專利名稱：梯度低折射率制品和方法
梯度低折射率制品和方法相關(guān)專利申請本專利申請與2009年4月15日提交且以引用方式并入的下述美國專利申請相關(guān),Optical Construction and Display System Incorporating Same，，(光學(xué)構(gòu)造禾口包括所述光學(xué)構(gòu)造的顯示系統(tǒng))(代理人案卷號65354US002) ；"Retroreflecting Optical Construction”(回射光學(xué)構(gòu)造)(代理人案卷號 6M55USOO2) ；"Optical Film for Preventing Optical Coupling”(防止光學(xué)耦合的光學(xué)膜)(代理人案卷號65;356US002)； "Backlight and Display System Incorporating Same”(背光源和包括所述背光源的顯示系統(tǒng))(代理人案卷號 65357US002) ；"Process and Apparatus for Coating with Reduced Defects^具有減少的缺陷的涂布方法和設(shè)備)(代理人案卷號65185US002)；和“Process and Apparatus for a Nanovoided Article”(用于中空納米制品的方法和設(shè)備)(代理人案卷號 65046US002)。本專利申請還與同一日提交且以引用方式并入的下述美國專利申請相關(guān) "Process for Gradient Nanovoided Article”(用于梯度中空納米制品的方法)(代理人案卷號 65766USOO2) ；"Immersed Reflective Polarizer with High Off-Axis Reflectivity”(具有高偏軸反射率的浸沒式反射型偏振器)(代理人案卷號65809US002)； “Immersed Reflective Polarizer with Angular Confinement in Selected Planes of hcidence”(在選定入射平面內(nèi)具有角度限制的浸沒式反射型偏振器)(代理人案卷號 65900US002)；禾口 "Light Source and Display System Incorporating Same，，(光源禾口包括所述光源的顯示系統(tǒng))(代理人案卷號65782US002)。
背景技術(shù)：
光學(xué)系統(tǒng)，例如逆反射系統(tǒng)或顯示系統(tǒng)，利用一個或多個光學(xué)層來管理入射光。通常，光學(xué)層要求具有所需光學(xué)透射比、光學(xué)霧度、光學(xué)清晰度和折射率。在許多應(yīng)用中，將空氣層和漫射層組裝到光學(xué)系統(tǒng)中。通常，空氣層支持全內(nèi)反射，漫射層提供光學(xué)漫射。

發(fā)明內(nèi)容
在一個方面，本發(fā)明提供了包括粘結(jié)劑和多個顆粒的梯度光學(xué)膜，其中粘結(jié)劑與多個顆粒的重量比不小于約1 2。梯度光學(xué)膜還包括具有局部體積分?jǐn)?shù)的多個互連空隙， 其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。在另一方面，本發(fā)明提供了包括基底和梯度光學(xué)膜的光學(xué)構(gòu)造。梯度光學(xué)膜包括粘合劑和多個顆粒，其中粘結(jié)劑和多個顆粒的重量比不小于約1 2。梯度光學(xué)膜還包括具有局部體積分?jǐn)?shù)的多個互連空隙，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。在另一方面，本發(fā)明提供了包括粘結(jié)劑、多個長形顆粒、和多個互連空隙的梯度光學(xué)膜，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。此外，多個互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的第一表面的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于多個互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在另一方面，本發(fā)明提供了包括多個長形顆粒和多個空隙的梯度光學(xué)膜，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。此外，梯度光學(xué)膜在靠近梯度光學(xué)膜的第一表面處的第一折射率小于靠近梯度光學(xué)膜的相反表面處的第二折射率，并且第一折射率不大于約1.3。在另一方面，本發(fā)明提供了包括結(jié)構(gòu)化表面和梯度光學(xué)膜的光學(xué)構(gòu)造，所述結(jié)構(gòu)化表面包括多個結(jié)構(gòu)，所述梯度光學(xué)膜涂布在結(jié)構(gòu)化表面上并且使結(jié)構(gòu)化表面基本上平面化。梯度光學(xué)膜還包括多個互連空隙，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。此外，多個互連空隙靠近多個結(jié)構(gòu)的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于多個互連空隙的靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在另一方面，本發(fā)明提供了光學(xué)構(gòu)造，其包括具有不小于約30%的光學(xué)霧度的光學(xué)漫射體層、設(shè)置在光學(xué)漫射體層上的梯度光學(xué)膜、和設(shè)置在梯度光學(xué)膜上的反射型偏振器層，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。此外，梯度光學(xué)膜包括粘結(jié)劑、多個顆粒、和具有局部體積分?jǐn)?shù)的多個互連空隙，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。在另一方面，本發(fā)明提供了光學(xué)構(gòu)造，其包括具有多個平行棱鏡的增亮膜(BEF) 以及涂布在BEF上并且使BEF基本上平面化的梯度光學(xué)膜。此外，梯度光學(xué)膜包括多個互連空隙，其中多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。此外，多個互連空隙靠近多個平行棱鏡的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于多個互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在另一方面，本發(fā)明提供了包括粘結(jié)劑和多個顆粒的梯度光學(xué)膜，其中粘結(jié)劑與多個顆粒的重量比不小于約1 2，并且其中折射率沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。在另一方面，本發(fā)明提供了光學(xué)構(gòu)造，其包括具有不小于約30%的光學(xué)霧度的光學(xué)漫射體層和設(shè)置在光學(xué)漫射體層上的梯度光學(xué)膜。梯度光學(xué)膜包括粘結(jié)劑和多個顆粒， 其中折射率沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。此外，光學(xué)構(gòu)造包括設(shè)置在梯度光學(xué)膜上的反射型偏振器層，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。上述發(fā)明內(nèi)容并非意圖描述本公開的每個公開實(shí)施例或每種實(shí)施方案。以下附圖和具體實(shí)施方式
更具體地說明示例性實(shí)施例。


整個說明書中都參考了附圖，其中類似的附圖標(biāo)記表示類似的元件，并且其中圖1A-1G為梯度光學(xué)膜的示意性側(cè)視圖；圖2為光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖3為光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖4為光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖；圖5A為梯度光學(xué)膜的橫截面顯微圖；圖5B為圖5A中的顯微圖的較高倍放大圖；圖6A為梯度光學(xué)膜的橫截面顯微圖；圖6B為圖5A中的顯微圖的較高倍放大圖7A-7C為梯度光學(xué)膜的橫截面顯微圖；圖8A-8C為梯度光學(xué)膜的橫截面顯微圖；并且圖9為光學(xué)構(gòu)造的示意性側(cè)視圖。附圖未必按比例繪制。在附圖中使用的相同的標(biāo)號表示相同的部件。然而，應(yīng)當(dāng)理解，在給定附圖中使用標(biāo)號指示部件并非意圖限制另一個附圖中用相同標(biāo)號標(biāo)記的部件。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明整體涉及顯示具有某些類似低折射率光學(xué)特性的光學(xué)膜。在一個具體實(shí)施例中，光學(xué)膜可顯示具有沿著該光學(xué)膜(即，梯度光學(xué)膜)的厚度方向變化的類似低折射率光學(xué)特性。本發(fā)明所公開的一些梯度光學(xué)膜顯示具有沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化的局部孔隙度。在一些情況下，局部孔隙度可描述為局部空隙體積分?jǐn)?shù)或局部孔尺寸分布。本發(fā)明所公開的一些梯度光學(xué)膜具有低光學(xué)霧度和低有效折射率，例如小于約 5%的光學(xué)霧度和小于約1. 35的有效折射率。本發(fā)明所公開的一些梯度光學(xué)膜具有高光學(xué)霧度(例如，大于約50%的光學(xué)霧度)、和/或高光學(xué)漫反射率，同時顯示一些類似低折射率光學(xué)特性，例如(如)支持全內(nèi)反射或提高內(nèi)反射的能力。在一些情況下，本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜可組裝在各種光學(xué)系統(tǒng)或顯示系統(tǒng)中，例如(如)一般照明系統(tǒng)、液晶顯示系統(tǒng)、或逆反射光學(xué)系統(tǒng)，以提高系統(tǒng)耐久性、降低制備成本、并減小系統(tǒng)的總厚度，同時改善、保持或大致保持系統(tǒng)光學(xué)特性中的至少一些，例如(如)系統(tǒng)的逆反射性或系統(tǒng)所顯示圖像的同軸亮度和對比度。本文所公開的梯度光學(xué)膜通常包括分散在粘結(jié)劑中的多個互連空隙或空隙網(wǎng)。多個空隙或空隙網(wǎng)中的至少一些空隙通過中空隧道或中空隧道狀通道彼此連接?？障恫灰欢ㄍ耆珱]有物質(zhì)和/或顆粒。例如，在一些情況下，空隙可包括一個或多個小纖維狀或線絲狀物體，所述物體包括(例如)粘結(jié)劑和/或納米顆粒。在一些情況下，空隙可包括可附接至粘結(jié)劑或可松散地位于空隙內(nèi)的顆?；蝾w粒附聚體。本發(fā)明所公開的一些梯度光學(xué)膜包括許多的多個互連空隙或許多空隙網(wǎng)，其中每個多個互連空隙或空隙網(wǎng)中的空隙都是互連的。在一些情況下，除了許多的多個互連空隙以外，本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜還包括多個閉合或不連接的空隙，即這些空隙未通過隧道連接至其他空隙。在一些情況下，梯度光學(xué)膜可改善不具有梯度結(jié)構(gòu)的類似光學(xué)膜的耐久性。在一些情況下，梯度光學(xué)膜的一個表面可因(例如)致密表面或粗糙表面而抗磨損。在一些情況下，梯度光學(xué)膜可顯示具有改善的環(huán)境穩(wěn)定性，因?yàn)槊芊饣蛑旅鼙砻婵煞乐刮廴疚镞M(jìn)入梯度光學(xué)膜的內(nèi)部。在一些情況下，密封或致密表面可提高梯度光學(xué)膜的清潔度，因?yàn)閵A帶在內(nèi)部孔中的顆?？杀徊都?，使得機(jī)械力可不能夠移除它們。在一個具體實(shí)施例中，梯度光學(xué)膜可包括具有沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向變化的局部體積分?jǐn)?shù)的多個互連空隙或空隙網(wǎng)。如本文所用，“局部體積分?jǐn)?shù)”是指(例如)在梯度光學(xué)膜的總厚度的低于約10%、或低于約5%、或低于約3%、或低于約的區(qū)域中以局部尺度測定的組件(如，多個互連空隙)的體積分?jǐn)?shù)?；ミB空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可在梯度光學(xué)膜的整個厚度上變化，使得互連空隙靠近膜的一個表面的局部體積分?jǐn)?shù)可大于或小于互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的局部體積分?jǐn)?shù)?；ミB空隙的總體積分?jǐn)?shù)為光學(xué)膜中空隙的體積與光學(xué)膜的總體積的比率。
