專利名稱：膽甾型液晶顯示元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使用膽留型液晶來顯示圖像的顯示元件及其制造方法以及使用顯示 元件的電子紙張及電子終端設(shè)備
背景技術(shù)：
使用形成膽留相的液晶組成物(以下，稱作“膽留型液晶”)的反射型液晶顯示裝 置(以下，稱作“膽留型液晶顯示元件”)，在無電力供給的狀態(tài)下，具有半永久連續(xù)顯示圖 像的存儲(memory 記憶)顯示功能。因此，膽留型液晶顯示元件只要僅在顯示改寫時驅(qū)動 即可，所以與現(xiàn)有液晶顯示元件相比，能夠?qū)崿F(xiàn)低功耗、薄型、輕量，并且具有鮮艷的彩色顯 示特性，高對比度特性及高分辨率特性。利用這樣的特征，膽留型液晶顯示元件正被用于面 向?qū)嵱玫拈_發(fā)。膽留型液晶顯示元件被適當(dāng)用于電子紙張的顯示部，電子書籍，移動終端設(shè) 備，或IC卡等的便攜設(shè)備等的電子終端設(shè)備的顯示部等。膽留型液晶顯示元件具有密封了膽留型液晶的一對基板。該基板是玻璃基板、樹 脂基板等的透明基板。用設(shè)置在兩基板的電極和該電極間的膽留型液晶構(gòu)成像素。為了以 規(guī)定的間隔(單元間隙cellgap)維持一對基板，在相鄰像素間配置有柱狀間隔物或壁面 結(jié)構(gòu)體等。通過施加液晶驅(qū)動電壓，相對置的電極重疊的像素電極部能夠控制膽留型液晶的 反射率?？墒牵谂渲昧嗽撓袼仉姌O以外的壁面結(jié)構(gòu)體等的相鄰像素間區(qū)域，沒有施加液晶 驅(qū)動電壓的電極，因此難以控制膽留型液晶的反射率。通過在相鄰像素電極間形成壁面結(jié) 構(gòu)體，能夠在維持像素的開口率(Aperture ratio)的狀態(tài)下，對膽留型液晶不受控制的相 鄰像素間進(jìn)行遮蔽。可是，在壁面結(jié)構(gòu)體的部分上必須設(shè)置開口部，該開口部不能遮蔽，這 里，上述開口部用于將液晶注入液晶單元盒內(nèi)。該開口部的膽甾型液晶的定向狀態(tài)成為液晶流動時所表現(xiàn)出來的指向性強(qiáng)的反 射狀態(tài)。即，該區(qū)域的膽留型液晶通常呈現(xiàn)常時平面態(tài)來維持高反射率狀態(tài)。因此，在以低 反射率的焦錐(focalconic)態(tài)進(jìn)行顯示的黑屏顯示時，該開口部成為使顯示對比度低的 主要原因。專利文獻(xiàn)1 JP特開2005-189662號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 JP專利第3581925號

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供能夠提高對比度來獲得良好顯示的顯示元件及其制造方 法以及使用該顯示元件的電子紙張及電子終端設(shè)備。為了達(dá)成上述目的，顯示元件的特征在于，具有一對基板；液晶，其被密封在所 述一對基板之間；第一電極，其形成在所述一對基板的一個基板上；第二電極，其被設(shè)置在 所述一對基板的另一個基板上；像素區(qū)域，其是通過相對配置所述第一電極和所述第二電 極以使兩者交叉而劃定的區(qū)域；壁面結(jié)構(gòu)體，其形成在所述像素區(qū)域外，包圍位于所述一對基板之間的所述像素區(qū)域；開口部，其使所述壁面結(jié)構(gòu)體的一部分開口，以使所述液晶流 通；反射率降低部，其形成在所述開口部，用于降低所述開口部處的所述液晶的反射率。另外，為了達(dá)成上述目的，顯示圖像的電子紙張的特征在于，具有上述本發(fā)明的顯 示元件。另外，為了達(dá)成上述目的，顯示圖像的電子終端設(shè)備的特征在于，具有上述本發(fā)明 的顯示元件。另外，為了達(dá)成上述目的，提供一種顯示元件的制造方法，該制造方法用于在一對 基板之間密封液晶來制造顯示元件，該制造方法的特征在于，在所述一對基板的一個基板 上形成第一電極，在所述一對基板的另一個基板上形成第二電極，相對配置所述第一電極 和所述第二電極以使兩者交叉，從而劃定像素區(qū)域，在所述像素區(qū)域外形成壁面結(jié)構(gòu)體，以 包圍位于所述一對基板之間的所述像素區(qū)域，使所述壁面結(jié)構(gòu)體的一部分開口而形成開口 部，以使所述液晶流通，在所述開口部形成反射率降低部，該反射率降低部用于降低所述開 口部處的所述液晶的反射率。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明能夠提高對比度來獲得良好的顯示。


圖1是示意性示出了本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的結(jié)構(gòu)的分解立體圖。圖2是示出了在基板面法線方向看本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的狀態(tài) 的圖。圖3是沿著圖2的圖中A-A線將本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件截?cái)嗟钠拭?圖。圖4是示出了在基板面法線方向看現(xiàn)有的液晶顯示元件的狀態(tài)的圖。圖5是沿著圖4的圖中A-A線將現(xiàn)有的液晶顯示元件截?cái)嗟钠拭鎴D。圖6是說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的圖，是示出了單元間隙和膽甾 型液晶的反射率之間的關(guān)系的曲線。圖7是示意性示出了本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的制造工序的剖面圖 (其一)。圖8是示意性示出了本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的制造工序的剖面圖 (其二)。圖9是示出了用于形成本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的壁面結(jié)構(gòu)體的光 掩模的主要部分的圖。圖10是本發(fā)明的一實(shí)施方式的第一變形例的液晶顯示元件的開口部的剖面圖。圖11是示出了用于形成本發(fā)明的一實(shí)施方式的第一變形例的液晶顯示元件的壁 面結(jié)構(gòu)體的光掩模的主要部分的圖。圖12是本發(fā)明的一實(shí)施方式的第二變形例的液晶顯示元件的開口部的剖面圖。圖13示出了用于形成本發(fā)明的一實(shí)施方式的第二變形例的液晶顯示元件的壁面 結(jié)構(gòu)體的光掩模的主要部分的圖。圖14是示出了在基板面法線方向看本發(fā)明的一實(shí)施方式的第三變形例的液晶顯
