專利名稱：一種光罩清洗甩干裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及PCB、OLED、TFT制造領(lǐng)域使用的小型光罩清洗設(shè)備，特別涉及 OLED制造中黃光區(qū)光罩的清洗甩干裝置。
背景技術(shù)：
在OLED生產(chǎn)過程中，黃光區(qū)的制造是生產(chǎn)過程中最為關(guān)鍵的環(huán)節(jié)之一。在這個(gè) 制程中需對ITO、Mo/AL/Mo、絕緣層和隔離柱進(jìn)行4道膜的加工，在加工過程中，采用接近式 1 1曝光技術(shù)，對光罩圖形進(jìn)行轉(zhuǎn)印。光罩與基板的距離只有60um左右，曝光解析度要達(dá)到 Sum左右。光罩表面的各種污染缺陷都對整個(gè)制程的圖形轉(zhuǎn)印良率造成很大影響。特別是 隨著產(chǎn)品品種的頻繁切換，光罩頻繁更換，污染的幾率增大。要求對光罩進(jìn)行清洗，清洗后 的光罩要求無污染、無水痕、水漬?，F(xiàn)在通用的清洗方法是洗潔劑清洗、純水清洗、高速旋轉(zhuǎn) 甩干。為了確保光罩中心純水的有效甩出，在甩干過程中利用氮?dú)鈱χ行倪M(jìn)行吹淋，由于氮 氣的潔凈度影響，容易帶來二次污染，同時(shí)在吹淋過程中也容易產(chǎn)生水痕。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服上述清洗方法的缺陷，提供一種簡單實(shí)用的裝置，完 成對光罩的清洗。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的，設(shè)計(jì)一種光罩清洗甩干 裝置，它包括甩干支撐機(jī)構(gòu)及設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)上的浮動(dòng)平臺，光罩置于該浮動(dòng)平臺上， 其特征在于所述浮動(dòng)平臺通過設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)上端面的浮動(dòng)支撐滾珠支撐，浮動(dòng)軸 貫穿于甩干支撐機(jī)構(gòu)的中心孔并與浮動(dòng)平臺底面開設(shè)的凹槽滑動(dòng)連接，浮動(dòng)平臺的一側(cè)連 接有側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，增加了浮動(dòng)軸與浮動(dòng)平臺的有效位移設(shè)計(jì)，所述浮動(dòng) 軸的軸端為矩形結(jié)構(gòu)，截面為正方形，該軸端矩形的高度與浮動(dòng)平臺底面凹槽高度相同。所 述浮動(dòng)平臺底面凹槽為矩形槽，該矩形槽寬度與浮動(dòng)軸軸端的正方形邊長相同，浮動(dòng)平臺 矩形槽長度大于浮動(dòng)軸軸端正方形邊長。浮動(dòng)軸與浮動(dòng)平臺之間形成了可傳遞力矩的滑動(dòng)連接方式，從而實(shí)現(xiàn)浮動(dòng)平臺與 浮動(dòng)軸之間的徑向位移，并隨浮動(dòng)軸高速旋轉(zhuǎn)。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，本實(shí)用新型增加了甩干平臺的浮動(dòng)設(shè)計(jì)，所述浮動(dòng)平 臺側(cè)壁周邊設(shè)置有容納側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)端頭限位球的滑軌，該限位球與浮動(dòng)平臺的滑軌滑動(dòng) 連接。浮動(dòng)平臺的周邊一側(cè)所設(shè)置的側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)可以使浮動(dòng)平臺在水平方向做有限 移動(dòng)，同時(shí)做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，增加了浮動(dòng)平臺的有效滾動(dòng)位移設(shè)計(jì)，所述浮動(dòng)支撐 滾珠有3 6個(gè)，分別置于甩干支撐機(jī)構(gòu)上端面所設(shè)凹槽內(nèi)，浮動(dòng)支撐滾珠的直徑大于凹槽 的半徑。[0010]本實(shí)用新型浮動(dòng)平臺與浮動(dòng)軸連接點(diǎn)位置在側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)側(cè)向力的作用下，可以 改變連接點(diǎn)，從而改變浮動(dòng)平臺的旋轉(zhuǎn)中心。通過浮動(dòng)機(jī)構(gòu)在高速旋轉(zhuǎn)中移動(dòng)光罩的旋轉(zhuǎn) 中心位置，而使光罩的幾何中心與旋轉(zhuǎn)中心不在一條直線上，從而使幾何中心處滯留純水 產(chǎn)生一個(gè)離心力矩，在高速旋轉(zhuǎn)過程中，將幾何中心的純水有效甩出中心上述結(jié)構(gòu)改進(jìn)，克服了以前清洗結(jié)構(gòu)不能將光罩幾何中心純水有效甩出的問題， 同時(shí)有效解決氮?dú)舛挝廴九c水痕、水跡產(chǎn)生的問題。

圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1甩干支撐機(jī)構(gòu)截面仰視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合具體實(shí)施例對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。參照圖1所示，該光罩清洗甩干裝置包括甩干支撐機(jī)構(gòu)2及設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu) 2上的浮動(dòng)平臺3，光罩4置于該浮動(dòng)平臺3上，其中所述浮動(dòng)平臺3通過設(shè)置在甩干支撐 機(jī)構(gòu)2上端面的浮動(dòng)支撐滾珠1支撐，浮動(dòng)軸6貫穿于甩干支撐機(jī)構(gòu)2的中心孔并與浮動(dòng) 平臺3底面開設(shè)的凹槽滑動(dòng)連接，浮動(dòng)平臺3的一側(cè)連接有側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)5。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，增加了浮動(dòng)軸6與浮動(dòng)平臺3的有效位移設(shè)計(jì)。將浮 動(dòng)軸6的軸端設(shè)計(jì)為矩形結(jié)構(gòu)，其截面設(shè)計(jì)為正方形，該軸端矩形的高度與浮動(dòng)平臺3底面 凹槽高度相同。并且，將浮動(dòng)平臺3底面凹槽設(shè)計(jì)為矩形槽，該矩形槽的寬度與浮動(dòng)軸6的 軸端正方形邊長相同，該矩形槽長度大于浮動(dòng)軸6軸端正方形邊長；浮動(dòng)軸6的矩形軸端嵌 于浮動(dòng)平臺3底面凹槽中，可沿浮動(dòng)平臺3底面凹槽成徑向滑動(dòng)，見圖2所示。由于浮動(dòng)軸 6的軸端與浮動(dòng)平臺3的底面凹槽之間是滑動(dòng)連接方式，浮動(dòng)平臺3在旋轉(zhuǎn)過程中與浮動(dòng)軸 6之間形成不同心的可傳遞扭矩的滑動(dòng)連接方式，產(chǎn)生徑向位移。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，本實(shí)用新型增加了浮動(dòng)平臺3的浮動(dòng)設(shè)計(jì)。在浮動(dòng)平 臺3側(cè)壁周邊設(shè)置有容納側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)5端頭限位球的滑軌，該限位球與浮動(dòng)平臺3的滑 軌滑動(dòng)連接。浮動(dòng)平臺3在旋轉(zhuǎn)過程中在側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)5的作用下，可以在水平方向做有限移 動(dòng)，同時(shí)做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。作為該結(jié)構(gòu)的進(jìn)一步改進(jìn)，增加了浮動(dòng)平臺3的有效滾動(dòng)位移設(shè)計(jì)。在所述浮動(dòng) 平臺3通過設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)2上端面的浮動(dòng)支撐滾珠1支撐，浮動(dòng)支撐滾珠1有3 6 個(gè)，分別置于甩干支撐機(jī)構(gòu)2上端面所設(shè)凹槽內(nèi)，浮動(dòng)支撐滾珠1的直徑大于凹槽的半徑。在旋轉(zhuǎn)過程中，由于上述結(jié)構(gòu)方式，浮動(dòng)軸6與浮動(dòng)平臺3產(chǎn)生一個(gè)相對位移，改 變光罩旋轉(zhuǎn)中心位置，從而實(shí)現(xiàn)甩干功能。