在一些情況下，互連空隙靠近膜的一個表面處的局部體積分?jǐn)?shù)可接近零(即，存在極少的互連空隙)并且所述膜可被稱為在所述膜的該表面上為基本上“密封的”。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可在整個膜上以連續(xù)方式變化，例如局部體積分?jǐn)?shù)在梯度光學(xué)膜的整個厚度方向上單調(diào)增加或減低。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可經(jīng)歷梯度光學(xué)膜的整個厚度方向上的互連空隙的體積分?jǐn)?shù)的局部最大值或局部最小值。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可沿著梯度光學(xué)膜的厚度方向以不連續(xù)方式變化， 例如互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)的階躍變化。互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)的控制可用于若干應(yīng)用中，包括(例如)當(dāng)在梯度光學(xué)膜的表面上涂布材料時。在一些情況下，涂布材料可包括溶劑或可滲透梯度光學(xué)膜的互連空隙的其他高流動性組分(例如(如)低分子量可固化材料)。在一些情況下，涂布材料可包括熱循環(huán)或老化時可滲透到互連空隙的多孔結(jié)構(gòu)中的熱塑性固體或膠凝材料(例如，轉(zhuǎn)移粘合劑或壓敏粘合劑(PSA))。材料向梯度光學(xué)膜的互連空隙中的滲透可改變膜的特性， 包括(例如)增加滲透區(qū)域的折射率。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)的變化可對于靠近梯度光學(xué)膜的一個表面的這種滲透提供控制，同時保持互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的所需局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，互連空隙靠近梯度光學(xué)膜的一個表面的局部體積分?jǐn)?shù)可小于互連空隙的總體積分?jǐn)?shù)并且也可小于靠近梯度光學(xué)膜的相反表面的局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可被降低，以使得僅有限的輸注可發(fā)生。有限輸注材料以形成梯度光學(xué)膜可用于(例如)強(qiáng)化具有高總體積分?jǐn)?shù)的互連空隙的易碎光學(xué)膜的表面。在一些情況下，梯度光學(xué)膜中的較低體積分?jǐn)?shù)的互連空隙可提高結(jié)構(gòu)完整性，即，光學(xué)膜的耐久性。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)可被降低為接近互連空隙的零局部體積分?jǐn)?shù)，從而有效地密封表面?；ミB空隙的局部體積分?jǐn)?shù)的控制可包括如下技術(shù)，例如(如) 抑制或提高梯度光學(xué)膜的一個或多個表面上的固化速率和程度、輸注材料以至少部分地填充空隙的一部分等等。通常，可通過別處(包括(例如)與本文同一日提交的名稱為 "PROCESS FOR GRADIENT NANOVOIDED ARTICLE”(用于梯度中空納米制品的方法)的共同待審的專利申請代理人案卷號65766US0(^)所述的技術(shù)來實(shí)現(xiàn)對互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)的控制。本發(fā)明所公開的一些梯度光學(xué)膜因包括多個空隙而支持全內(nèi)反射(TIR)或增強(qiáng)內(nèi)反射(EIR)。當(dāng)在光學(xué)透明的非多孔介質(zhì)中行進(jìn)的光在具有高孔隙度的層上入射時，傾斜角度的入射光的反射率比垂直入射的入射光的反射率高得多。在無霧度或低霧度的空隙膜的情況中，在大于臨界角度的傾斜角度下的反射率接近約100%。在此類情況下，入射光發(fā)生全內(nèi)反射(TIR)。在高霧度的空隙膜的情況中，即使光可能不發(fā)生TIR，在入射角度的類似范圍內(nèi)的傾斜角度反射率可接近100%。高霧度膜的這種增強(qiáng)反射率類似于TIR，并被稱為增強(qiáng)內(nèi)反射(EIR)。如本文所用，所謂多孔或有空隙的梯度光學(xué)膜增強(qiáng)內(nèi)反射(EIR)，意指與無空隙的膜或?qū)盈B膜相比，有空隙的膜或?qū)盈B膜的有空隙的和無空隙的層邊界處的反射率較大。本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜中的空隙的折射率為nv，介電常數(shù)為εν，其中nv2 = ε v，并且粘結(jié)劑的折射率為nb，介電常數(shù)為￡b，其中nb2= ε b。通常，梯度光學(xué)膜與光(例如入射到梯度光學(xué)膜上或在梯度光學(xué)膜中傳播的光)的相互作用取決于多種膜特性，例如 (如)膜厚度、粘結(jié)劑折射率、空隙或孔折射率、孔形狀和尺寸、孔的空間分布、以及光的波長。在一些情況下，入射到梯度光學(xué)膜上或在梯度光學(xué)膜內(nèi)傳播的光可“識別”或“體驗(yàn)”有效介電常數(shù)ε rff和有效折射率nrff，其中nrff可用空隙折射率nv、粘結(jié)劑折射率nb、和空隙孔隙度或體積分?jǐn)?shù)“f”來表示。在此類情況下，梯度光學(xué)膜足夠厚并且空隙足夠小，以使得光無法分辨單個空隙或隔離空隙的形狀和特征。在此類情況下，至少大部分空隙(如空隙的至少60%、或70%、或80%、或90% )的尺寸不大于約λ/5，或不大于約λ/6，或不大于約λ/8，或不大于約λ/10，或不大于約λ/20，其中λ為光的波長。在一些情況下，入射到本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜上的光為可見光，即光的波長在電磁光譜的可見區(qū)內(nèi)。在此類情況下，該可見光的波長在約380nm至約750nm、或約400nm 至約700nm、或約420nm至約680nm的范圍內(nèi)。在此類情況下，如果空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%或70%或80%或90% )的尺寸不大于約70nm、或不大于約60nm、或不大于約50nm、或不大于約40nm、或不大于約30nm、或不大于約20nm、或不大于約IOnmJlJ 該梯度光學(xué)膜具有有效折射率并包括多個空隙。在一些情況下，本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜足夠厚，以使得該梯度光學(xué)膜可合理地具有可用空隙和粘結(jié)劑的折射率、以及空隙或孔體積分?jǐn)?shù)或孔隙度表示的有效折射率。 在此類情況下，梯度光學(xué)膜的厚度不小于約lOOnm、或不小于約200nm、或不小于約500nm、 或不小于約700nm、或不小于約1，OOOnm。當(dāng)本發(fā)明所公開的梯度光學(xué)膜中的空隙足夠小并且梯度光學(xué)膜足夠厚時，梯度光學(xué)膜具有可用下式表示的有效電容率、ff:eeff = f ev+(l"f) eb ⑴在此類情況下，梯度光學(xué)膜的有效折射率Iirff可表示為neff2 = fnv2+(l-f)nb2(2)在一些情況下，例如當(dāng)孔與粘結(jié)劑的折射率差值足夠小時，梯度光學(xué)膜的有效折射率可大致表示為neff = fnv+(l-f)nb (3)在此類情況下，梯度光學(xué)膜的有效折射率為空隙和粘結(jié)劑的折射率的體積加權(quán)平均數(shù)。例如，空隙體積分?jǐn)?shù)為約50%并且粘結(jié)劑折射率為約1. 5的梯度光學(xué)膜具有約1. 25 的有效折射率。圖IA為梯度光學(xué)膜300A的示意性側(cè)視圖，所述梯度光學(xué)膜300A包括空隙網(wǎng)或多個互連空隙320以及大致均勻地分散在粘結(jié)劑310內(nèi)的多個顆粒340。梯度光學(xué)膜300A因在該梯度光學(xué)膜內(nèi)存在空隙320的網(wǎng)而具有多孔內(nèi)部。通常，梯度光學(xué)膜可包括互連孔或空隙的一個或多個網(wǎng)。例如，空隙320的網(wǎng)可視為包括互連空隙或孔320A-320C?；ミB空隙的局部體積分?jǐn)?shù)，例如互連空隙370A的第一局部體積分?jǐn)?shù)和互連空隙375A的第二體積分?jǐn)?shù)，可沿著梯度光學(xué)膜300A內(nèi)的厚度、方向而改變?；ミB空隙的局部體積分?jǐn)?shù)、以及空隙尺寸分布可沿著厚度方向按照如(例如)圖1B-1G中所示的若干方式變化，如在別處所述。 在一些情況下，梯度光學(xué)膜為多孔膜，意味著空隙320的網(wǎng)分別在第一主表面330和第二主表面332之間形成一個或多個通道?？障兜木W(wǎng)可被視為包括多個互連空隙。空隙中的一些可位于梯度光學(xué)膜的表面并且可被視為表面空隙。例如，在示例性梯度光學(xué)膜300A中，空隙320D和320E位于梯度光學(xué)膜的第二主表面332并且可被視為表面空隙320D和320E，而空隙320F和320G位于梯度光學(xué)膜的第一主表面330并且可被視為表面空隙320F和320G?？障吨械囊恍?例如如空隙320B和320C)位于梯度光學(xué)膜的內(nèi)部且遠(yuǎn)離梯度光學(xué)膜的外表面，并且可被視為內(nèi)部空隙320B和320C，即使內(nèi)部空隙可通過(例如)其他空隙連接至主表面亦是如此?？障?20具有尺寸Cl1，所述尺寸Cl1通?？赏ㄟ^選擇合適的組合物和制造技術(shù)(如涂布、干燥和固化條件)來進(jìn)行控制。通常，Cl1可為在任何所需數(shù)值范圍內(nèi)的任何所需的值。例如，在一些情況下，空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%、或70%、或80%、 或90%、或95%)的尺寸在所需范圍內(nèi)。例如，在一些情況下，空隙中的至少大部分(例如空隙中的至少60%、或70%、或80%、或90%、或95%)的尺寸不大于約10微米、或不大于約7微米、或不大于約5微米、或不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、 或不大于約1微米、或不大于約0. 7微米、或不大于約0. 5微米。在一些情況下，多個互連空隙320的平均空隙或孔尺寸不大于約5微米、或不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約0. 7微米、 或不大于約0.5微米。在一些情況下，空隙中的一些可足夠小，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為降低有效折射率，而一些其他空隙可降低有效折射率并散射光，同時還有一些其他空隙可足夠大，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。顆粒340的尺寸為d2，其可為任何所需范圍內(nèi)的值中的任何所需值。例如，在一些情況下，顆粒中的至少大部分(例如顆粒中的至少60 %、或70 %、或80 %、或90 %、或 95%)的尺寸在所需范圍內(nèi)。例如，在一些情況下，顆粒中的至少大部分(例如顆粒中的至少60%、或70%、或80%、或90%、或95% )的尺寸不大于約5微米、或不大于約3微米、 或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約700nm、或不大于約500nm、或不大于約 200nm、或不大于約lOOnm、或不大于約50nm。在一些情況下，多個顆粒340的平均粒度不大于約5微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約700nm、或不大于約500nm、或不大于約 200nm、或不大于約lOOnm、或不大于約50nm。在一些情況下，顆粒中的一些可足夠小，以使得它們主要影響有效折射率，而一些其他顆粒可影響有效折射率并散射光，同時還有一些其他顆?？勺銐虼?，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。在一些情況下，Cl1和/或d2足夠小，以使得空隙和顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為影響梯度光學(xué)膜300A的有效折射率。例如，在此類情況下，Cl1和/或d2不大于約λ /5、或不大于約λ/6、或不大于約λ/8、或不大于約λ/10、或不大于約λ/20，其中λ為光的波長。又如，在此類情況下，Cl1和d2不大于約70nm、或不大于約60nm、或不大于約50nm、或不大于約 40nm、或不大于約30nm、或不大于約20nm、或不大于約lOnm。在此類情況下，空隙和顆粒也可散射光，但空隙和顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為限定光學(xué)膜中具有有效折射率的有效介質(zhì)。有效折射率部分取決于空隙、粘結(jié)劑和顆粒的折射率。在一些情況下，有效折射率為減小的有效折射率，意味著該有效折射率小于粘結(jié)劑的折射率和顆粒的折射率。在空隙和/或顆粒的主要光學(xué)效應(yīng)為影響折射率的情況下，Cl1和d2足夠小，以使得空隙320和顆粒340中的相當(dāng)一部分(例如至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、 或至少約90%、或至少約95%)具有降低有效折射率的主要光學(xué)效應(yīng)。在此類情況下，空隙和/或顆粒中的相當(dāng)一部分(例如至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90%、或至少約95% )的尺寸在約Inm至約200nm、或約Inm至約150nm、或約Inm至約 lOOnm、或約Inm至約50nm、或約Inm至約20nm的范圍內(nèi)。在一些情況下，顆粒340的折射率Ii1可足夠接近粘結(jié)劑310的折射率nb，以使得有效折射率不取決于、或在很小程度上取決于顆粒的折射率。在此類情況下，Ii1和％之間的差值不大于約0. 01、或不大于約0. 007、或不大于約0. 005、或不大于約0. 003、或不大于約