5示元件的狀態(tài)的圖。圖15是示意性示出了將本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件多個層疊的能夠全 色顯示的液晶顯示元件的剖面結(jié)構(gòu)的圖。圖16是示出了具有本發(fā)明的一實(shí)施方式的液晶顯示元件的電子紙張的具體例的 圖。其中，附圖標(biāo)記說明如下1液晶顯示元件Ib藍(lán)色(B)用液晶顯示元件Ig綠色(G)用液晶顯示元件Ir紅色(R)用液晶顯示元件3 液晶3bB用液晶層3gG用液晶層3rR用液晶層7、7b、7g、7r 上基板9、9b、9g、9r 下基板15可見光吸收層21密封構(gòu)件34反射率降低部34a平坦部36 開口部37壁面結(jié)構(gòu)體38 注入口41b、41g、41r 脈沖電壓源43光掩模43h半透過膜43s遮光膜43t透過區(qū)域46突起部48凹凸部D數(shù)據(jù)電極P像素區(qū)域S掃描電極
具體實(shí)施例方式用圖1 圖16來說明本發(fā)明的一實(shí)施方式的顯示元件及其制造方法以及使用 顯示元件的電子紙張及電子終端設(shè)備。首先，用圖1 圖6來說明本實(shí)施方式的顯示元 件。圖1是示意性示出了本實(shí)施方式的液晶顯示元件1的結(jié)構(gòu)的分解立體圖。液晶顯示 元件1具有以規(guī)定的單元間隙相對配置的上基板7及下基板9( 一對基板)。為了容易理解，在圖1中示出了將上基板7相對于下基板9在斜上方錯開的狀態(tài)。上下基板7、9例如 使用聚碳酸酯(PC polycarbonate 聚碳酸酯)、聚對苯二甲酸乙二醇脂(PET :polyethyl eneterephthalate)等的薄膜基板(塑料基板)或玻璃基板。在上下基板7、9間密封著帶 有記憶性的膽留型液晶3。在上基板7的與液晶3之間的交界面一側(cè)形成有互相平行延伸為帶狀(條紋狀) 的多個數(shù)據(jù)電極Dj (j為自然數(shù)，在圖1中，j = 1，2)。數(shù)據(jù)電極Dj與未圖示的數(shù)據(jù)電極驅(qū) 動電路相連接。在下基板9的與液晶3之間的交界面一側(cè)形成有互相平行地延伸為帶狀的多個掃 描電極Si (i為自然數(shù)，在圖1中，i = 1，2，3)。掃描電極Si與未圖示的掃描電極驅(qū)動電路 相連接。從基板7、9表面的法線方向看，掃描電極Si和數(shù)據(jù)電極Dj大致垂直互相交叉。交 叉區(qū)域成為像素區(qū)域P (i，j)。在圖1中，舉例說明6個像素區(qū)域P (1，1) P (3，2)被配置 成3行2列的矩陣狀的情況。像素區(qū)域P(i，j)由未圖示的數(shù)據(jù)電極驅(qū)動電路及掃描電極 驅(qū)動電路以所謂的無源驅(qū)動方式驅(qū)動。在像素區(qū)域P的周圍，配置有壁面結(jié)構(gòu)體37以包圍像素區(qū)域P。壁面結(jié)構(gòu)體37形 成在像素區(qū)域P的外側(cè)。從基板面法線方向看，像素區(qū)域P呈由4邊構(gòu)成的四角形形狀。因 此，在同方向看到的壁面結(jié)構(gòu)體37相對于各像素區(qū)域P呈四邊形的框狀。另外，如果作為 基板面整體來看，壁面結(jié)構(gòu)體37呈在四角形框內(nèi)縱橫交叉的格子狀。在框狀的壁面結(jié)構(gòu)體37的規(guī)定的邊上，設(shè)置有開口部36，上述開口部36用于使 該邊的部分開口以便液晶3流通。開口部36是周期性有規(guī)則的配置的。在壁面結(jié)構(gòu)體37 設(shè)置有反射率降低部34，上述反射率降低部34形成在開口部36處，用于降低存在于開口部 36處的液晶3的反射率。后面將詳細(xì)說明，從反射率降低部34的平坦部34a到上基板7的 長度(以下，稱作“間隙”)比像素區(qū)域P處的單元間隙短，所以反射率降低部34能夠降低 開口部36處的反射率。因此，能夠提高液晶顯示元件1的對比度。壁面結(jié)構(gòu)體37由具有粘結(jié)性的構(gòu)件形成。除了開口部36之外，壁面結(jié)構(gòu)體37與 一對基板7、9雙方都粘結(jié)。如后所述，壁面結(jié)構(gòu)體37是利用例如光刻法使用光致抗蝕劑在 一側(cè)的基板上刻畫圖形而形成的。另外，反射率降低部34與壁面結(jié)構(gòu)體37形成為一體。在包圍壁面結(jié)構(gòu)體37整體的外圍配置有密封構(gòu)件21。密封構(gòu)件21是用由熱固化 型或UV固化型的粘結(jié)劑在印刷工序中形成的。密封構(gòu)件21配置在上下基板7、9間的外圍 部，包圍多個像素區(qū)域P及壁面結(jié)構(gòu)體37。另外，為了得到規(guī)定的單元間隙，可以與壁面結(jié) 構(gòu)體37并用現(xiàn)有的球狀間隔物或柱狀間隔物。使上下基板7、9的一端邊的密封構(gòu)件21開口，從而配置液晶液注入時的液晶注入 口 38。省略圖示，但液晶注入后的液晶注入口 38用密封構(gòu)件密封。全像素區(qū)域P經(jīng)由各開 口部36來與注入口 38連接。用密封構(gòu)件21及密封劑密封著的液晶3填充在用密封構(gòu)件 21包圍的內(nèi)部的整個空間內(nèi)。圖2是示出了在基板面法線方向看液晶顯示元件的狀態(tài)的圖。圖3是沿著圖2的 圖中A-A線截?cái)嗟钠拭鎴D。在圖1中，為了圖示方便而以6個像素區(qū)域P為例，但是通常有 更多數(shù)目的像素區(qū)域P被排列成矩陣。在圖2中示出了排列多個像素區(qū)域P的部分區(qū)域。 使用圖1、圖2及圖3更詳細(xì)的說明像素區(qū)域P、壁面結(jié)構(gòu)體37及開口部36的形狀構(gòu)造等。
