shí)際上相同的平滑度。這是期望通過(guò)本發(fā)明獲得 的效果，然而這不能通過(guò)傳統(tǒng)的黑白記錄策略獲得，所述黑白記錄 策略限于實(shí)現(xiàn)柵格線內(nèi)部(co-inside)的特征邊緣。
通過(guò)圖3，它示出了當(dāng)記錄細(xì)光束的中心#1定位在單元中心的 頂部上時(shí)4冊(cè)格單元^皮曝光在目標(biāo)上。入射時(shí)在期望的光刻目標(biāo)上產(chǎn) 生的探針的直徑遠(yuǎn)大于單元尺寸。出于清楚的目的，如圖3A中所 示的高斯探針的寬度與實(shí)際相比小很多。實(shí)際上，探針通常至少覆 蓋在約十個(gè)柵格單元的長(zhǎng)度上。因此，某些單元的完全曝光也導(dǎo)致 鄰近已曝光單元的單元中的部分曝光(具有較低密度的曝光)。那 么，當(dāng)多個(gè)鄰近的4冊(cè)格單元#1完全曝光時(shí)，沉積在單獨(dú)的4冊(cè)格單元 中的電子的數(shù)量構(gòu)成/人單元自身的曝光中直接地接收的劑量以及 通過(guò)相鄰單元的曝光間4妄地接收的劑量的總和。結(jié)果，當(dāng)4又才冊(cè)格單 元曝光時(shí)，總劑量超出每個(gè)棚-4各單元的劑量，因此，形成一個(gè)更寬且更大的結(jié)構(gòu)，如能從圖3A中大體上頂帽狀的圖形中所得到的。 然而，可以通過(guò)選擇合適的切斷劑量水平(圖3A中以虛線示出) 來(lái)重建所期望的特征尺寸。圖3B中示出了這種重建的結(jié)果。
圖4示出了本發(fā)明實(shí)施例的第一效果。在圖4B中，以粗體示 出(線Ee) 了期望的待繪制圖形。特征的頂部邊緣沒(méi)有與已光柵化 圖形的柵格線對(duì)齊。通過(guò)調(diào)節(jié)單元的頂部陣列而繪制出的粗體線Ee 示出了已光柵化圖形及其通過(guò)4艮據(jù)本發(fā)明方法的細(xì)光束而有效地 記錄的邊緣。在記錄時(shí)，期望的未與柵格線對(duì)齊的邊緣具有粗糙的 形狀。在圖4A中，在具有以下尺寸的正方形光4冊(cè)部分中表示出由 記錄射束實(shí)現(xiàn)的探針Ss，該光柵部分的尺寸與對(duì)于45 nm的臨界尺 寸CD的典型寬度一致。因?yàn)橛涗浖?xì)光束的探針尺寸Ss遠(yuǎn)大于單個(gè) 柵格單元的尺寸Ps (可選擇地稱(chēng)為像素尺寸)，在顯影已曝光的圖 形之后，邊緣的形狀是不可見(jiàn)的。已光柵化圖形中的陰影線(即， 粗糙邊緣)有效地將最后的特征邊緣向外移動(dòng)到期望的位置。這個(gè) 布置技術(shù)的可能精確度取決于與細(xì)光束的探針尺寸Ss相比的粗糙 邊緣像素長(zhǎng)度的尺寸。通過(guò)仔細(xì)地選擇，獲得了小于柵格單元尺寸 的1/10的精確度。 一種用于亞^象素調(diào)節(jié)的解決方案是利用粗糙邊 緣。特征邊緣的亞像素布置通過(guò)使得特征的外部像素線中的一些像 素4妄通以及^f吏得一些^f象素?cái)嚅_(kāi)來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，對(duì)于具有一系列2個(gè) 接通像素、3個(gè)斷開(kāi)像素的外部行來(lái)說(shuō)，光刻膠(即，用于在其上 記錄圖形的目標(biāo))中的邊緣將位于像素的2/5處。通過(guò)選擇正確的 才妄通/斷開(kāi)比，將特征的邊緣有效地布置得比所應(yīng)用的〗象素尺寸Ps (例如，為2.25nm)更精細(xì)。因?yàn)殡娮邮奶结槼叽鏢s遠(yuǎn)大于柵 格尺寸，因此實(shí)質(zhì)上行的粗糙度在最終的圖形中是不可見(jiàn)的。根據(jù) 對(duì)本發(fā)明的認(rèn)識(shí)，特征邊緣的亞^f象素布置中的可能步驟的最大數(shù)值 不僅限于探針尺寸而且由于熄滅裝置約束，即，目的在于保持經(jīng)濟(jì) 上可實(shí)現(xiàn)的具有^t術(shù)上有限復(fù)雜性的熄滅裝置。然而，這個(gè)約束只 存在于偏轉(zhuǎn)掃描的方向。在圖6B中，這些不可能的調(diào)節(jié)由周?chē)膱A圏Np指出。這也可以通過(guò)省去特征中的4象素來(lái)克月良，例如，如 圖6A中的那才羊。