0.002、或不大于約0. 001。在一些情況下，顆粒340足夠小，并且其折射率足夠接近粘結(jié)劑的折射率，使得顆粒不會主要散射光或影響折射率。在此類情況下，顆粒的主要效應(yīng)可(例如)為提高梯度光學(xué)膜300A的強(qiáng)度。在一些情況下，顆粒340可改善梯度光學(xué)膜的制備過程，但梯度光學(xué)膜300A可制成不含顆粒。在空隙320的網(wǎng)和顆粒340的主要光學(xué)效應(yīng)為影響有效折射率并且不會(例如) 散射光的情況下，因存在空隙320和顆粒340而使梯度光學(xué)膜300A的光學(xué)霧度不大于約5%、或不大于約4%、或不大于約3. 5%、或不大于約4%、或不大于約3%、或不大于約 2. 5%、或不大于約2%、或不大于約1. 5%、或不大于約1%。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的有效介質(zhì)的有效折射率不大于約1. 35、或不大于約1. 3、或不大于約1. 25、或不大于約1. 2、 或不大于約1. 15、或不大于約1. 1、或不大于約1. 05。在梯度光學(xué)膜300A可合理地具有減小的有效折射率的情況下，梯度光學(xué)膜的厚度不小于約lOOnm、或不小于約200nm、或不小于約500nm、或不小于約700nm、或不小于約 1，OOOnm、或不小于約1500nm、或不小于約2000nm。在一些情況下，Cl1和/或d2足夠大，以使得其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光并產(chǎn)生光學(xué)霧度。在此類情況下，Cl1和/或d2不小于約200nm、或不小于約300nm、或不小于約400nm、 或不小于約500nm、或不小于約600nm、或不小于約700nm、或不小于約800nm、或不小于約 900nm、或不小于約lOOOnm。在此類情況下，空隙和顆粒還可影響折射率，但其主要光學(xué)效應(yīng)為散射光。在此類情況下，空隙和顆粒均可對入射到梯度光學(xué)膜上的光進(jìn)行散射。梯度光學(xué)膜300A可用于許多光學(xué)應(yīng)用中。例如，在一些情況下，該梯度光學(xué)膜可用于支持或促進(jìn)全內(nèi)反射(TIR)或提高內(nèi)反射，意味著該反射大于折射率為nb的材料將產(chǎn)生的反射。在此類情況下，梯度光學(xué)膜300A足夠厚，以使得在梯度光學(xué)膜的表面發(fā)生全內(nèi)反射的光線的消逝尾不會在梯度光學(xué)膜的整個厚度上發(fā)生光學(xué)耦合、或光學(xué)耦合極小。在此類情況下，梯度光學(xué)膜300A的厚度、不小于約1微米、或不小于約1. 1微米、或不小于約1. 2微米、或不小于約1. 3微米、或不小于約1. 4微米、或不小于約1. 5微米、或不小于約
1.7微米、或不小于約2微米。足夠厚的梯度光學(xué)膜300A可防止或減小在光學(xué)膜整個厚度上發(fā)生的光學(xué)模式的消逝尾的不利光學(xué)耦合。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A具有低光學(xué)霧度。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約5%、或不大于約4%、或不大于約3. 5%、或不大于約4%、或不大于約 3 %、或不大于約2.5%、或不大于約2%、或不大于約1.5%、或不大于約1%。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的減小的有效折射率可不大于約1. 35、或不大于約1. 3、或不大于約1. 2、或不大于約1. 15、或不大于約1. 1、或不大于約1. 05。對于法向入射到梯度光學(xué)膜300A上的光而言，如本文所用，光學(xué)霧度被定義為偏離法向大于4度的透射光與總透射光的比率。本文所公開的霧度值是使用Haze-Gard Plus霧度計(ΒΥΚ-Gardner，Silver Springs,Md.)按照ASTM D1003中所述的工序測得的。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A具有高光學(xué)霧度。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的霧度不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約 80%、或不小于約90%、或不小于約95%。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A可具有(例如) 在約5%和約50%光學(xué)霧度之間的中間光學(xué)霧度。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A具有高光學(xué)漫反射率。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的光學(xué)漫反射率不小于約30%、或不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A具有高光學(xué)清晰度。對于法向入射到梯度光學(xué)膜 300A上的光而言，如本文所用，光學(xué)清晰度是指比率(T1-T2V(TJT2),其中T1為偏離法向 1. 6和2度之間的透射光，T2為位于距法向零度和0. 7度之間的透射光。本文所公開的清晰度值是使用得自BI-Gardner的Haze-Gard Plus霧度計測得的。在梯度光學(xué)膜300A具有高光學(xué)清晰度的情況下，該清晰度不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A具有低光學(xué)清晰度。在此類情況下，梯度光學(xué)膜的光學(xué)清晰度不大于約10%、或不大于約7%、或不大于約5%、或不大于約4%、或不大于約3%、或不大于約2%、或不大于約1%。通常，梯度光學(xué)膜可具有可在應(yīng)用中期望的任何孔隙度或空隙體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A中的多個空隙320的體積分?jǐn)?shù)不小于約20%、或不小于約30%、 或不小于約40%、或不小于約50%、或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%、 或不小于約90%。在一些情況下，梯度光學(xué)膜可顯示一些低折射率特性，即使該梯度光學(xué)膜具有高光學(xué)霧度和/或漫反射率亦是如此。例如，在此類情況下，在與小于粘結(jié)劑310的折射率nb 的折射率對應(yīng)的角度處，梯度光學(xué)膜可支持TIR。在示例性梯度光學(xué)膜300A中，顆粒340 (例如顆粒340A和340B)為實(shí)心顆粒。在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A可除此以外或作為另外一種選擇地包括多個中空或多孔顆粒 350。顆粒340可為可在應(yīng)用中期望的任何類型顆粒。例如，顆粒340可為有機(jī)或無機(jī)顆粒。例如，顆粒340可為二氧化硅、氧化鋯或氧化鋁顆粒。顆粒340可具有可在應(yīng)用中期望或可用的任何形狀。例如，顆粒340可具有規(guī)則或不規(guī)則形狀。例如，顆粒340可為大致球形。作為另一實(shí)例，顆?？蔀殚L形的。在此類情況下，梯度光學(xué)膜300A包括多個長形顆粒320。在一些情況下，長形顆粒的平均縱橫比不小于約1. 5、或不小于約2、或不小于約2. 5、或不小于約3、或不小于約3. 5、或不小于約 4、或不小于約4. 5、或不小于約5。在一些情況下，顆粒可為串珠狀(例如可得自Nissan Chemical (Houston, TX)的Snowtex-PS顆粒)或者球形或無定形顆粒的聚集鏈(例如熱解法二氧化硅)的形態(tài)或形狀。顆粒340可能已進(jìn)行官能化或可能未進(jìn)行官能化。在一些情況下，顆粒340未進(jìn)行官能化。在一些情況下，顆粒340已進(jìn)行官能化，以使得它們可在所需溶劑或粘結(jié)劑310中分散，而沒有聚集或只有很少的聚集。在一些情況下，顆粒340可進(jìn)行進(jìn)一步官能化以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310。例如，顆粒340(如顆粒340A)可進(jìn)行表面改性并具有反應(yīng)性官能團(tuán)或基團(tuán)360以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310。在此類情況下，顆粒340中的至少相當(dāng)一部分化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑。在一些情況下，顆粒340不具有用以化學(xué)鍵合至粘結(jié)劑310的反應(yīng)性官能團(tuán)。 在此類情況下，顆粒340可物理結(jié)合至粘合劑310，或者粘結(jié)劑310可包封顆粒340。在一些情況下，顆粒中的一些具有反應(yīng)性基團(tuán)，而其他不具有反應(yīng)性基團(tuán)。例如在一些情況下，約10%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約90%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約 15%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約85%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約20%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約80%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約25%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約 75%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約30%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約60%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約35%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約65%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約40%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約60%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約45%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約55%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)、或者約50%的顆粒具有反應(yīng)性基團(tuán)而約50%的顆粒不具有反應(yīng)性基團(tuán)。在一些情況下，顆粒中的一些可利用反應(yīng)性基團(tuán)和非反應(yīng)性基團(tuán)在相同顆粒上進(jìn)行官能化。