本實(shí)用新型的原理是在甩干裝置運(yùn)行時(shí)，浮動(dòng)軸6高速旋轉(zhuǎn)，通過浮動(dòng)軸6帶動(dòng)浮動(dòng)平臺3高速旋轉(zhuǎn)， 同時(shí)設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)2上端面的浮動(dòng)支撐滾珠1隨浮動(dòng)平臺3 —起旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)過程 中由側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)5施加作用力于浮動(dòng)平臺3上，雙向改變浮動(dòng)平臺3的旋轉(zhuǎn)中心，使光罩 4上每一點(diǎn)都會相對于旋轉(zhuǎn)中心產(chǎn)生一個(gè)水平離心力；而使光罩4在高速旋轉(zhuǎn)過程中，將幾何 中心的純水有效甩出中心。
權(quán)利要求一種光罩清洗甩干裝置，它包括甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)及設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)上的浮動(dòng)平臺(3)，光罩(4)置于該浮動(dòng)平臺(3)上，其特征在于所述浮動(dòng)平臺(3)通過設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)上端面的浮動(dòng)支撐滾珠(1)支撐，浮動(dòng)軸(6)貫穿于甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)的中心孔并與浮動(dòng)平臺(3)底面開設(shè)的凹槽滑動(dòng)連接，浮動(dòng)平臺(3)的一側(cè)連接有側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)(5)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種光罩清洗甩干裝置，其特征在于所述浮動(dòng)軸(6)的軸端 為矩形結(jié)構(gòu)，截面為正方形，該軸端矩形的高度與浮動(dòng)平臺(3)底面凹槽高度相同。
3.如權(quán)利要求1所述的一種光罩清洗甩干裝置，其特征在于所述浮動(dòng)平臺(3)底面 凹槽為矩形槽，該矩形槽寬度與浮動(dòng)軸(6)軸端的正方形邊長相同，浮動(dòng)平臺(3)矩形槽長 度大于浮動(dòng)軸(6)軸端正方形邊長。
4.如權(quán)利要求1所述的一種光罩清洗甩干裝置，其特征在于所述浮動(dòng)平臺(3)側(cè)壁 周邊設(shè)置有容納側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)(5)端頭限位球的滑軌，該限位球與浮動(dòng)平臺(3)的滑軌滑 動(dòng)連接。
5.如權(quán)利要求1所述的一種光罩清洗甩干裝置，其特征在于所述浮動(dòng)支撐滾珠(1) 有3 6個(gè)，分別置于甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)上端面所設(shè)凹槽內(nèi)，浮動(dòng)支撐滾珠(1)的直徑大于 凹槽的半徑。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種光罩清洗甩干裝置，它包括甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)及設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)上的浮動(dòng)平臺(3)，光罩(4)置于該浮動(dòng)平臺(3)上，其特征在于所述浮動(dòng)平臺(3)通過設(shè)置在甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)上端面的浮動(dòng)支撐滾珠(1)支撐，浮動(dòng)軸(6)貫穿于甩干支撐機(jī)構(gòu)(2)的中心孔并與浮動(dòng)平臺(3)底面凹槽滑動(dòng)連接，浮動(dòng)平臺(3)的一側(cè)連接有側(cè)向彈力機(jī)構(gòu)(5)。在旋轉(zhuǎn)過程中，浮動(dòng)軸與浮動(dòng)平臺產(chǎn)生一個(gè)相對位移，改變光罩旋轉(zhuǎn)中心位置，實(shí)現(xiàn)甩干功能。
文檔編號G03F1/82GK201773262SQ201020140660
公開日2011年3月23日 申請日期2010年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月25日
發(fā)明者李憲龍 申請人:彩虹顯示器件股份有限公司