圖5示出了 #4居本發(fā)明的進(jìn)一 步方法的光刻系統(tǒng)的第二方法和 效果，它基于省去(即，不記錄)已光柵化邊緣附近的像素。在這 點(diǎn)上，圖5B示出了4寺記錄的期望圖形，而圖5A示出了適合于實(shí)現(xiàn) 特;f正的準(zhǔn)確布置的已光初H匕圖形。在這個(gè)實(shí)施例中，改變了特4正中 的4冊(cè)格單元的內(nèi)容，而不是4務(wù)改了圖形的邊緣。出于定位^皮執(zhí)行在 鄰近已光柵化圖形中的特征邊緣的特征邊緣的目的，去除了多個(gè)內(nèi) 部單元(即，在最后偏轉(zhuǎn)行前面的偏轉(zhuǎn)行中的單元)，并且如圖中 所示，有歲丈地向內(nèi)移動(dòng)特;f正的邊纟彖。通過(guò)亞^f象素分辨率來(lái)移動(dòng)特征 邊緣的另一方法是省去(即，不記錄)特征中的、這一邊緣附近的 完整行。圖7中示出了這個(gè)方法。
因?yàn)橛涗浱结楽s的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)PSF遠(yuǎn)大于地址柵格(address grid),因此刪除結(jié)構(gòu)中的行或其一部分的影響擴(kuò)散到邊緣上。在此， 點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)PSF被定義為高斯曲線的斜線的傾斜角，所述高斯曲線 表示記錄射束在光刻目標(biāo)上的沖擊。在特征的邊緣處，這一刪除有 效地降低了劑量并且因此移動(dòng)邊緣位置。邊緣移動(dòng)的距離取決于刪 除的像素距離邊緣多遠(yuǎn)并且取決于刪除像素的數(shù)量。然而，省去機(jī) 械移動(dòng)方向Mm上的一整行而不是掃描方向Sd上的一整行，將要 求光刻系統(tǒng)的熄滅裝置能夠以一定^f象素頻率接通和斷開(kāi)，并且因此 需要很快的上升/下降時(shí)間(通常在納秒的十分之一以內(nèi))，由于符 合這樣要求的熄滅裝置的相關(guān)成本和結(jié)構(gòu)復(fù)雜性，這實(shí)際上不會(huì)被 實(shí)現(xiàn)。然而，在原理上，也可以例如通過(guò)刪除(即，不i己錄) 一個(gè) 或兩個(gè)單元的寬度上的像素來(lái)移動(dòng)定向在機(jī)械移動(dòng)的方向上的邊 *彖，如圖7所示的。
實(shí)際上，根據(jù)本發(fā)明，待曝光的圖形不僅會(huì)通過(guò)單獨(dú)地使用每 個(gè)方法來(lái)調(diào)節(jié)，而且有利;也還4吏用如圖6A中所示的所述兩種方法的組合。在如用在許多光刻工具中的熄滅策略中，每個(gè)棚^各單元的 曝光通過(guò)利用熄滅裝置在合適的時(shí)間及時(shí)遮蔽記錄細(xì)光束來(lái)控制。 當(dāng)熄滅裝置的操作頻率被限制時(shí)(出于減小熄滅裝置的成本和結(jié)構(gòu) 復(fù)雜性的目的經(jīng)常期望這樣)，以這樣的方式^^艮據(jù)所述兩種方法的 適當(dāng)組合來(lái)調(diào)節(jié)圖形，即，使得每個(gè)單獨(dú)的熄滅裝置不一定轉(zhuǎn)換得 比所述限制頻率快。在另一具體實(shí)施例中，出于移動(dòng)所述特征邊緣 的位置的目的，熄滅了粗糙邊緣內(nèi)部的 一整個(gè)偏轉(zhuǎn)行。
在圖6和圖7所示的實(shí)例中，用于在晶片上記錄圖形的記錄策 略是具有的像素尺寸為2.25 nm的光柵掃描。對(duì)于選擇柵格尺寸為 2.25 nm的柵格的一個(gè)約束是安放設(shè)計(jì)柵格?？梢杂绊懰x的像素 尺寸的兩個(gè)原因是因?yàn)槠谕脑O(shè)計(jì)自由度，2.25 nm的尺寸對(duì)于 芯片制造商來(lái)說(shuō)是不實(shí)際的；并且其次，在鄰近效應(yīng)處需要用偏置 設(shè)計(jì)來(lái)校正，產(chǎn)生對(duì)于亞像素布置的需求，對(duì)此的解決方案需要由 本發(fā)明來(lái)提供。增大柵格尺寸的優(yōu)點(diǎn)是以下事實(shí)，即，在所謂的無(wú) 掩模光刻設(shè)備的圖形光束亞系統(tǒng)(PSS)中將需要較少的存儲(chǔ)器， 這可以明顯地降低設(shè)備的成本。另外，像素比率(即，像素信息供 應(yīng)至系統(tǒng)的比率)可以保持相對(duì)低。因此，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)也在于， 在通過(guò)使用上述粗糙邊緣調(diào)節(jié)來(lái)保持設(shè)計(jì)自由度的同時(shí)增大了柵 格尺寸。圖6示出了因?yàn)槌鲇诮?jīng)濟(jì)上的原因本熄滅裝置約束如沿運(yùn) 送4寺處理的晶片或目標(biāo)的平臺(tái)的枳4成運(yùn)動(dòng)方向Mm采取的揮3十調(diào) 節(jié)，該探針調(diào)節(jié)與沿偏轉(zhuǎn)掃描方向Sd所采取的調(diào)節(jié)的類(lèi)型略有不 同。被圏起的位置Np表示"斷開(kāi)，，調(diào)節(jié)難以執(zhí)行，該調(diào)節(jié)取決于 系統(tǒng)的具體布置，尤其是熄滅裝置轉(zhuǎn)換的可用率。當(dāng)Fr表示期望特 征的區(qū)域時(shí)，陰影區(qū)域D1表示4艮據(jù)布置凄t據(jù)的區(qū)域。