顆粒的集合可包括尺寸、反應(yīng)性和非反應(yīng)性顆粒和不同類型顆粒的混合物，例如有機(jī)顆粒，包括聚合物顆粒，如丙烯酸類、聚碳酸酯、聚苯乙烯、有機(jī)硅等；或無機(jī)顆粒，如玻璃或陶瓷，包括例如二氧化硅和氧化鋯等。粘結(jié)劑310可為或包括可在應(yīng)用中期望的任何材料。例如，粘結(jié)劑310可為形成聚合物(例如交聯(lián)聚合物)的可固化材料。一般來講，粘結(jié)劑310可為任何可聚合材料，例如可輻射固化的可聚合材料，如UV可固化材料。梯度光學(xué)膜300A可使用可在應(yīng)用中期望的任何方法進(jìn)行制備。在一些情況下， 梯度光學(xué)膜300A可通過如下中所述的方法制得名稱為“PROCESS AND APPARATUS FOR A NAN0V0IDED ARTICLE”(用于中空納米制品的方法和設(shè)備)的共同待審的專利申請(代理人案卷號 65046US002)、名稱為 “PROCESS AND APPARATUS FOR COATING WITH REDUCED DEraCTS”(具有減少的缺陷的涂布方法和設(shè)備)的共同待審的專利申請(代理人案卷號 65185US002)、和名稱為 “PROCESS FOR GRADIENT NAN0V0IDED ARTICLE”(用于梯度中空納米制品的方法)的共同待審的專利申請(代理人案卷號65766US002)，所述專利申請的公開內(nèi)容以全文引用的方式并入本文。通常，在一種方法中，首先制備下述溶液，其包括多個顆粒(例如納米顆粒)和溶于溶劑中的可聚合材料，其中可聚合材料可包括(例如)一種或多種類型的單體。然后， (例如)通過施加熱或光來聚合可聚合材料，以在溶劑中形成不可溶聚合物基體。在一個具體實(shí)施例中，在如下環(huán)境中進(jìn)行聚合以產(chǎn)生梯度光學(xué)膜，所述環(huán)境在鄰近一個表面處具有提升的氧氣含量，從而抑制該表面附近的聚合。在一個具體實(shí)施例中，提高一個表面附近的光引發(fā)劑的濃度(相對于另一個表面)來產(chǎn)生梯度光學(xué)膜。用于產(chǎn)生梯度光學(xué)膜的其他技術(shù)描述于名稱為“PROCESS FOR GRADIENT NAN0V0IDED ARTICLE”(用于梯度中空納米制品的方法)的共同待審的專利申請(代理人案卷號65766US002)中。在一些情況下，經(jīng)過聚合步驟之后，溶劑仍可包括一些可聚合材料，但濃度較低。 接下來，通過干燥或蒸發(fā)溶液除去溶劑而得到梯度光學(xué)膜300A，該梯度光學(xué)膜300A包括分散在聚合物粘結(jié)劑310中的空隙320的網(wǎng)或多個空隙320。梯度光學(xué)膜還包括分散在聚合物中的多個顆粒340。顆粒結(jié)合至粘結(jié)劑(其中結(jié)合可為物理的或化學(xué)的)，或被粘結(jié)劑包封。除粘結(jié)劑310和顆粒340之外，梯度光學(xué)膜300A還可具有其他材料。例如，梯度光學(xué)膜300A可包含一種或多種添加劑(例如如耦合劑)，以有助于潤濕其上形成梯度光學(xué)膜的基底的表面，該基底未在圖1中明確示出。又如，梯度光學(xué)膜300A可包含一種或多種著色劑(例如炭黑)，以將顏色(例如黑色)施加給梯度光學(xué)膜。梯度光學(xué)膜300A中的其他示例性材料包括引發(fā)劑(例如一種或多種光引發(fā)劑)、防靜電劑、紫外線吸收劑和隔離劑。 在一些情況下，梯度光學(xué)膜300A可包含下轉(zhuǎn)換材料，該材料能夠吸收光并重新發(fā)出更長波長的光。示例性的下轉(zhuǎn)換材料包括熒光體。通常，對于粘結(jié)劑310和多個顆粒340的任何重量比，梯度光學(xué)膜300A都可具有所需孔隙度。因此，一般來講，重量比可為可在應(yīng)用中期望的任何值。在一些情況下，粘結(jié)劑 310與多個顆粒340的重量比不小于約1 2. 5、或不小于約1 2. 3、或不小于約1 2、 或不小于約1 1、或不小于約1.5 1、或不小于約2 1、或不小于約2. 5 1、或不小于約3 1、或不小于約3. 5 1、或不小于約4 1、或不小于約5 1。在一些情況下，該重量比在約1 2. 3至約4 1的范圍內(nèi)。在一些情況下，可對梯度光學(xué)膜300A的頂部主表面332進(jìn)行處理以(例如)提高梯度光學(xué)膜對另一層的粘附力。例如，頂部表面可被電暈處理。圖1B-1G分別為根據(jù)本發(fā)明的不同方面的梯度光學(xué)膜300B-300G的示意性側(cè)視圖。為清晰起見，針對圖1所述的編號元件310-360和尺寸Cl1-Cl3未示于圖1B-1G中；然而， 針對圖IA的梯度光學(xué)膜300A提供的描述中的每一個也分別對應(yīng)于圖1B-1G的梯度光學(xué)膜 300B-300。用于產(chǎn)生梯度光學(xué)膜300B-300G的技術(shù)(例如)描述于名稱為“PROCESS FOR GRADIENT NAN0V0IDED ARTICLE”(用于梯度中空納米制品的方法)的共同待審的專利申請 (代理人案卷號65766US002)中。在圖IB中，梯度光學(xué)膜300B包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向以(例如)所示單調(diào)方式變化的互連空隙390B。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370B靠近梯度光學(xué)膜300B 的第一表面330B的第一局部體積分?jǐn)?shù)小于互連空隙375B靠近梯度光學(xué)膜300B的第二表面332B的第二局部體積分?jǐn)?shù)?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300B。在一個具體實(shí)施例中， 可(例如)利用基于吸光度的技術(shù)(其中聚合光的強(qiáng)度從第一表面330B到第二表面332B 減小)來制備梯度光學(xué)膜300B。在圖IC中，梯度光學(xué)膜300C包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向以(例如)所示階躍式方式變化的互連空隙390C。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370C靠近梯度光學(xué)膜300C 的第一表面330C的第一局部體積分?jǐn)?shù)小于互連空隙375C靠近梯度光學(xué)膜300C的第二表面332C的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，例如，如圖IC所示，互連空隙370C的第一局部體積分?jǐn)?shù)C急劇地(S卩，階躍式地)轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙375C的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，第二體積分?jǐn)?shù)的互連空隙375C的厚度t2可為總厚度、的較小百分比，例如，總厚度、的約1%至約5%、或至約10%、或至約20%、或至約30%或更高?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300C。在一個具體實(shí)施例中，可(例如)通過利用聚合引發(fā)劑濃度的差值或靠近第一和第二表面(330C、332C)的聚合引發(fā)劑濃度的差值來制備梯度光學(xué)膜300C。在圖ID中，梯度光學(xué)膜300D包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向變化的互連空隙 390D，其中(例如)具有最小局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙377D如圖所示。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370D靠近梯度光學(xué)膜300D的第一表面330D的第一局部體積分?jǐn)?shù)與互連空隙 375D靠近梯度光學(xué)膜300D的第二表面332D的第二局部體積分?jǐn)?shù)大致相同。在一些情況下，例如，如圖ID所示，互連空隙370D的第一局部體積分?jǐn)?shù)急劇地(S卩，階躍式地)轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙377D的最小局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，最小體積分?jǐn)?shù)的互連空隙377D的厚度t2可為總厚度、的較小百分比，例如，總厚度、的約至約5%、或至約10%、或至約 20%、或至約30%或更高。在一些情況下，最小局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙377D的相對位置可位于任何位置，例如，梯度光學(xué)膜300D內(nèi)距第一表面330D的厚度t3處?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300D。在一個具體實(shí)施例中， 可(例如)通過將圖IC所示的一對梯度光學(xué)膜300C沿著第二表面332C彼此層合來制備梯度光學(xué)膜300D。在圖IE中，梯度光學(xué)膜300E包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向變化的互連空隙 390E，例如，在靠近第一和第二表面330E、332E處具有階躍變化局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙， 如圖所示。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370E靠近梯度光學(xué)膜300E的第一表面330E的第一局部體積分?jǐn)?shù)與互連空隙375E靠近梯度光學(xué)膜300E的第二表面332E的第二局部體積分?jǐn)?shù)大致相同。在一些情況下，例如，如圖IE所示，互連空隙370E的第一局部體積分?jǐn)?shù)急劇地(即，階躍式地)轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙377E的最大局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，第一和第二局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙370E和375E各自的厚度t2和t3可為總厚度、的較小百分比，例如總厚度、的約至約5%、或至約10%、或至約20%、或至約30%或更高。在一些情況下，互連空隙370E和375E的第一和第二局部體積分?jǐn)?shù)中的每一個均可具有非階躍式的轉(zhuǎn)變(未示出，但類似于圖IB中所示的單調(diào)變化)?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300E。在一個具體實(shí)施例中， 可(例如)通過將圖IC所示的一對梯度光學(xué)膜300C沿著第一表面330C彼此層合來制備梯度光學(xué)膜300E。在圖IF中，梯度光學(xué)膜300F包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向變化的互連空隙 390F，例如，具有梯度最小局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙377F，如圖所示。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370F靠近梯度光學(xué)膜300F的第一表面330F的第一局部體積分?jǐn)?shù)與互連空隙 375F靠近梯度光學(xué)膜300F的第二表面332F的第二局部體積分?jǐn)?shù)大致相同。在一些情況下，例如，如圖IF所示，互連空隙370F的第一局部體積分?jǐn)?shù)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)?即，以單調(diào)梯度形式)互連空隙377F的最小局部體積分?jǐn)?shù)，并且又逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙375F的第二體積分?jǐn)?shù)?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300F。在一個具體實(shí)施例中， 可(例如)通過將圖IB所示的一對梯度光學(xué)膜300B沿著第二表面332B層合來制備梯度光學(xué)膜300F。在圖IG中，梯度光學(xué)膜300G包括局部體積分?jǐn)?shù)沿著厚度方向變化的互連空隙 390G，例如，具有一對階躍變化體積分?jǐn)?shù)的互連空隙377G、378G。在一個具體實(shí)施例中，互連空隙370G靠近梯度光學(xué)膜300G的第一表面330G的第一局部體積分?jǐn)?shù)與互連空隙375G靠近梯度光學(xué)膜300G的第二表面332G的第二局部體積分?jǐn)?shù)大致相同。