具體地，用圖2的像素區(qū)域P(i，j)來說明。從基板面法線方向看，像素區(qū)域P(i， j)具有掃描電極Si與數(shù)據(jù)電極Dj重疊形成的4邊形狀。在本實(shí)施方式中，像素區(qū)域P(i， j)例如具有正方形形狀。就像素區(qū)域P(i，j)來看，壁面結(jié)構(gòu)體37具有沿著像素形狀的四 邊中的各邊的四角形框狀結(jié)構(gòu)。所形成的壁面結(jié)構(gòu)體37的寬度與在上基板7上相鄰的數(shù) 據(jù)電極D-D之間的寬度相同或者比其窄，并且與在下基板9上相鄰的掃描電極S-S間的寬 度相同或者比其窄。因此，壁面結(jié)構(gòu)體37配置成與像素區(qū)域P(i，j)不重疊。使框狀的壁面結(jié)構(gòu)體37的部分開口形成的開口部36，發(fā)揮液晶流通口的功能，上 述液晶流通口用于在板制造工序中的注入液晶液時使液晶填充到全像素區(qū)域P。開口部36 分別形成于壁面結(jié)構(gòu)體37的相對置的各邊上。開口部36形成于對向邊的大致中央位置。如圖3所示，形成在開口部36上的反射率降低部34具有高度為tr的壁面形狀， 上述高度tr比壁面結(jié)構(gòu)體37的高度tw低。反射率降低部34具有在與上基板7的對向面 上形成的平坦部34a。反射率降低部34的高度tr比壁面結(jié)構(gòu)體37的高度tw低。因此，即 使兩基板7、9粘在一起，也能維持液晶3能夠在開口部36流通的開口。另外，是在包圍與像素區(qū)域P (i,j)同一列的其他的像素區(qū)域P (i-l,j)、P (i+1，j) 及P(i+2，j)的各壁面結(jié)構(gòu)體37上，都以同樣的結(jié)構(gòu)在相同的位置形成開口部36。因此， 就同一第j列來看，開口部36在壁面結(jié)構(gòu)體37的延長線上連續(xù)排列成一列。在第j+Ι列 等該構(gòu)成也相同。下面，用圖3 圖6來說明本實(shí)施方式的液晶顯示元件1的效果。圖4是示出了 在基板面法線方向看現(xiàn)有的液晶顯示元件100的狀態(tài)的圖。圖5是沿著圖4的圖中A-A線 截?cái)嗟钠拭鎴D。在圖4及圖5中，與本實(shí)施方式的液晶顯示元件1相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注了相同 的符號，故省略其說明。如圖4所示，如果關(guān)注相鄰的4個像素區(qū)域？(1，」)？(1，」+1)、？(1+1，」)及P(i+1， j+1)，現(xiàn)有的液晶顯示元件100的壁面結(jié)構(gòu)體137具有十字形狀。壁面結(jié)構(gòu)體137分別配 置在相鄰的4個像素區(qū)域P間。因此，就像素區(qū)域P(i，j)來看，壁面結(jié)構(gòu)體137被沿著像 素形狀的各角部而配置。所形成的壁面結(jié)構(gòu)體137的寬度與在上基板7上相鄰的數(shù)據(jù)電極 D-D間的寬度相同或者比其窄，并且與在下基板9上相鄰的掃描電極S-S間的寬度相同或者 比其窄。因此，壁面結(jié)構(gòu)體137被配置成與像素區(qū)域P(i，j)不重疊。所形成的沿著像素區(qū)域P(i，j)各邊而延伸的壁面結(jié)構(gòu)體137的長度比像素區(qū)域 P(i，j)的一邊的長度短。因此，在像素區(qū)域P(i，j)的各邊的大致中央處，配置有沒有形成 壁面結(jié)構(gòu)體137的開口部136。開口部136發(fā)揮液晶流通口的功能，上述液晶流通口用與在 板制造工序中注入液晶液時使液晶填充到全像素區(qū)域P。在注入液晶液時，液晶3通過開口部136流通到相鄰像素。因此，如圖5所示，如 果液晶液注入結(jié)束，則液晶3除了填充全像素區(qū)域P之外，也被填充在開口部136內(nèi)。液晶 顯示元件100的開口部136處的單元間隙與壁面結(jié)構(gòu)體137的高度tw大致相等。如圖3所示，本實(shí)施方式的液晶顯示元件1也與現(xiàn)有的液晶顯示元件100同樣地， 如果液晶液注入結(jié)束，則液晶3也會填充在開口部36內(nèi)。可是，由于液晶顯示元件1在開 口部36處具有反射率降低部34，因此開口部36處的間隙比壁面結(jié)構(gòu)體37的高度tw小。密封在像素區(qū)域P的液晶3，基于施加在掃描電極S上的電位與施加在數(shù)據(jù)電極 D上的電位的電位差，變成平面狀態(tài)及焦錐(Focal Conic)狀態(tài)中的任一狀態(tài)，其中，上述平面狀態(tài)是指反射規(guī)定顏色的光的狀態(tài)，上述焦錐狀態(tài)是指使光透過的狀態(tài)?？墒牵_口部 36、136配置在像素區(qū)域P外而沒有形成兩電極S、D。因此，密封在開口部36、136內(nèi)的液晶 3不會被施加電壓。液晶3流動的狀態(tài)成為通常的反射率高的平面狀態(tài)。因此，即使將全像 素區(qū)域P的液晶3作為焦錐(FocalConic)狀態(tài)來使液晶顯示元件1、100進(jìn)行黑屏顯示，開 口部36、136的液晶3也會因?yàn)樘幱谄矫鏍顟B(tài)而反射光。因此，液晶顯示元件1、100的對比 度低。眾所周知，膽甾型液晶的反射率取決于單元間隙。圖6是示出了單元間隙和膽甾 型液晶的反射率之間的關(guān)系的曲線。橫軸表示單元間隙(μ m)，縱軸表示反射率(％)。圖 中基于“ ”標(biāo)記的曲線示出了紅色(R)光的反射率特性，基于“■”標(biāo)記的曲線示出了綠 色(G)光的反射率特性，基于“▲”標(biāo)記的曲線示出了藍(lán)色⑶光的反射率特性。如圖6所示，R(紅)光、G(綠)光及B(藍(lán))光的任一個的反射率都隨著單元間隙 的增大而變高，如果超過規(guī)定的單元間隙則反射率大致恒定。R(紅)光及G(綠)光的反 射率在單元間隙約大于8. Ομπι時固定在約43%處，B(藍(lán))光的反射率在單元間隙約大于 6. Oym時固定在約46%處。因反射率降低部34，使得本實(shí)施方式的液晶顯示元件1的開口部36處的間隙呈現(xiàn) 比現(xiàn)有液晶顯示元件100的開口部136處的單元間隙窄。因此，開口部36處的反射率比開 口部136處的反射率低。因此，與現(xiàn)有的液晶顯示元件相比，液晶顯示元件1由于在黑屏顯 示時反射率低而能夠?qū)崿F(xiàn)對比度的提高。下面，用圖7 圖9說明本實(shí)施方式的顯示元件的制造方法。圖7及圖8是示意 性示出了本實(shí)施方式的液晶顯示元件1的制造工序的剖面圖。圖9是示出了用于形成壁面 結(jié)構(gòu)體37的光掩模43的主要部分的圖。首先，如圖7的(a)所示，例如使用蒸鍍法在聚碳酸酯制的下基板9的整個表面上 形成透明導(dǎo)電膜19a。作為透明導(dǎo)電膜19a的形成材料例如可用IZO(銦鋅氧化物)。