圖7以陰影區(qū)域LO示出了特征或圖像布置，而灰色區(qū)域REQ 反應(yīng)了曝光后所需要的特征。其表明通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的方法，已記 錄特征的邊緣的位置在省去內(nèi)部行時(shí)向內(nèi)移動(dòng)。這個(gè)移動(dòng)涉及省去的行與待移動(dòng)的平行邊緣的距離。通過(guò)本發(fā)明應(yīng)理解，對(duì)于具有偏
置布置的鄰近效應(yīng)校正(PEC)，即，基于局部背景劑量水平來(lái)調(diào)節(jié) 特征尺寸，將需要更細(xì)小的柵格，出于經(jīng)濟(jì)上的原因，這是不期望 的。通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的粗糙邊緣方法，能夠獲得小于柵格尺寸的十 分之一的一半的4冊(cè)格，并且CD或額定^f直的4于寬粗4造程度的最大誤 差處于相同量級(jí)中。根據(jù)這個(gè)結(jié)果，有依據(jù)來(lái)增大設(shè)置上述實(shí)例中 的柵格尺寸。優(yōu)點(diǎn)在于減小了像素的數(shù)量并且因此也減小了光刻機(jī) 的圖形光束亞系統(tǒng)(PSS)中的未壓縮存儲(chǔ)器的數(shù)量。在圖8中， 對(duì)于單行的接通/斷開(kāi)組合的計(jì)算結(jié)果，粗糙邊緣調(diào)節(jié)用于多種柵格
尺寸，如以適合應(yīng)用于系統(tǒng)中的臨界尺寸(CD)的像素的數(shù)量來(lái)表 示。其表明按照這些柵格尺寸的范圍的最大調(diào)節(jié)步長(zhǎng)?？梢钥吹?， 從每CD的15個(gè)像素及以上(而不是如以上實(shí)例中20個(gè)像素)，通 過(guò)上述粗糙邊緣方法定位的一部分邊緣的位置的誤差小于0.1 nm， 即，實(shí)際上是不存在的，至少是完全可接受的，即使是對(duì)于當(dāng)今光 刻中已投影特征的高精度尺寸。
除了如前面所述的構(gòu)思和所有相關(guān)細(xì)節(jié)之外，本發(fā)明還涉及如
從上述與本發(fā)明有關(guān)的附圖中直接地毫無(wú)疑義地得到的內(nèi)容。在以 下的權(quán)利要求書(shū)中，注意前述術(shù)語(yǔ)的含義，任何與附圖中的結(jié)構(gòu)對(duì) 應(yīng)的參考標(biāo)號(hào)都是出于支持閱讀權(quán)利要求的目的，包括只作為所述 前述術(shù)語(yǔ)的示例性含義。
權(quán)利要求
1. 一種形成光刻系統(tǒng)的探針，所述光刻系統(tǒng)用于使用黑白記錄策略，即，記錄或不記錄柵格單元，而在諸如晶片的目標(biāo)表面上產(chǎn)生圖形，從而在包括柵格單元的柵格上劃分所述圖形，所述圖形包括尺寸大于柵格單元的尺寸的特征，在每個(gè)單元中所述探針被“接通”或“斷開(kāi)”，其中，探針在所述目標(biāo)上覆蓋了明顯大于柵格單元的表面區(qū)域，并且其中，在特征內(nèi)，在探針尺寸的范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)了位置取決于黑白記錄的分布。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，這種位置取決于分布在待 記錄在所述目標(biāo)上的特征的邊緣附近執(zhí)行。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，執(zhí)行這種位置取決于布置 以實(shí)現(xiàn)特4正邊纟彖在所述目標(biāo)上的亞卩象素布置。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，特征邊緣的定位通過(guò)不記 錄平行于所述邊緣定向的、并且距離所述邊緣一定距離的柵格 單元4于的一部分來(lái)實(shí)現(xiàn)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，在所述特征外且鄰近特征 邊緣的像素陣列的至少一行中記錄有另外的像素，因此所述棚-格單元行^皮定向成平行于所述邊緣。