在一些情況下，例如， 如圖IG所示，互連空隙370E的第一局部體積分?jǐn)?shù)急劇地轉(zhuǎn)變?yōu)?即，階躍式的)互連空隙 377G的最小局部體積分?jǐn)?shù)、又急劇地轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙380G的最大局部體積分?jǐn)?shù)、再次急劇地轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙378G的最小局部體積分?jǐn)?shù)、并最終又轉(zhuǎn)變?yōu)榛ミB空隙375G的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在一些情況下，互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)中的每一個均可具有非階躍式的轉(zhuǎn)變 (未示出，但類似于圖IB中所示的單調(diào)變化)?？衫萌缭趧e處所述的多種技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300G。在一個具體實(shí)施例中， 可(例如)通過多層涂布技術(shù)來制備梯度光學(xué)膜300G，其中對應(yīng)于最小局部空隙體積分?jǐn)?shù)的層(377G、378G)與對應(yīng)于最大局部空隙體積分?jǐn)?shù)的層(390G)可使用不同的光引發(fā)劑濃度。在一個具體實(shí)施例中，可(例如)通過多層涂布技術(shù)(其中所述層包含聚合物粘結(jié)劑與顆粒的不同比率)來制備梯度光學(xué)膜300G。圖2為光學(xué)構(gòu)造600的示意性側(cè)視圖，所述光學(xué)構(gòu)造600包括設(shè)置在基底610上的梯度光學(xué)膜630。在一些情況下，基底610為提供可轉(zhuǎn)移梯度光學(xué)膜630的隔離襯墊，這意味著(例如)梯度光學(xué)膜630的暴露頂部主表面632可設(shè)置為與基底或表面接觸，并且可在此后從梯度光學(xué)膜剝?nèi)ジ綦x襯墊以暴露梯度光學(xué)膜的底部主表面634，所述底部主表面634可(例如)粘合到另一個基底或表面上。用于從隔離襯墊610中釋放低折射率層 630的釋放力通常小于約200克力/英寸、或小于約150克力/英寸、或小于約100克力/ 英寸、或小于約75克力/英寸、或小于約50克力/英寸。梯度光學(xué)膜630可類似于本文所公開的任何梯度光學(xué)膜。例如，梯度光學(xué)膜630可類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。又如，梯度光學(xué)膜630可包括多個層，其中每個層均類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。在一些情況下，可將梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者直接涂布到基底610上。在一些情況下，可首先形成梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者并且此后將其轉(zhuǎn)移到基底610上?；?10可為半透明、透明、或不透明的。基底610可為或包括可適于應(yīng)用的任何材料，例如電介質(zhì)、半導(dǎo)體、或?qū)w(例如金屬)。例如，基底610可包括玻璃和聚合物(例如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯、和丙烯酸樹脂)，或由其制成。在一些情況下，基底610可包括偏振器，例如反射型偏振器、吸收型偏振器、線柵偏振器、或光纖偏振器。在一些情況下，基底610可包括多個層，例如包括(如)多層反射膜和多層偏振膜的多層光學(xué)膜。在一些情況下，基底610可包括結(jié)構(gòu)化表面，例如具有多個微結(jié)構(gòu)的表面。在一些情況下，基底610可包括位于主表面上的其他涂層，例如(如)底漆涂層。如本文所述，光纖偏振器包括形成嵌入在粘結(jié)劑內(nèi)的一個或多個光纖層的多個基本上平行的光纖，其中粘結(jié)劑和光纖中的至少一者包括雙折射材料。基本上平行的光纖限定透光軸和反光軸。光纖偏振器基本上透射平行于透光軸偏振的入射光并且基本上反射平行于反光軸偏振的入射光。光纖偏振器的實(shí)例描述于(例如)美國專利No. 7，599，592和 No. 7，526，164中，上述專利全文以引用方式并入本文。在一些情況下，基底610可包括部分反射器。部分反射器為反射入射光的至少 30%同時透射除去吸收損耗之外的剩余部分的光學(xué)元件或光學(xué)元件的集合。合適的部分反射器包括(例如)泡沫、偏振型和非偏振型多層光學(xué)膜、微復(fù)制結(jié)構(gòu)(如BEF)、偏振和非偏振共混物、線柵偏振器、部分透射金屬(例如銀或鎳)、金屬/電介質(zhì)疊堆(例如銀和銦錫氧化物)、和非對稱光學(xué)膜。非對稱光學(xué)膜描述于(例如)美國專利No. 6，924，014 (Ouderkirk 等人)中并且還描述于PCT公開W02008/144636中。打孔的部分反射器或反射鏡(例如 (如)打孔ESR(可得自3M公司))也可用作部分反射器。在一個具體實(shí)施例中，基底610可為反射型偏振器。反射型偏振器層基本上反射具有第一偏振態(tài)的光，并基本上透射具有第二偏振態(tài)的光，其中兩種偏振態(tài)是互相正交的。 例如，在被反射型偏振器基本上反射的偏振態(tài)的可見光中，該反射型偏振器的平均反射率為至少約50 %、或至少約60 %、或至少約70 %、或至少約80 %、或至少約90 %、或至少約 95%。又如，在被反射型偏振器基本上透射的偏振態(tài)的可見光中，該反射型偏振器的平均透射率為至少約50%、或至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90%、或至少約95%、或至少約97%、或至少約98%、或至少約99%。在一些情況下，反射型偏振器基本上反射具有第一線性偏振態(tài)(例如，沿χ方向)的光并且基本上透射具有第二線性偏振態(tài) (例如，沿著ζ方向)的光?？墒褂萌魏魏线m類型的反射型偏振器，例如(如)，多層光學(xué)薄膜(MOF)反射型偏振器，如Vikuiti 雙倍增亮膜(DBEF))；具有連續(xù)相和分散相的漫反射偏振膜(DRPF)jn 可得自3M公司(St. Paul, Minnesota)的Vikuiti 漫反射偏振膜(“DRPF”)；描述于(例如)美國專利No. 6，719，426中的線柵反射型偏振器；或膽留型反射型偏振器。例如，在一些情況下，反射型偏振器層可為或包括由交替的不同聚合物材料層形成的MOF反射型偏振器，其中一組交替的層由雙折射材料形成，其中不同材料的折射率與以一種線性偏振態(tài)偏振的光相匹配并且與正交的線性偏振態(tài)的光不匹配。在此類情況下， 匹配偏振態(tài)的入射光基本上透射穿過反射型偏振器，并且不匹配偏振態(tài)的入射光基本上被反射型偏振器反射。在一些情況下，MOF反射型偏振器可包括無機(jī)介電層的疊堆。又如，反射型偏振器可為或包括在傳播狀態(tài)具有中間同軸平均反射率的局部反射層。例如，局部反射層對于在第一平面(如xy平面)偏振的可見光可具有至少約90%的同軸平均反射率，對于在垂直于第一平面的第二平面(如xz平面)偏振的可見光具有在約 25%至約90%范圍內(nèi)的同軸平均反射率。此類局部反射層描述于(例如)美國專利公布號 2008/064133中，該專利的公開內(nèi)容全文以引用方式并入本文中。在一些情況下，反射型偏振器可為或包括圓反射型偏振器，其中以一種方向圓偏振的光(可是順時針或逆時針方向(也稱為右旋或左旋圓偏振)優(yōu)先透射，以相反方向偏振的光優(yōu)先反射。其中一類圓偏振器包括膽留型液晶偏振器。在一些情況下，反射型偏振器可為通過光學(xué)干涉作用反射或透射光的多層光學(xué)薄膜，如以下文獻(xiàn)中所述提交于2008年11月19日的美國臨時專利申請No. 61/116132 ； 提交于2008年11月19日的美國臨時專利申請No. 61/116291 ；提交于2008年11月19 日的美國臨時專利申請No. 61/116294;提交于2008年11月19日的美國臨時專利申請 No. 61/116295 ；提交于2008年11月19日的美國臨時專利申請No. 61/116295 ；和提交于 2008年5月19日、要求提交于2007年5月20日的美國專利申請No. 60/939085的優(yōu)先權(quán)的國際專利申請NO.PCT/US2008/060311 ；所述專利均全文以引用方式并入本文中。在一個具體實(shí)施例中，基底610可為微結(jié)構(gòu)化表面，例如棱鏡導(dǎo)光膜。例如，可將梯度光學(xué)膜630涂布在導(dǎo)光膜(例如可得自3M公司的Vikuiti 增亮膜(BEF))的棱鏡側(cè)面上。BEF包括多個線性棱鏡，其具有(例如)M微米的間距和約90度的棱鏡峰角或頂角。 本領(lǐng)域的技術(shù)人員已知的是，可將梯度光學(xué)膜630涂布在微結(jié)構(gòu)化表面上作為保角涂層、 平面化涂層、或涂布的圖案。光學(xué)構(gòu)造600中的每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分沿著梯度光學(xué)膜630的底部主表面634彼此直接接觸。例如，兩個相鄰主表面的至少50%、或至少60%、或至少70%、 或至少80 %、或至少90 %、或至少95 %彼此直接接觸。例如，在一些情況下，梯度光學(xué)膜630 直接涂布在基底610上。圖3為光學(xué)構(gòu)造700的示意性側(cè)視圖，所述光學(xué)構(gòu)造700包括設(shè)置在基底710上的梯度光學(xué)膜730，以及設(shè)置在梯度光學(xué)膜730上的光學(xué)粘合劑層720?；?10可為在別處所述的基底中的任何一個，包括(例如)如下基底(例如)參照圖2所述的基底610。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720可充當(dāng)密封層以抑制浸潤梯度光學(xué)膜730的空隙。在一些情況下，可能有利的是，在基底710的相反側(cè)上具有粘合劑層720和梯度光學(xué)膜730。在其它情況下，可能有利的是，在基底710的兩側(cè)上均具有梯度光學(xué)膜730。光學(xué)粘合劑層720可為可在應(yīng)用中期望和/或可用的任何光學(xué)粘合劑。光學(xué)粘合劑層720具有足夠的光學(xué)質(zhì)量和光穩(wěn)定性，使得(例如)粘合劑層不會隨時間或暴露在天氣下而黃化以致粘合劑和梯度光學(xué)膜的光學(xué)性能降低。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720 可為大體上透明的光學(xué)粘合劑，這意味著該粘合劑層具有高鏡面透射比和低漫射透射比。 例如，在此類情況下，光學(xué)粘合劑層720的鏡面透射比不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層720為基本上光學(xué)漫射的，這意味著粘合劑層具有高漫射透射比和低鏡面透射比，并且光學(xué)粘合劑層720可具有白色外觀。例如，在此類情況下，光學(xué)漫射粘合劑層720的光學(xué)霧度不小于約30%、或不小于約30%、或不小于約50%、 或不小于約60%、或不小于約70%、或不小于約80%、或不小于約90%、或不小于約95%。 在一些情況下，漫射粘合劑層的漫反射率不小于約20%、或不小于約30%、或不小于約 40 %、或不小于約50 %、或不小于約60 %。在此類情況下，粘合劑層可通過包含分散于光學(xué)粘合劑中的多個顆粒而為光學(xué)漫射的，其中顆粒和光學(xué)粘合劑具有不同的折射率。兩種折射率之間的失配可導(dǎo)致光散射。示例性光學(xué)粘合劑包括壓敏粘合劑(PSA)、熱敏粘合劑、溶劑揮發(fā)性粘合劑、可重新定位的粘合劑或可再加工的粘合劑，以及紫外線固化性粘合劑，例如可得自Norland Products, Inc的紫外線固化性光學(xué)粘合劑。示例性PSA包括基于天然橡膠、合成橡膠、苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸酯嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烴和聚(甲基)丙烯酸酯的那些。如本文所用，(甲基)丙烯酸酯 (或丙烯酸酯)是指丙烯酸酯類和甲基丙烯酸酯類物質(zhì)。其他示例性的PSA包括(甲基) 丙烯酸酯、橡膠、熱塑性彈性體、有機(jī)硅、氨基甲酸酯、和它們的組合。在一些情況下，PSA基于(甲基)丙烯酸PSA或至少一種聚(甲基)丙烯酸酯。示例性有機(jī)硅PSA包括聚合物或樹膠和任選的增粘樹脂。其他示例性有機(jī)硅PSA包括聚二有機(jī)硅氧烷-聚乙二酰胺和任選的增粘劑。梯度光學(xué)膜730可類似于本文所公開的任何梯度光學(xué)膜。例如，梯度光學(xué)膜730 可類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。