專(zhuān)利名稱(chēng)：光學(xué)衰減器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種改進(jìn)了的光學(xué)衰減器。它主要用來(lái)減弱照射在光學(xué)傳感器上的光信號(hào)強(qiáng)度，使光學(xué)傳感器工作在適當(dāng)?shù)墓ぷ鼽c(diǎn)上。其中特別重要的應(yīng)用是安裝在測(cè)量激光功率與能量的探測(cè)器上，以改變其測(cè)量范圍。
目前，廣泛應(yīng)用于激光技術(shù)和激光測(cè)試工作中的各種以磨砂玻璃、乳白玻璃、中性吸收玻璃、反射膜層、柵網(wǎng)等為光學(xué)衰減片的光學(xué)衰減器，普遍存在著抗激光輻射損傷能力弱的缺點(diǎn)不僅難以經(jīng)受高功率大能量激光光束的照射、難以對(duì)付短脈沖激光光束的高峰值功率密度、也難以對(duì)付纖細(xì)激光光束的高功率密度或高能量密度。
本實(shí)用新型的目的是提供一種不但抗輻射損傷能力極強(qiáng)、而且光學(xué)性能良好的新型光學(xué)衰減器。
本實(shí)用新型是用下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的由筒狀外殼、光闌、光學(xué)衰減片以及固定光學(xué)衰減片的螺紋壓圈構(gòu)成光學(xué)衰減器，所用的光學(xué)衰減片全部或部分是均勻的陶瓷板片。
陶瓷材料的物理、化學(xué)性能極其穩(wěn)定，可以承受幾千度的高溫。使用這種材料制作光學(xué)衰減片，可以較滿(mǎn)意地解決強(qiáng)激光的輻射損傷問(wèn)題；未上釉、未拋光、晶粒細(xì)小而均勻的陶瓷表面具有很好的消偏振特性，是一種理想的漫射體和散射透射體，可以使這種光學(xué)衰減器和裝配上這種光學(xué)衰減器的激光探測(cè)器的其它光學(xué)性能，如衰減倍率均勻、不受入射光偏振狀態(tài)的影響，等等，也得到改進(jìn)。
下面結(jié)合本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例作進(jìn)一步的說(shuō)明。如附圖所示，標(biāo)有L的箭頭表示光輻射的入射方向；光學(xué)衰減器的圓筒形外殼［1］可以通過(guò)螺紋和光學(xué)傳感器外殼旋接在一起；最先接受光輻射的光學(xué)衰減片［10］是均勻的、未上釉、未拋光、三氧化二鋁含量不小于50％的陶瓷板片；第二塊光學(xué)衰減片［7］和第三塊光學(xué)衰減片［4］可以是這樣的陶瓷板片，也可以是磨砂玻璃等其它材料；它們分別被螺紋壓圈［3］、［5］、［6］、［8］、［9］、［11］緊緊地夾住；改變光學(xué)衰減片［4］、［7］、［10］、光闌［12］、［2］的數(shù)量、位置及通光直徑，就可以調(diào)整衰減倍率；調(diào)整好以后，將各個(gè)光學(xué)衰減片、各個(gè)光闌的位置膠封固定。
這種光學(xué)衰減器，能直接接收百瓦特或百焦耳量級(jí)激光器的輸出光束而無(wú)須考慮損傷問(wèn)題。它不僅在抗激光輻射損傷能力上，而且在衰減倍率的穩(wěn)定性、均勻性、不受偏振影響等技術(shù)指標(biāo)上，也都超過(guò)了美國(guó)EG&GELECTRO－OPTICS公司出品的550－11型激光衰減器的水平。


L——標(biāo)有L的箭頭表示光輻射的入射方向；［1］——光學(xué)衰減器的外殼；［2］——出射光闌；［3］、［5］、［6］、［8］、［9］、［11］——螺紋壓圈；［4］、［7］、［10］——光學(xué)衰減片；［12］——入射光闌。
權(quán)利要求1.一種光學(xué)衰減器，它是由筒狀外殼、光闌、光學(xué)衰減片以及固定光學(xué)衰減片的螺紋壓圈所構(gòu)成，其特征在于所用的光學(xué)衰減片全部或部分是均勻的陶瓷板片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷板片，其特征在于陶瓷板片是未上釉、未拋光的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷板片，其特征在于三氧化二鋁含量不小于50％。
專(zhuān)利摘要一種抗輻射損傷能力極強(qiáng)、光學(xué)性能良好的新型光學(xué)衰減器。它由筒狀外殼、光闌、光學(xué)衰減片以及固定光學(xué)衰減片的螺紋壓圈所構(gòu)成。它主要用來(lái)調(diào)整傳感器上的光信號(hào)強(qiáng)度，其中特別重要的是安裝在激光探測(cè)器上來(lái)改變其測(cè)量范圍。
文檔編號(hào)G02F1/01GK2044737SQ88220078
公開(kāi)日1989年9月20日 申請(qǐng)日期1988年11月28日 優(yōu)先權(quán)日1988年11月28日
發(fā)明者齊學(xué), 陸耀東, 王鈺, 黎菲 申請(qǐng)人:北京光電技術(shù)研究所