接著， 如圖7的(b)所示，在透明導(dǎo)電膜19a的整個表面上涂布光致抗蝕劑來形成光致抗蝕劑層 41a。接著，如圖7的(c)所示，用描畫了掃描電極S的圖案的掩模(未圖示)來刻畫光致 抗蝕劑層41a，以此來形成光致抗蝕劑圖案41。下面，如圖7的(d)所示，將光致抗蝕劑圖案41作為掩模，對透明導(dǎo)電膜19a進(jìn)行 曝光并蝕刻。由此，在光致抗蝕劑圖案41間露出的透明導(dǎo)電膜19a被去除，而僅光致抗蝕 劑圖案41下層的透明導(dǎo)電膜19a殘存在下基板9上。接著，如圖7的(e)所示，剝離光致 抗蝕劑圖案41。由此，在下基板9上形成掃描電極S。下面，如圖7的(f)所示，在下基板9的整個表面上涂布負(fù)性光致抗蝕劑來形成光 致抗蝕劑層37a。接著，根據(jù)需要來對光致抗蝕劑層37a進(jìn)行預(yù)烤(pre-bake)處理。接著， 如圖8的(a)所示，使用描畫了壁面結(jié)構(gòu)體的圖案的光掩模43來曝光光致抗蝕劑層37a。這里，使用圖9說明光掩模43。圖9的(a)是示出了光掩模43的主要部分的平面 圖。圖9的(b)是圖9的(a)的圖中α區(qū)域的放大圖。如圖9的(a)所示，用于形成壁面 結(jié)構(gòu)體37(參照圖2)的光掩模43例如在基板上具有半透過膜43h，其使紫外部光線等入 射進(jìn)來的光的強(qiáng)度衰減后透過；遮光膜43s，遮擋入射的光。光掩模43具有透過區(qū)域43t， 該透過區(qū)域43t既沒有形成半透過膜43h也沒有形成遮光膜43s，從而使光以規(guī)定的光透過 率透過。半透過膜43h及遮光膜43s被刻畫在基板上，使得遮光膜43s被配置于與像素區(qū)域P(參照圖2)相對應(yīng)的區(qū)域，透過區(qū)域43t被配置于與壁面結(jié)構(gòu)體37相對應(yīng)的區(qū)域，半 透過膜43h被配置于與反射率降低部34 (參照圖2)相對應(yīng)的區(qū)域。如圖9的(b)所示，半透過膜43h形成為格子狀以便使入射的光的大約56%的強(qiáng) 度透過。所形成的半透過膜43h的開口部的密度分布大致一致。光掩模43具有透過區(qū)域 43t和灰階掩模，其中，上述透過區(qū)域43t是指光致抗蝕劑層37a的分辨率以上的光透過寬 度的區(qū)域，上述灰階掩模是光致抗蝕劑37a的分辨率以下的半透過膜43h。能夠利用半透過 膜43h的開口率來調(diào)整反射率降低部34的高度tr。開口率越大光的透過量越大。因此，在 使用負(fù)性光致抗蝕劑時，半透過膜43h的開口率越大則反射率降低部34的高度tr越高，該 開口率越小則反射率降低部34的高度tr越低。返回圖8的(a)，如果使用光掩模43曝光光致抗蝕劑層37a，則與光掩模43的透 過區(qū)域43t相對應(yīng)的區(qū)域的光致抗蝕劑層37a被以必要曝光量以上的曝光量曝光，從而大 致完全感光，與之相對，與半透過膜43h相對應(yīng)的區(qū)域的光致抗蝕劑層37a被以小于必要曝 光量的曝光量曝光，從而實(shí)現(xiàn)不完全感光。另外，與遮光膜43s相對應(yīng)的區(qū)域的光致抗蝕劑 層37a幾乎不感光。因此，如果對曝光后的光致抗蝕劑層37a進(jìn)行顯像，則如圖8的(b)所 示，與遮光膜43s相對應(yīng)的區(qū)域的光致抗蝕劑層37a被完全去除，而與透過區(qū)域43t相對應(yīng) 的區(qū)域的光致抗蝕劑層37a殘留，并且得到特定的光致抗蝕劑圖案，上述特定的光致抗蝕 劑圖案的與半透過膜43h相對應(yīng)的區(qū)域的厚度比與透過區(qū)域43t相對應(yīng)的區(qū)域的厚度薄。 由此，形成開口部36處具有反射率降低部34的壁面結(jié)構(gòu)體37。通過使用光掩模43，使反射率降低部34與壁面結(jié)構(gòu)體37 —體連續(xù)性地同時形成。 由于所形成的光掩模43的半透過膜43h的開口部的密度分布大致一致，所以反射率降低部 34的上表面形成大致平坦形狀。下面，省略了圖示，但通過與圖7的(a) (e)同樣的制造方法，在上基板7上形 成數(shù)據(jù)電極D。接著，在上基板7的整個表面上形成絕緣膜18以覆蓋數(shù)據(jù)電極D (參照圖8 的(c))。接著，例如在下基板9上的基板的周圍涂布密封構(gòu)件21 (參照圖1)。在密封構(gòu)件 21上，在下基板9的一端邊的一部分設(shè)置液晶注入用的注入口 38(參照圖1)。接著，例如 在下基板9上散布間隔物。下面，如圖8的(c)所示，為了能無源(passive)驅(qū)動，以使掃描電極S和數(shù)據(jù)電 極D交叉且相對置的方式將兩基板7、9粘在一起。接著，加壓加熱使將密封構(gòu)件21及壁面 結(jié)構(gòu)體37固化，再將兩基板7、9粘結(jié)。由此，形成空單元。下面，將空單元的內(nèi)部及外圍置為真空狀態(tài)，使設(shè)置有注入口 38的空單元端部浸 漬在膽留型液晶中，然后使該外圍空氣開放來向空單元內(nèi)注入液晶，之后，用密封劑(密封 構(gòu)件)密封注入口 38。由此，制成液晶顯示板。之后，將掃描電極驅(qū)動電路及數(shù)據(jù)電極驅(qū)動 電路等的驅(qū)動電路連接在液晶顯示板上，則制成液晶顯示元件1。下面，參照實(shí)施例及比較例進(jìn)一步具體地說明液晶顯示元件1。(第一實(shí)施例)本實(shí)施例的液晶顯示板用上述的制造方法制造而成，所以省略制造工序的說明。 上下基板7、9使用厚度為IOOym的聚碳酸酯制基板。，在蒸鍍由IZO構(gòu)成的透明導(dǎo)電膜之 后，通過在基板表面上刻畫規(guī)定形狀而形成掃描電極S及數(shù)據(jù)電極D。使用正性光致抗蝕劑 而在下基板9上形成壁面結(jié)構(gòu)體37。壁面結(jié)構(gòu)體37的形狀如圖2所示，形成包圍像素區(qū)域P的格子狀。像素區(qū)域P的各邊的大致中央處設(shè)置有開口部36。開口部36上形成有反射率降 低部34，上述反射率降低部34的高度低于壁面結(jié)構(gòu)體37的平均高度。因?yàn)榉瓷渎式档筒?34的高度比壁面結(jié)構(gòu)體37的平均高度低，所以即使將上下基板7、9粘在一起，平坦部34a 也不接觸上基板7，其中，上述平坦部34a是反射率降低部34的最上表面。用于形成壁面結(jié)構(gòu)體37的光掩模，是將如圖9的(a)及圖9的(b)所示的光掩模 43的遮光膜及透過區(qū)域的形成位置對調(diào)而成的。