又如，梯度光學(xué)膜730可包括多個層，其中每個層均類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。在一個具體實(shí)施例中，可將任選光學(xué)漫射體(未示出)設(shè)置在光學(xué)粘合劑720上， 從而形成光學(xué)漫射體/光學(xué)粘合劑/梯度光學(xué)膜/基底的疊堆。任選光學(xué)漫射體可包括可在應(yīng)用中期望的和/或可用的任何光學(xué)漫射體。例如，光學(xué)漫射體可為或包括表面漫射體、 體積漫散體、或它們的組合。例如，任選光學(xué)漫射體可包括具有第一折射率Ii1的多個顆粒， 所述多個顆粒分散在具有不同折射率1!2的粘結(jié)劑或宿主介質(zhì)中，其中兩個折射率的差值為至少約0. 01、或至少約0. 02、或至少約0. 03、或至少約0. 04、或至少約0. 05。圖4為光學(xué)構(gòu)造800的示意性側(cè)視圖，所述光學(xué)構(gòu)造800包括設(shè)置在基底810上的第一光學(xué)粘合劑層820、設(shè)置在第一光學(xué)粘合劑層820上的梯度光學(xué)膜830、以及設(shè)置在梯度光學(xué)膜830上的任選第二光學(xué)粘合劑層840?；?10可為在別處所述的基底中的任何一個，包括(例如)如下基底(例如)參照圖2所述的基底610。光學(xué)粘合劑層820和 840可類似于光學(xué)粘合劑層720。在一些情況下，光學(xué)粘合劑層820和840具有相同折射率。 在一些情況下，這兩個粘合劑層可具有不同的折射率。梯度光學(xué)膜830可類似于本文所公開的任何梯度光學(xué)膜。例如，梯度光學(xué)膜830 可類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。又如，梯度光學(xué)膜830可包括多個層，其中每個層均類似于梯度光學(xué)膜300A-300G中的一者。圖9為根據(jù)本發(fā)明的一個具體實(shí)施例的光學(xué)構(gòu)造900的示意性側(cè)視圖。在圖9中， 梯度光學(xué)膜901涂布在微結(jié)構(gòu)化基底910上。微結(jié)構(gòu)化基底910可為棱鏡導(dǎo)光膜，例如可得自3M公司的Vikuiti 增亮膜(BEF)。BEF包括多個線性棱鏡，其(例如)具有M微米的間距和約90度的棱鏡峰角或頂角?？蓪⑻荻裙鈱W(xué)膜901涂布在微結(jié)構(gòu)化基底910的微結(jié)構(gòu)化表面930上以平面化該表面結(jié)構(gòu)，如圖9所示。梯度光學(xué)膜901包括鄰近微結(jié)構(gòu)化表面930的低折射率(即，高局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙)區(qū)域970、和鄰近相反平表面932的較高折射率(即，低局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙)區(qū)域975。具有第一游離表面921的光學(xué)粘合劑層920可設(shè)置在鄰近較高折射率區(qū)域 975的平表面932上，如在別處所述。在一些情況下，光學(xué)構(gòu)造900可通過第一游離表面921 附接至其他光學(xué)結(jié)構(gòu)(未示出)，例如，顯示面板或顯示面板光導(dǎo)。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)化基底910可包括任選光學(xué)膜925 (例如聚合物膜或光學(xué)粘合劑膜)，所述任選光學(xué)膜925可附接至鄰近第二游離表面926的其他光學(xué)結(jié)構(gòu)(未示出)。圖5A為根據(jù)本發(fā)明的一個方面的涂布在基底510上的梯度光學(xué)膜500的橫截面顯微圖。梯度光學(xué)膜500包括鄰近基底510的第一主表面530，和靠近第一主表面530的第一局部體積分?jǐn)?shù)的互連空隙570。梯度光學(xué)膜還包括為“游離”表面(即，鄰近固化環(huán)境) 的第二主表面532，和互連空隙575靠近第二主表面532的致密的第二局部體積分?jǐn)?shù)。在富含氧氣的環(huán)境(3578ppm氧氣，根據(jù)下文實(shí)例1中的樣品1)中制備梯度光學(xué)膜500，以抑制第二主表面532附近的聚合作用。圖5B為圖5A中的顯微圖的較高倍放大圖，并且更清晰示出互連空隙570的第一局部體積分?jǐn)?shù)高于互連空隙575的致密第二局部體積分?jǐn)?shù)，所述互連空隙575已因受抑聚合作用變得致密。圖6A為根據(jù)本發(fā)明的一個方面的涂布在基底610上的梯度光學(xué)膜600的橫截面顯微圖。梯度光學(xué)膜600包括鄰近基底610的第一主表面630，和互連空隙670靠近第一主表面630的第一局部體積分?jǐn)?shù)。梯度光學(xué)膜還包括為“游離”表面(即，鄰近固化環(huán)境)的第二主表面632，和互連空隙675靠近第二主表面632的致密的第二局部體積分?jǐn)?shù)。與圖 5A-5B的梯度光學(xué)膜500相比，梯度光學(xué)膜600是在富含氧氣較低的環(huán)境(1707ppm氧氣，根據(jù)下文實(shí)例1中的樣品3a)中制備的。富含氧氣的環(huán)境抑制第二主表面632附近的聚合作用。圖6B為圖6A中的顯微圖的較高倍放大圖，并且更清晰示出互連空隙670的第一局部體積分?jǐn)?shù)高于互連空隙675的致密第二局部體積分?jǐn)?shù)，所述互連空隙675已因受抑聚合作用變得致密。致密第二體積分?jǐn)?shù)的互連空隙575和675的相對厚度的比較表明，在固化化境中致密區(qū)域的厚度隨氧氣濃度的增加而增加。本發(fā)明所公開的膜、層、構(gòu)造和系統(tǒng)的某些優(yōu)點(diǎn)還通過以下實(shí)例進(jìn)行說明。本實(shí)例中列出的特定材料、量和尺寸以及其他條件和細(xì)節(jié)不應(yīng)被解釋為不當(dāng)?shù)叵拗票景l(fā)明。在實(shí)例中，折射率是使用Metricon 2010型棱鏡耦合器(可得自Metricon Corp. (Pennington, NJ))測得的。光學(xué)透射比、清晰度、和霧度是使用Haze-Gard Plus霧度計 (可得自 BYK-Gardner (SiIver Springs, MD))測得的。鍾實(shí)例中涉及到以下材料及其來源。
Nalco 2327-膠態(tài)二氧化硅分散體Nalco Co. Naperville ILNalco 23 -膠態(tài)二氧化硅分散體Nalco Co. Naperville ILIPA-ST-UP有機(jī)硅長形顆粒Nissan Chemical Inc. (Houston, TX)三甲氧基甲硅烷基)丙基甲基丙烯酸酯 (丙烯酸硅烷酯)Aldrich Chemical, Milwaukee WISilquest A-174 硅烷GE Advanced Materials, Wilton CTSilquest A-1230 硅烷GE Advanced Materials, Wilton CT1-甲氧基-2-丙醇-溶劑Aldrich Chemical, Milwaukee WIPhotomer 6210脂族氨基甲酸酯丙烯酸酯Cogni s, Cincinnati OHSR444季戊四醇三丙烯酸酯Sartomer Company, Exton PASR833S三環(huán)癸烷二甲醇二丙烯酸酯Sartomer Company, Exton PASR9003丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯Sartomer Company, Exton PADarocur 4265-光引發(fā)劑Ciba Specialty Chemical, High Point NCIrgacure 184-光引發(fā)劑Ciba Specialties Chemical, Tarrytown NYIi*gacure819-光引發(fā)劑Ciba Specialties Chemical, Tarrytown NYIPA-異丙醇(溶劑)Aldrich Chemical, Milwaukee WIMEK-甲基乙基酮(溶劑)Aldrich Chemical, Milwaukee WIVikiUti 雙重增亮膜3M Company, St. Paul, MN(DBEF、DBEF-Q、TOP-Q)KSR3聚苯乙烯珠Soken Chemical and Engineering Co., TokyoCN2302聚酯丙烯酸酯Sartomer Company, Exton PATEGO Rad 2250Evonic Industries Hopewell, VA:0127] 實(shí)例A-底漆在DBEF上以產(chǎn)牛梯度的光引發(fā)劑 將光引發(fā)劑涂布在基底上以產(chǎn)生從基底界面到空氣界面的密度變化。通過在MEK 中混合0.3重量％的Irgacure 819來制備光引發(fā)劑涂布溶液。利用43. 2cm(17英寸)寬的狹槽式涂布模具將此光引發(fā)劑溶液涂布到DBEF膜上。以127克/分鐘的速率和30. 5米/分鐘(100英尺/分鐘)的線速度涂布所述溶液。然后在150下(66 0C )的烘箱中干燥涂層。這導(dǎo)致底漆光引發(fā)劑的基底。制備涂布溶液“A”。首先，在快速攪拌下，在裝有冷凝器和溫度計的2升三頸燒瓶中，將360克Nalco 2327膠態(tài)二氧化硅顆粒(40重量％的固體，平均粒徑為約20納米)和 300克1-甲氧基-2-丙醇一起混合。接下來，加入22. 15克Silquest A-174硅烷，并攪拌混合物10分鐘。然后加入額外的400克1-甲氧基-2-丙醇，并且使用加熱套在85°C下對混合物加熱6小時。將所得溶液冷卻至室溫，并且使用旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀在60°C水浴下去除水和 1-甲氧基-2-丙醇溶劑中的大部分(約700克)。所得溶液為澄清的A-174改性的二氧化硅溶液，所述溶液具有分散于1-甲氧基-2-丙醇中的44重量％的A-174改性的20nm的二氧化硅。涂布溶液“A”由18. 0重量％的澄清的A-174改性的二氧化硅溶液(具有分散于 1-甲氧基-2-丙醇中的44重量％的六-174改性的20nm的二氧化硅)、23.9重量％的1-甲氧基-2-丙醇、46. 1重量％的IPA、12. 0重量％&SR444構(gòu)成。將Irgacure 819以0.15份 /百份(PPh)的比率加入到涂布溶液“A”。以15. 2克/分鐘的速率將涂布溶液A抽吸(使用壓力罐)到43. 2厘米(17英寸)寬的狹槽式涂布模具中。狹槽式涂布模具以1.52米/ 分鐘(10英尺/分鐘)的速率將43. 2cm寬的涂層均勻地分布到底漆光引發(fā)劑的基底上。接下來，通過使被涂布基底經(jīng)過UV-LED固化室來聚合涂層，所述固化室包括用以通過UV輻射的石英窗口。UV-LED固化室包括160個UV-LED(幅材縱向4個X幅材橫向 40個(大約覆蓋42. 5cmX4. 5cm的區(qū)域))組成的矩形陣列。LED(可得自Nichia Inc., Tokyo Japan)在385nm的標(biāo)稱波長下工作并在8安培下運(yùn)行，從而得到0. 052焦耳/平方厘米的 UV-A 劑量。通過 Lambda GENH 60-12. 5-U 電源(可得自 TDK-Lambda，N印tune NJ) 對UV-LED陣列供電并吹風(fēng)制冷。這些UV-LED設(shè)置在距離基底大約2. 5厘米的固化室石英窗口的上方。向UV-LED固化室以141.6升/分鐘(5立方英尺/分鐘)的流速提供氮?dú)饬?。將空氣引入氮?dú)夤?yīng)源內(nèi)以控制UV-LED室中的總氧氣含量。通過變化氣流速度來改變UV-LED固化室中的氧氣含量，并且使用kries 3000氧分析儀(可得自Alpha Omega Instruments, Cumberland RI)來監(jiān)測氧氣含量。經(jīng)UV-LED聚合之后，通過以10英尺/分鐘的幅材速度將被涂布基底輸送到 150 T (660C )的干燥烘箱中并保持2分鐘，從而除去固化涂層中的溶劑。接下來，使用配 I D-‘大丁夕包白勺 Fusion System Model 1600( nJUg Fusion UV Systems, Gaithersburg MD) 后固化干燥的涂層。向UV Fusion室中提供氮?dú)饬?，使室中的氧氣濃度達(dá)到約50ppm。B-梯It光學(xué)fl莫上的體積丨曼射體夕卜涂Hl通過將27. 4克1-甲氧基-2-丙醇、27. 2克甲醇、29. 6克KSR3聚苯乙烯珠、8. 1克 Photomer 6210,3. 6 克 SR833S、4. 2 克 SR9003、和 0. 4 克 Darocur 4265 混合在一起來制備體積漫射體涂布溶液‘B’。使用凹口棒涂布設(shè)備將體積漫射體涂布溶液‘B’以127微米的間隙厚度涂布到基底上。將涂層在150 °F (66°C)下干燥2分鐘、隨后使用Fusion System Model 1600 (Fusion UV Systems, Gaithersburg MD)在13. 7米/分鐘下進(jìn)行固化。Model 1600被構(gòu)造為具有 D-燈泡并且在100%功率下工作。向UV Fusion室中提供氮?dú)饬?，使固化室中的氧氣濃度達(dá)到約50ppm。