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求所述的系統(tǒng)，其中，在所述行中另外地記錄 有多個(gè)單元中的至少一組。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，通過(guò)接通和斷開(kāi)在規(guī)則圖 形中記錄的所述探針來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)所述特征的總體劑量調(diào)節(jié)。
8. 根據(jù)前述權(quán)利要求所述的系統(tǒng)，其中，所述特征的邊緣被移動(dòng)， 具體;也用于避開(kāi)鄰近效應(yīng)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，記錄射束的接通/斷開(kāi)比 像素比率慢。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，特征的有效邊緣位置通過(guò) 不記錄距離邊緣一定探針尺寸范圍中的一個(gè)或一組像素來(lái)控制。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，探針尺寸是地址柵格尺寸 的5倍到20倍范圍內(nèi)的某一值。
12. 操作一種形成光刻系統(tǒng)的探針的方法，所述光刻系統(tǒng)用于使用"接通，，及"斷開(kāi)，，記錄策略，即，記錄或不記錄柵格單元， 而在諸如晶片的目標(biāo)表面上投影圖形，從而在包括柵格單元的 柵格上劃分所述圖形，在每個(gè)單元中所述探針被"接通"或"斷 開(kāi)"，其中，探針在所述目標(biāo)上被設(shè)置成覆蓋了明顯大于柵格單元的表面區(qū)域，并且其中，在特征內(nèi)，在#:針尺寸的范圍內(nèi) 實(shí)現(xiàn)了位置取決于黑白記錄的分布。
13. 用于操作光刻系統(tǒng)的方法，其中，圖形待投影到諸如晶片的目 標(biāo)表面上，所述方法涉及使用以形成射束的探針形式的大量記 錄射束，所述射束產(chǎn)生在所述系統(tǒng)的帶電粒子束柱部分中，并 且在所述目標(biāo)表面上掃描以記錄所述圖形，通過(guò)單獨(dú)地熄滅或 不熄滅所述柱內(nèi)的每個(gè)記錄射束而在所述柱中調(diào)節(jié)所述射束； 記錄所述圖形通過(guò)在4黃切所述目標(biāo)相對(duì)于所述柱的才幾械移動(dòng) 的方向上掃描每個(gè)單獨(dú)的記錄射束來(lái)執(zhí)行，其中，使用被劃分 為尺寸遠(yuǎn)小于探針尺寸的單元的虛擬柵格來(lái)將系統(tǒng)圖形特征 定位在所述目標(biāo)上，并且通過(guò)不記錄用于記錄所述特;f正的至少最后 一掃描4于中的至少 一組4冊(cè)格單元而實(shí)際上獨(dú)立于所述棚-格尺寸來(lái)定位特征的邊緣，所述組大于柵格單元的數(shù)量而小于 用于記錄所述纟罙針的尺寸所需的4冊(cè)格單元的數(shù)量，具體地，小于用于記錄所述揮:針的一半尺寸所需的4冊(cè)格單元的凄史量。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種形成光刻系統(tǒng)的探針，該用于光刻系統(tǒng)使用黑白記錄策略，即，記錄或不記錄柵格單元，而在諸如晶片的目標(biāo)表面上產(chǎn)生圖形，從而在包括柵格單元的柵格上劃分該圖形，該圖形包括尺寸大于柵格單元的尺寸的特征，在每個(gè)單元中探針被“接通”或“斷開(kāi)”，其中，探針在目標(biāo)上覆蓋了明顯大于柵格單元的表面區(qū)域，并且其中，在特征內(nèi)，在探針尺寸的范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)了位置取決于黑白記錄的分布，本發(fā)明還涉及基于上述系統(tǒng)的方法。
文檔編號(hào)H01J37/302GK101427184SQ200780014179
公開(kāi)日2009年5月6日 申請(qǐng)日期2007年3月9日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月10日
發(fā)明者彼得·克勒伊特, 斯泰恩·威廉·卡雷爾·赫爾曼·斯騰布林克, 雷姆科·亞赫, 馬爾科·揚(yáng)-哈科·威蘭 申請(qǐng)人:邁普爾平版印刷Ip有限公司