即，所使用的光掩模用于，在配置壁面結(jié)構(gòu) 體37的區(qū)域形成遮光膜，使配置像素區(qū)域P的區(qū)域成為透過區(qū)域。另外，為了形成具有反 射率降低部34的壁面結(jié)構(gòu)體37，該光掩模在與反射率降低部34的形成位置相對應(yīng)的區(qū)域 具有遮光部分，其中，上述遮光部分是指，具有規(guī)定的開口率(例如56% )的半透過膜。開口部36形成在像素區(qū)域P的各邊。相對于像素間距220 μ m，將開口部36的開 口寬度設(shè)計(jì)為14ym。所謂的開口寬度，是指沿著與開口部36相鄰的像素區(qū)域P的一邊的 方向的開口部36的長度。壁面結(jié)構(gòu)體37形成為如下規(guī)格壁面寬度為15 μ m，高度tw(參 照圖3)為4. 2 μ m，反射率降低部34的高度tr為3. 5 μ m。在上基板7上形成有絕緣膜18。 為了維持規(guī)定的單元間隙，在上下基板7、9上散布有二乙烯基苯(divinylbenzene)制的塑 料間隔物。上下基板7、9間密封有調(diào)制為反射綠色光的膽留型液晶。設(shè)定反射率測定裝置使得液晶顯示板上的光的入射角度為30°，且在液晶顯示板 的正面接受反射光，并對液晶剛注入之后的液晶顯示板的反射率進(jìn)行了評價(jià)。在上下基板 7、9間施加規(guī)定的電壓，測定液晶顯示板的反射率為平面狀態(tài)或焦錐狀態(tài)。在平面狀態(tài)下的 反射率為25%，在焦錐狀態(tài)下的反射率為1. 1%。因此，本實(shí)施例的液晶顯示板的對比度為 22.7( = 25% /1. 1% )0另外，在平面狀態(tài)及焦錐狀態(tài)的任一狀態(tài)反射波長均為535nm。(第一比較例)本比較例的液晶顯示板具有同圖4及圖5所示的液晶顯示元件100所具有的液晶 顯示板同樣的構(gòu)造。本比較例的液晶顯示板與上述第一實(shí)施例使用同樣的材料，且使用同 樣的制造方法制造而成。在本變形例中，為了在壁面結(jié)構(gòu)體形成時開口部處不殘存光致抗 蝕劑，使用在與開口部相對應(yīng)的區(qū)域形成透過區(qū)域的光掩模。用與上述第一實(shí)施例同樣的方法估計(jì)本比較例的液晶顯示板的反射率。將標(biāo)準(zhǔn)白 色板的反射率作為參考(100% )，則在平面狀態(tài)下的反射率為25%，在焦錐狀態(tài)下的反射 率為1.9%。因此，本比較例的液晶顯示板的對比度為13. 2( = 25%/1.9%)。這樣，相對 于本比較例的液晶顯示板，上述第一實(shí)施例的液晶顯示板提高了對比度。(第二實(shí)施例)本實(shí)施例的液晶顯示板除了用負(fù)性光致抗蝕劑來形成壁面結(jié)構(gòu)體37這一點(diǎn)之 外，其它方面與上述第一實(shí)施例相同。由于本實(shí)施例和上述第一實(shí)施例中使反射率降低部 34的高度相同，所以光致抗蝕劑的半透過膜的開口率形成為44%。用與上述第一實(shí)施例同樣的方法估計(jì)本實(shí)施例的液晶顯示板的反射率。在平面狀 態(tài)下的反射率為30%，在焦錐狀態(tài)下的反射率為2. 1%。因此，本實(shí)施例的液晶顯示板的對 比度為 14. 2( = 30% /2. 1% )0(第二比較例)本比較例的液晶顯示板除了用負(fù)性光致抗蝕劑來形成壁面結(jié)構(gòu)體37這一點(diǎn)之
11外，其它方面與上述第一比較例具有同樣的結(jié)構(gòu)。在本比較例中，為了在壁面結(jié)構(gòu)體形成時 開口部處不殘存光致抗蝕劑，使用在與開口部相對應(yīng)的區(qū)域形成遮光膜的光掩模。用與上述第一實(shí)施例同樣的方法估計(jì)本比較例的液晶顯示板的反射率。以標(biāo)準(zhǔn)白 色板的反射率作為參考(100% )，在平面狀態(tài)下的反射率為30%，在焦錐狀態(tài)下的反射率 為2. 8%。因此，本比較例的液晶顯示板的對比度為10. 7( = 30% /2. 8% )。這樣，相對于 本比較例的液晶顯示板，上述第二實(shí)施例的液晶顯示板提高了對比度。如以上的說明，根據(jù)本實(shí)施方式的顯示元件，液晶顯示元件1具有特定的壁面結(jié) 構(gòu)體37，該特定的壁面結(jié)構(gòu)體是指，像素區(qū)域P的周邊部分連續(xù)形成為格子狀的壁面結(jié)構(gòu) 體。為了保持液晶顯示元件1的單元間隙，壁面結(jié)構(gòu)體37的一部分被粘結(jié)在上下基板7、9 上。另外，壁面結(jié)構(gòu)體37具有開口部36，該開口部36處于上述粘結(jié)上下基板7、9上的部分 以外的部分，用于使液晶3流通。開口部36具有反射率降低部34。所形成的反射率降低部 34的高度比壁面結(jié)構(gòu)體37的粘結(jié)在上下基板7、9上的部分的高度低，從而與上下基板7、9 的任意一方都不接觸。液晶顯示元件11在確保液晶3的流動通道同時，使開口部36處的 間隙比像素區(qū)域P處單元間隙變小。液晶顯示元件1能夠降低開口部36處的反射率來提 高對比度。因此，液晶顯示元件1能夠獲得良好的顯示。另外，根據(jù)本實(shí)施方式的顯示元件的制造方法，由于能夠7同時一體的形成具有 反射率降低部34的開口部36與壁面結(jié)構(gòu)體3，所以能夠用與現(xiàn)有的液晶顯示元件100相同 的制造工序及工數(shù)來制造出液晶顯示元件1。下面，使用圖10及圖11來說明本實(shí)施方式的第一變形例的顯示元件及其制造方 法。本變形例的液晶顯示元件1除了反射率降低部34的構(gòu)造之外，其它部分具有與圖2及 圖3所示的液晶顯示元件1相同的構(gòu)造。圖10是本變形例的液晶顯示元件1的開口部附 近的剖面圖。如圖10所示，在本變形例的液晶顯示元件1中，開口部36所具有的反射率降 低部34具有從下基板9突出形成的多個的突起部46。突起部46形成為與壁面結(jié)構(gòu)體37 的平均高度大致相同的高度。突起部46與上基板9接觸。另外，突起部46也可以形成為 比壁面結(jié)構(gòu)體37的平均高度低，而不與上基板9相接觸。多個的突起部46以規(guī)定的間隔配置。因此，相鄰?fù)黄鸩?6的間隙發(fā)揮液晶3的 流動通道的功能。因此，本變形例的液晶顯示元件1即使在開口部36處具有突起也能夠確 保液晶3的流通。另外，突起部46具有破壞液晶分子的定向狀態(tài)的效果，即擾亂液晶分子的螺旋構(gòu) 造的效果。