實(shí)例1-梯度光學(xué)膜中的折射率和致密層變化按照實(shí)例A將涂布溶液A涂布在底漆光引發(fā)劑的DBEF反射型偏振器膜上，以制備一系列經(jīng)涂布膜。各個經(jīng)涂布膜的固化條件為相同的，但具有可變的空氣流速和氧氣含量。利用BI-Gardner Haze-Gard來測量透射比和霧度。利用2010型棱鏡耦合器(可得自 Metricon Corp, Pennington NJ)來測量涂層的折射率(RI)。2010 型 Metricon 被構(gòu)造為具有在632. Snm的波長下工作的HeNe激光器和光學(xué)棱鏡(代碼6567. 9)。在TE和TM 模式中進(jìn)行測量。為了測定涂層的膜側(cè)折射率，樣品被加載為使得基底與棱鏡耦合器緊密接觸。為了測定涂層的空氣側(cè)折射率，樣品被加載為使得涂層與棱鏡耦合器緊密接觸。涂層中的每一個的測量結(jié)果概述于表1中。表 權(quán)利要求
1.一種梯度光學(xué)膜，其包括粘結(jié)劑；多個顆粒，其中所述粘結(jié)劑與所述多個顆粒的重量比不小于約1 2;以及多個互連空隙，其中所述多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的第一表面的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向單調(diào)變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中，沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度，所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)包括最小局部體積分?jǐn)?shù)或最大局部體積分?jǐn)?shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向以階躍式方式變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的50%。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的20%。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的10%。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的1%。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述多個互連空隙的總體積分?jǐn)?shù)不小于約30%。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述粘結(jié)劑與所述多個顆粒的重量比不小于約1 1.5。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個顆粒中的至少一些包括化學(xué)鍵合至所述粘結(jié)劑的反應(yīng)性基團(tuán)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個顆粒中的至少一些不包括反應(yīng)性基團(tuán)。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個顆粒具有不大于約2微米的平均尺寸。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個顆粒具有不大于約1微米的平均尺寸。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個顆粒包括長形或球形顆粒。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙具有不大于約3微米的平均空隙尺寸。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙具有不大于約1微米的平均空隙尺寸。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙具有不大于約0.7微米的平均空隙尺寸。
20.根據(jù)權(quán)利要求10所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜中的所述多個互連空隙的所述總體積分?jǐn)?shù)不小于約30%。
21.根據(jù)權(quán)利要求10所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜中的所述多個互連空隙的所述總體積分?jǐn)?shù)不小于約50%。
22.根據(jù)權(quán)利要求11所述的梯度光學(xué)膜，其中所述粘結(jié)劑與所述多個顆粒的所述重量比不小于約1 1。
23.根據(jù)權(quán)利要求11所述的梯度光學(xué)膜，其中所述粘結(jié)劑與所述多個顆粒的所述重量比不小于約2 1。
24.根據(jù)權(quán)利要求2所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的有效折射率小于所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的有效折射率。
25.根據(jù)權(quán)利要求M所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率與所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述有效折射率之間的差值在約 0.01至約0. 25的范圍內(nèi)。
26.根據(jù)權(quán)利要求M所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.35。
27.根據(jù)權(quán)利要求M所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.25。
28.根據(jù)權(quán)利要求M所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.20。
29.根據(jù)權(quán)利要求M所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1. 15。
30.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不大于約20%的光學(xué)霧度。
31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約50%的光學(xué)霧度。
32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約70%的光學(xué)霧度。
33.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約80%的光學(xué)霧度。
34.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約90%的光學(xué)霧度。
35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不大于約10%的光學(xué)清晰度。
36.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不大于約5%的光學(xué)清晰度。
37.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約50%的光學(xué)清晰度。
38.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約70%的光學(xué)清晰度。
39.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約90%的光學(xué)清晰度。
40.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約30%的光學(xué)漫反射率。
41.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約40%的光學(xué)漫反射率。
42.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約50%的光學(xué)漫反射率。
43.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約1微米的厚度。
44.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，具有不小于約2微米的厚度。
45.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括基底；以及設(shè)置在所述基底上的根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜。
46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述基底包括隔離襯墊、粘合劑、吸收型偏振器、反射型偏振器、光纖偏振器、或線柵偏振器。
47.根據(jù)權(quán)利要求45所述的光學(xué)構(gòu)造，其還包括設(shè)置在根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜的相反表面上的光學(xué)粘合劑層。
48.根據(jù)權(quán)利要求45所述的光學(xué)構(gòu)造，其還包括設(shè)置在所述基底和根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜之間的光學(xué)粘合劑層。
49.一種梯度光學(xué)膜，其包括粘結(jié)劑；多個長形顆粒；以及多個互連空隙，其中所述多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化，并且其中所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的第一表面的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。
50.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中，沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度，所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)包括最小局部體積分?jǐn)?shù)或最大局部體積分?jǐn)?shù)。
51.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向單調(diào)變化。
52.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向以階躍式方式變化。
53.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的50%。
54.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的20%。
55.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的10%。
56.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的1%。
57.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述多個互連空隙的總體積分?jǐn)?shù)不小于約30%。
58.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述多個互連空隙的總體積分?jǐn)?shù)不小于約20%，所述梯度光學(xué)膜的厚度不小于約2. 5微米，并且所述梯度光學(xué)膜的光學(xué)霧度不大于約10%。
59.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個長形顆粒中的所述長形顆粒具有不小于約4的平均縱橫比。
60.根據(jù)權(quán)利要求57所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜中的所述多個互連空隙的所述總體積分?jǐn)?shù)不小于約40%。
61.根據(jù)權(quán)利要求58所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述厚度不小于約·2. 5微米。
62.根據(jù)權(quán)利要求58所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述光學(xué)霧度不大于約 10%。
63.根據(jù)權(quán)利要求49所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的有效折射率小于所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的有效折射率。
64.根據(jù)權(quán)利要求63所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率與所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述有效折射率之間的差值在約 0.01至約0. 25的范圍內(nèi)。
65.根據(jù)權(quán)利要求63所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.3。
66.根據(jù)權(quán)利要求63所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.25。
67.根據(jù)權(quán)利要求63所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述有效折射率不大于約1.2。
68.一種梯度光學(xué)膜，其包括多個長形顆粒；以及多個空隙，其中所述多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化，并且其中所述梯度光學(xué)膜在靠近所述梯度光學(xué)膜的第一表面處的第一折射率低于靠近述梯度光學(xué)膜的相反表面處的第二折射率，并且其中所述第一折射率不大于約1. 3。
69.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向單調(diào)變化。
70.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中，沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度，所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)包括最小局部體積分?jǐn)?shù)或最大局部體積分?jǐn)?shù)。
71.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的所述厚度方向以階躍式方式變化。
72.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的50%。
73.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的20%。
74.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的10%。
75.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述多個互連空隙的所述第二體積分?jǐn)?shù)小于所述多個互連空隙的所述第一體積分?jǐn)?shù)的1%。
76.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜的所述多個互連空隙的總體積分?jǐn)?shù)不小于約30%。
77.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述第一折射率與所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述第一折射率之間的差值在約 0.01至約0. 25的范圍內(nèi)。
78.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述第一折射率不大于約1. 35，并且所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述第二折射率不小于1. 45。
79.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述第一折射率不大于約1. 25，并且所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述第二折射率不小于1. 4。
80.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜在所述第一表面處的所述第一折射率不大于約1. 20，并且所述梯度光學(xué)膜在所述相反表面處的所述第二折射率不小于1. 35。
81.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其還具有不小于約5微米的厚度和不大于約 10%的光學(xué)霧度。
82.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜具有不大于約1.25的第一折射率。
83.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜具有不小于約10微米的厚度。
84.根據(jù)權(quán)利要求68所述的梯度光學(xué)膜，其中所述梯度光學(xué)膜具有不小于約15微米的厚度。
85.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括結(jié)構(gòu)化表面，所述結(jié)構(gòu)化表面包括多個結(jié)構(gòu)；以及梯度光學(xué)膜，所述梯度光學(xué)膜涂布在所述結(jié)構(gòu)化表面上并使所述結(jié)構(gòu)化表面基本上平面化，所述梯度光學(xué)膜包括多個互連空隙，其中所述多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化，并且其中所述多個互連空隙靠近所述多個結(jié)構(gòu)的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。
86.根據(jù)權(quán)利要求85所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜在靠近所述多個結(jié)構(gòu)處還具有不大于約1. 3的折射率。
87.根據(jù)權(quán)利要求85所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜還具有不大于約10%的光學(xué)霧度。
88.根據(jù)權(quán)利要求85所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜還包括多個長形顆粒。
89.根據(jù)權(quán)利要求85所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜具有不小于約90%的光學(xué)霧度。
90.根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜，其具有不小于約80%的光學(xué)霧度，其中對于法向入射光而言，所述梯度光學(xué)膜所散射的光在零度處具有亮度L1并且在10度處具有亮度 L2, L1Zl2不小于約10。
91.根據(jù)權(quán)利要求90所述的梯度光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約20。
92.根據(jù)權(quán)利要求90所述的梯度光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約50。
93.根據(jù)權(quán)利要求90所述的梯度光學(xué)膜，其中L1Zl2不小于約100。
94.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括具有不小于約30%的光學(xué)霧度的光學(xué)漫射體層； 設(shè)置在所述光學(xué)漫射體層上的根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜；以及設(shè)置在所述梯度光學(xué)膜上的反射型偏振器層，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。
95.根據(jù)權(quán)利要求94所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜通過光學(xué)粘合劑層層合至所述反射型偏振器層和所述光學(xué)漫射體層中的至少一者。
96.根據(jù)權(quán)利要求94所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜涂布在所述反射型偏振器層和所述光學(xué)漫射體層中的至少一者上。
97.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括具有不小于約30%的光學(xué)霧度的光學(xué)漫射體層； 設(shè)置在所述光學(xué)漫射體層上的根據(jù)權(quán)利要求1所述的梯度光學(xué)膜；以及設(shè)置在所述梯度光學(xué)膜上的部分反射器層，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。
98.根據(jù)權(quán)利要求97所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜通過光學(xué)粘合劑層層合至所述部分反射層和所述光學(xué)漫射體層中的至少一者。
99.根據(jù)權(quán)利要求97所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜涂布在所述部分反射器層和所述光學(xué)漫射體層中的至少一者上。
100.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括增亮膜(BEF)，所述增亮膜包括多個平行棱鏡；以及梯度光學(xué)膜，所述梯度光學(xué)膜涂布在所述BEF上并使所述BEF基本上平面化，所述梯度光學(xué)膜包括多個互連空隙，其中所述多個互連空隙的局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化，并且其中所述多個互連空隙靠近所述多個平行棱鏡的第一局部體積分?jǐn)?shù)大于所述多個互連空隙靠近所述梯度光學(xué)膜的相反表面的第二局部體積分?jǐn)?shù)。
101.根據(jù)權(quán)利要求100所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜在靠近所述多個平行棱鏡處還具有不大于約1. 3的折射率。
102.根據(jù)權(quán)利要求100所述的光學(xué)構(gòu)造，其還包括設(shè)置在所述梯度光學(xué)膜的所述相反表面上的光學(xué)粘合劑。
103.根據(jù)權(quán)利要求100所述的光學(xué)構(gòu)造，其中所述梯度光學(xué)膜具有不小于約90%的光學(xué)霧度。
104.一種梯度光學(xué)膜，其包括 粘結(jié)劑；以及多個顆粒，其中所述粘結(jié)劑與所述多個顆粒的重量比不小于約1 2，并且其中折射率沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。
105.一種光學(xué)構(gòu)造，其包括具有不小于約30%的光學(xué)霧度的光學(xué)漫射體層；設(shè)置在所述光學(xué)漫射體層上的梯度光學(xué)膜，所述梯度光學(xué)膜包括粘結(jié)劑；多個顆粒，其中折射率沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化；以及設(shè)置在所述梯度光學(xué)膜上的反射型偏振器層，其中所述光學(xué)構(gòu)造中每兩個相鄰主表面的相當(dāng)大一部分彼此直接接觸。
全文摘要
本發(fā)明描述了梯度光學(xué)膜和包括所述梯度光學(xué)膜的光學(xué)構(gòu)造。所述梯度光學(xué)膜包括粘結(jié)劑、多個顆粒、和具有局部體積分?jǐn)?shù)的多個互連空隙。所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化。所述梯度光學(xué)膜的所述折射率也可沿著所述梯度光學(xué)膜的厚度方向變化，因?yàn)樗稣凵渎室部扇Q于所述多個互連空隙的所述局部體積分?jǐn)?shù)。
文檔編號G02B5/02GK102576100SQ201080045991
公開日2012年7月11日 申請日期2010年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月24日
發(fā)明者亞當(dāng)·D·哈格, 呂菲, 埃里克·W·納爾遜, 威廉·F·埃德蒙茲, 威廉·布雷克·科爾布, 杰森·S·佩泰耶, 邁克爾·本頓·弗里, 郝恩才 申請人:3M創(chuàng)新有限公司