因此，開口部36所填充的膽留型液晶呈垂直狀態(tài)，使入射光透過。由此，開口部 36處的反射率降低。因此，能夠提高液晶顯示元件1的對比度，且能夠得到與圖2及圖3所 示的液晶顯示元件1相同的效果。下面，用圖11說明本變形例的顯示元件的制造方法。本變形例的顯示元件的制造 方法除了用于形成壁面結(jié)構(gòu)體37的光掩模的構(gòu)造之外，其它部分與圖7的(a) 圖8(c) 相同。圖11是放大示出了用于制造本變形例的液晶顯示元件1光掩模43的半透過膜43h 的平面圖。如圖11所示，為了使入射的光的大約56%的強(qiáng)度透過，光掩模43具有形成為格 子狀的半透過膜43h。半透過膜43h與反射率降低部34的形成位置相對應(yīng)而形成。半透過膜43h的透過率與如圖9的(b)所示的半透過膜43h的透過率下相同，但 開口部的密度分布變大。因此，光掩模43能夠?qū)⑴c半透過膜43h對應(yīng)的光致抗蝕劑層的局部以必要曝光量以上的曝光量曝光。由此，用必要曝光量以上的曝光量曝光了的光致抗蝕 劑層殘存在開口部36，從而成為突起部46。通過使用半透過膜43h的開口率空間性變化的圖案，能夠使用與圖2所示的液晶 顯示元件1相同的制造方法制造本變形例的液晶顯示元件1。下面，使用圖12及圖13來說明本實(shí)施方式的第二變形例的顯示元件及其制造方 法。本變形例的液晶顯示元件1除了反射率降低部34的結(jié)構(gòu)之外，其它部分具有與圖2及 圖3所示的液晶顯示元件1相同的結(jié)構(gòu)。圖12是本變形例的液晶顯示元件1的開口部36 附近的剖面圖。如圖12所示，在本變形例的液晶顯示元件1中，開口部36所具有的反射率 降低部34，具有在與上基板7相對的面形成凹凸部48的壁面形狀。所形成的凹凸部48的 凹部的高度比壁面結(jié)構(gòu)體37的平均高度低。另外，凹凸部48的凸部形成為與壁面結(jié)構(gòu)體 37的平均高度大致相同的高度，與上基板7相接觸。另外，凹凸部48的凸部也可以形成為 比壁面結(jié)構(gòu)體37的平均高度低，與上基板7并不接觸。凹凸部48的凹部比壁面結(jié)構(gòu)體37的高度低。因此，上基板7和反射率降低部34 之間的間隙發(fā)揮液晶3的流動通道的功能。由此，本變形例的液晶顯示元件1即使在反射 率降低部34上具有凹凸部48，也能夠確保液晶的流通。另外，凹凸部48具有破壞與上述變形例1的突起部46相同的液晶分子的定向狀 態(tài)的效果，即擾亂液晶分子的螺旋構(gòu)造的效果。因此，存在于開口部36的膽留型液晶呈垂 直狀態(tài)，使入射光透過。由此，開口部36處的反射率降低。進(jìn)而，通過反射率降低部34，使 開口部36處的間隙變得比像素區(qū)域P的單元間隙小。因此，本變形例的液晶顯示元件1利 用與圖2所示的液晶顯示元件1相同的效果來降低開口部36處的反射率。因此能夠提高 對比度，本變形例的液晶顯示元件1能夠得到與圖2所示的液晶顯示元件1相同的效果。下面，用圖13說明本變形例的顯示元件的制造方法。除了用于形成壁面結(jié)構(gòu)體37 的光掩模的結(jié)構(gòu)之外，本變形例的顯示元件的制造方法與圖7的(a) 圖8(c)相同。圖13 是放大示出了用于制造本變形例的液晶顯示元件1的光掩模43的半透過膜43h的平面圖。 如圖13所示，為了使入射的光的大約56%的強(qiáng)度透過，光掩模43具有形成為格子狀的半透 過膜43h。半透過膜43h是與反射率降低部34的形成位置相對應(yīng)而形成的。半透過膜43h的透過率與圖13所示的半透過膜43h的透過率大致相同?？墒?，半 透過膜43h的開口部的密度分布比圖13所示的半透過膜43h的開口部的密度分布小。本 變形例中的光掩模43像圖13所示的光掩模43那樣，并不開口到以必要曝光量以上的曝光 量對光致抗蝕劑層進(jìn)行曝光的程度?？墒?，由于本變形例的光掩模43在開口部具有密度分 布，因此雖然不能實(shí)現(xiàn)必要以上的曝光，但能夠使曝光量局部加大。由此，在壁面結(jié)構(gòu)體37 的開口部形成有具有凹凸部48的反射率降低部34。通過使用半透過膜43h的開口率空間性變化的圖案，能夠用與圖2所示的液晶顯 示元件1相同的制造方法制造本變形例的液晶顯示元件1。下面，用圖14說明本實(shí)施方式的第三變形例的顯示元件。本變形例的液晶顯示元 件1除了開口部36的形成位置不同這點(diǎn)之外，其它部分具有與如圖2所示的液晶顯示元件 1相同的結(jié)構(gòu)。圖14示出了在基板面法線方向看本變形例的液晶顯示元件1的狀態(tài)。如 圖14所示，就像素區(qū)域P(i，j)來看，本變形例的液晶顯示元件1的開口部36形成于與掃 描電極Si大致平行延伸的壁面結(jié)構(gòu)體37的相對的邊的一端。
另外，關(guān)于包圍像素區(qū)域P(i，j)、同一列的其他的像素區(qū)域P(i_l，j)、P(i+l，j)、 P(i+2，j)的各壁面結(jié)構(gòu)體37以同樣的構(gòu)成在同樣的位置形成有開口部36。因此，就同一 第j列來看，開口部36在壁面結(jié)構(gòu)體37的延長線上連續(xù)排列成一列。即使在相鄰的第j+1 列等，這種構(gòu)成也相同。在本變形例中，開口部36處所形成的反射率降低部34形成有與圖2及圖3所示 的反射率降低部34相同的壁形狀。另外，反射率降低部34在與上基板7相對的面上具有 平坦形狀的平坦部34a。反射率降低部34的形狀并不僅限于圖14所示的形狀，當(dāng)然也可以 是圖10或圖12所示的形狀。在像素區(qū)域P的側(cè)面，利用壁面結(jié)構(gòu)體37的包圍來堵塞除了開口部36之外的部 分。可是，像素區(qū)域P內(nèi)的液晶能夠通過開口部36移動到像素區(qū)域P外。因此，本變形例 的液晶顯示元件1能夠確保液晶3的流動。另外，由于液晶顯示元件1在開口部36處具有 反射率降低部34，利用與圖2所示的液晶顯示元件1同樣的效果來降低開口部36處的反射 率。由此，提高對比度，本變形例的液晶顯示元件1能夠得到與圖2所示的液晶顯示元件1 相同的效果。本變形例的顯示元件的制造方法僅僅改變半透過膜43h的形成位置，能夠通過與 圖2所示的液晶顯示元件1同樣的制造方法來制造。(實(shí)施例)下面，說明本變形例的液晶顯示元件1的實(shí)施例。制造了如圖14所示結(jié)構(gòu)的形成 有開口部36及壁面結(jié)構(gòu)體37的液晶顯示元件。本實(shí)施例的液晶顯示元件1中除了用于形 成壁面結(jié)構(gòu)體37的光掩模的掩模圖案之外，其它部分均可用與圖7的(a) 圖8(c)所示的 制造方法來制造。上下基板7、9用板厚為100 μ m的聚碳酸酯制基板。上下基板7、9表面 的掃描電極Si及數(shù)據(jù)電極Dj是通過蒸鍍由IZO構(gòu)成的透明導(dǎo)電膜而形成的。另一方面， 例如在下基板9上，將2枚基板7、9粘在一起時，通過負(fù)性光致抗蝕劑來形成用于粘結(jié)并固 定基板7、9之間的壁面結(jié)構(gòu)體37。壁面結(jié)構(gòu)體37具有在注入口朝向鉛直上方時在鉛直方 向無縫隙連續(xù)的圖案和在水平方向形成開口部36形成的圖案。除去開口部36而觀察的情況下，壁面結(jié)構(gòu)體37具有連續(xù)的“ 二 ”字形。壁面結(jié)構(gòu) 體37具有連續(xù)壁面，其在與數(shù)據(jù)電極Dj的延伸方向大致平行的方向延伸；開口部36，其位 于與“ 二 ”字的前端之間、例如是與上基板7不接觸的非粘結(jié)的壁面上。在開口部36處形成 有反射率降低部34。反射率降低部34具有與如圖9的(b)所示的遮光膜43h同等的適當(dāng) 的開口率，該反射率降低部34是通過使用光掩模而與壁面結(jié)構(gòu)體37 —體形成的，這里，上 述光掩模是指在與圖14所示的反射率降低部34相對應(yīng)的位置設(shè)置遮光膜的光掩模。另外， 當(dāng)在反射率降低部34的上表面形成凹凸部或在反射率降低部34上形成突起部時，也可以 使用特定的光掩模，該特定的光掩模是指開口率相同且具有遮光膜的密度分布的光掩模。開口部36形成在包圍像素區(qū)域P的壁面結(jié)構(gòu)體37的相對的兩邊上。相對于像素 間距220 μ m，開口部36的開口寬度被設(shè)計(jì)為14 μ m。開口部36的壁面寬度形成為15 μ m。 壁面結(jié)構(gòu)體37的壁面高度為4. 2 μ m2。反射率降低部34的開口部高度為3. 5 μ m。在上基板9上形成絕緣膜。在密封構(gòu)件12上設(shè)置注入口，該注入口在基板端部開 口而用于液晶注入。使兩張基板7、9貼合并加壓、加熱來使之粘結(jié)。使上述那樣準(zhǔn)備了的 空單元處于真空狀態(tài)，使空單元端部浸漬在膽留型液晶中，再通過空氣開放來注入液晶，上
14述膽留型液晶是調(diào)制成反射綠色光的膽留型液晶。通過與上述第一實(shí)施例相同的方法來估計(jì)液晶剛注入后的液晶顯示板的反射率。 在平面狀態(tài)下的反射率為30. 4%，在焦錐狀態(tài)下的反射率為1. 8%。因此，本實(shí)施例的液晶 顯示板的對比度為16. 8( = 30. 4% /1. 8% )。另外，在平面狀態(tài)及焦錐狀態(tài)的任一狀態(tài)反 射波長均為535nm。(彩色顯示)圖15示意性示出了使用膽留型液晶的能夠全色顯示的液晶顯示元件1的截面構(gòu) 成。本液晶顯示元件1從顯示面開始依次層疊藍(lán)色(B)用液晶顯示元件lb、綠色(G)用液 晶顯示元件lg、紅色(R)用液晶顯示元件Ir而構(gòu)成。在圖中，上方的上基板7b—側(cè)為顯示 面，外部光線(實(shí)線箭頭標(biāo)記)從上基板7b的上方向顯示面入射。另外，示意性示出了在 上基板7b上方的觀測者的眼睛及其觀察方向(虛線箭頭標(biāo)記)。B (藍(lán)色)用液晶顯示元件Ib具有在一對上下基板7b、9b之間所形成的藍(lán)色(B) 用液晶層3b和用于在B (藍(lán)色)用液晶層Ib上施加規(guī)定脈沖電壓的脈沖電壓源41b。B (藍(lán) 色)用液晶層3b在平面狀態(tài)下具有反射藍(lán)色的光的膽留型液晶。G(綠色)用液晶顯示元 件Ig具有在一對上下基板7g、9g之間所形成的綠色(G)用液晶層3g和用于在G (綠色)用 液晶層3g上施加規(guī)定脈沖電壓的脈沖電壓源41g。G (綠色)用液晶層3g在平面狀態(tài)具有 反射綠色的光的膽留型液晶。R(紅色)用液晶顯示元件Ir具有一對在上下基板7r、9r之 間所形成的紅色(R)用液晶層3r和用于在R(紅色)用液晶層3r上施加規(guī)定脈沖電壓的 脈沖電壓源41r。R(紅色)用液晶層3r在平面狀態(tài)具有反射紅色的光的膽留型液晶。在 R (紅色)顯示部Ir的下基板9r背面配置有可見光吸收層15。越是反射短波長的光的膽留型液晶越具有驅(qū)動電壓高的傾向。單元間隙d越窄則 驅(qū)動電壓越低。因此，為了使各液晶層3b、3g、3r的驅(qū)動電壓相等，可以使各液晶層3b、3g、 3r的單元間隙不同，使B(藍(lán)色)用液晶層3b的單元間隙最小。液晶顯示元件1有記憶性，除了畫面改寫時以外不消耗電力，能夠進(jìn)行明亮且顏 色鮮艷的全彩色顯示。本實(shí)施方式的液晶顯示元件1，由于撓性(韌性)優(yōu)異、耐沖擊性及顯示面的耐按 壓性優(yōu)異，所以可作為理想的電子紙張的顯示元件。使用液晶顯示元件1作為顯示元件的 電子紙張能夠用于電子書籍，電子報(bào)紙，電子海報(bào)，電子辭典等。另外，本實(shí)施方式的液晶顯 示元件1對于PDA (Personal DataAssistant)等的便攜終端或手表等的要求撓性及大幅度 保存溫度的便攜設(shè)備來說，也是理想的顯示元件。另外，也能夠適用于將來有望實(shí)現(xiàn)的紙型 計(jì)算機(jī)的顯示器的顯示元件、店鋪等裝飾陳列用顯示器等各種領(lǐng)域顯示設(shè)備。通過在完成的液晶顯示元件1中設(shè)置輸入輸出元件及用于綜合控制整體的控制 元件(任一項(xiàng)均未圖示)來完成電子紙張。圖16示出了具有本實(shí)施方式的液晶顯示元件1 的電子紙張EP的具體例。圖16的(a)示出了在本實(shí)施方式的液晶顯示元件1內(nèi)具有通過 插拔預(yù)先存儲圖像數(shù)據(jù)的非易失性存儲器Im來使用的結(jié)構(gòu)的電子紙張EP。例如，將存儲在 個人計(jì)算機(jī)等中的圖像數(shù)據(jù)存儲在非易失性存儲器Im中，通過將其安裝在電子紙張EP上 就能夠顯示圖像。圖16的(b)示出了在本實(shí)施方式的液晶顯示元件1內(nèi)具有內(nèi)置非易失性存儲器 Im的結(jié)構(gòu)的電子紙張EP。例如，能夠從存儲圖像數(shù)據(jù)的終端It (終端It也可以是構(gòu)成電子紙張EP的一部分)以有線方式使非易失性存儲器Im存儲圖像數(shù)據(jù)來顯示圖像。圖16的(c)示出了終端It及液晶顯示元件1具有無線收發(fā)系統(tǒng)(例如，無線LAN 及藍(lán)牙(Blue Tooth))的例。能夠從存儲圖像數(shù)據(jù)的終端It以無線通信Iwl的方式使非 易失性存儲器Im存儲圖像數(shù)據(jù)來顯示圖像。工業(yè)上的可利用性本發(fā)明并不僅限于上述實(shí)施方式，還能夠進(jìn)行各種變形。上述實(shí)施方式中，以單層結(jié)構(gòu)或?qū)盈BB、G、R用液晶顯示元件lb、lg、lr的三層結(jié)構(gòu) 的液晶顯示元件1為例進(jìn)行了說明，但本發(fā)明并不僅限于此。也能夠適用于層疊兩層或四 層以上的液晶顯示元件的結(jié)構(gòu)。
權(quán)利要求
一種顯示元件，其特征在于，具有一對基板；液晶，其密封在所述一對基板之間；第一電極，其形成在所述一對基板中的一個基板上；第二電極，其設(shè)置在所述一對基板中的另一個基板上；像素區(qū)域，其是通過相對配置所述第一電極和所述第二電極且使兩者交叉來劃定的區(qū)域；壁面結(jié)構(gòu)體，其形成在所述像素區(qū)域外，包圍位于所述一對基板之間的所述像素區(qū)域；開口部，其使所述壁面結(jié)構(gòu)體的一部分開口而成，以使所述液晶流通；反射率降低部，其形成在所述開口部，用于降低所述開口部處的所述液晶的反射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于， 所述反射率降低部與所述壁面結(jié)構(gòu)體一體形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2記載的顯示元件，其特征在于，所述反射率降低部具有壁面形狀，其高度比所述壁面結(jié)構(gòu)體的高度低。
4.根據(jù)權(quán)利要求3記載的顯示元件，其特征在于，所述反射率降低部具有平坦部，該平坦部形成在與所述一對基板中的任意一個基板相 對的面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3記載的顯示元件，其特征在于，所述反射率降低部具有凹凸部，該凹凸部形成在與所述一對基板中的任意一個基板相 對的面上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于，所述反射率降低部具有突起部，該突起部從所述一對基板中的任意一個基板突出而形成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任意一項(xiàng)記載的顯示元件，其特征在于， 所述像素區(qū)域?yàn)樗倪呅螤睢?br> 8.根據(jù)權(quán)利要求7記載的顯示元件，其特征在于， 所述開口部形成在所述邊的大致中央。
9.根據(jù)權(quán)利要求7記載的顯示元件，其特征在于， 所述開口部形成在相對置的所述邊的一端部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于，所述壁面結(jié)構(gòu)體的寬度與形成在一個基板上的相鄰的所述電極的間隔相同，或者比所 述間隔窄。
11.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于，所述壁面結(jié)構(gòu)體與所述一對基板中的兩個基板都粘結(jié)在一起。
12.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于， 所述液晶具有記憶性。
13.根據(jù)權(quán)利要求13記載的顯示元件，其特征在于， 所述液晶為膽甾型液晶。
14.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于， 所述顯示元件被層疊兩層以上。
15.根據(jù)權(quán)利要求1記載的顯示元件，其特征在于， 所述顯示元件被層疊三層，一層上述液晶反射藍(lán)色光， 另外一層上述液晶反射綠色光， 其他另外一層上述液晶反射紅色光。
16.一種顯示圖像的電子紙張，其特征在于， 具有權(quán)利要求1記載的顯示元件。
17.—種顯示圖像的電子終端設(shè)備，其特征在于， 具有權(quán)利要求1記載的顯示元件。
18.—種顯示元件的制造方法，用于在一對基板之間密封液晶來制造顯示元件，其特征 在于，在所述一對基板中的一個基板上形成第一電極， 在所述一對基板中的另一個基板上形成第二電極， 相對配置所述第一電極和所述第二電極且使兩者交叉，從而劃定像素區(qū)域， 在所述像素區(qū)域外形成壁面結(jié)構(gòu)體，包圍位于所述一對基板之間的所述像素區(qū)域， 使所述壁面結(jié)構(gòu)體的一部分開口而形成開口部，以使所述液晶流通， 在所述開口部形成反射率降低部，該反射率降低部用于降低所述開口部處的所述液晶 的反射率。
19.根據(jù)權(quán)利要求18記載的顯示元件的制造方法，其特征在于， 將所述反射率降低部與所述壁面結(jié)構(gòu)體一體地同時形成。
20.根據(jù)權(quán)利要求18記載的顯示元件的制造方法，其特征在于，將所述反射率降低部形成為高度比所述壁面結(jié)構(gòu)體的高度低的壁面形狀。全文摘要
使用膽甾型液晶顯示圖像的顯示元件及其制造方法及使用顯示元件的電子紙張及電子終端設(shè)備，目的是提供能夠提高對比度來獲得良好顯示的顯示元件及其制造方法以及使用顯示元件的電子紙張及電子終端設(shè)備。該顯示元件具有一對基板；液晶，被密封在所述一對基板間；第一電極，設(shè)置在所述一對基板的一個；第二電極，設(shè)置在所述一對電極的另一個；像素區(qū)域，是通過相對配置所述第一電極和所述第二電極以使兩者交叉從而劃定的區(qū)域；壁面結(jié)構(gòu)體，形成在所述像素區(qū)域外以包圍位于所述一對基板之間的所述像素區(qū)域；開口部，使所述壁面結(jié)構(gòu)體的部分開口以使所述液晶流通；反射率降低部，形成在所述開口部來降低所述開口部處的所述液晶的反射率。
文檔編號G02F1/1333GK101903823SQ200780102030
公開日2010年12月1日 申請日期2007年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月21日
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