專利名稱：多色打印頭維護站的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及維護站，尤其是涉及用于包括噴射多于一種液體的噴射模塊的打印頭 的維護站。
背景技術(shù)：
在噴墨打印機中，行打印頭包括多個噴射模塊，每個噴射模塊具有呈狹長矩形板 狀的噴嘴板，所述噴嘴板具有液體，例如，油墨，噴射噴嘴陣列。當(dāng)打印頭不工作時，噴嘴中 的液體及位于噴嘴板上的液體可能會變干和/或招來污染物，例如灰塵或其他碎屑，這些 污染物可能會導(dǎo)致噴嘴堵塞，甚至是噴嘴故障，造成打印質(zhì)量下降。維護站是用來去除液 體，以減少液體在噴射模塊的噴嘴中及其附近變干或者被灰塵污染的可能性。當(dāng)以行打印頭的構(gòu)造布置噴射模塊時，相鄰噴射模塊間的狹小間隙也可能會產(chǎn)生 維護方面的問題。例如，擦拭噴射模塊可能會導(dǎo)致在相鄰噴射模塊間的間隙中產(chǎn)生油墨積 聚，這些油墨積聚可能會滴落到印刷介質(zhì)上。油墨積聚也可能招致油墨污染物，例如，灰塵 或其他碎屑，這些油墨污染物可能會導(dǎo)致噴嘴模塊的噴嘴堵塞或降低打印質(zhì)量。EP 0799135A1公開了一種用于打印頭的維護站，也稱為清潔密封站。所述清潔密 封站包括提供有密封腔的蓋帽單元和用于在密封腔和打印頭之間形成密封接觸的裝置。所 述清潔密封站包括用于清潔每個打印頭主表面的擦拭部件。相對于蓋帽單元可滑動地安裝 所述擦拭部件使得在移動期間，所述擦拭部件沿著所述密封腔的前部移動。提供導(dǎo)向裝置 用于沿著垂直于所述蓋帽單元的頂部表面的方向移動所述清潔密封站。所述密封腔包括通 氣閥和保證在所述密封腔從打印頭處移開之前打開所述通氣閥的裝置。通常，行打印頭的噴射模塊構(gòu)造成從每個噴射模塊中噴射出同一種液體。同樣的， 傳統(tǒng)的維護站的擦拭單元構(gòu)造成沿著行打印頭的噴射模塊的整個長度或?qū)挾确较蜻M行擦 拭。但是，需要有一種維護站能有效地從構(gòu)造成在相同的打印操作中噴射多于一種液 體的行打印頭的噴射模塊中去除液體，例如油墨，及污染物。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種用于打印頭的維護站設(shè)備，所述維護站設(shè)備包 括并排設(shè)置在一行并且相對于打印介質(zhì)運動的方向傾斜的多個噴射模塊，所述多個噴射模 塊中的每個都包括一個噴嘴面，每個噴嘴面都包括構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列和 構(gòu)造成噴射第二液體的第二噴嘴陣列。所述維護站設(shè)備包括擦拭單元，所述擦拭單元包括 第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移動機構(gòu)。所述第一擦拭器與每個噴射模塊中的第一噴 嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第二擦拭器與每個噴射模塊中的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)。所述第一擦拭 器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上，使得所述第一擦拭器在位于每個噴射模塊中的第一噴嘴 陣列和第二噴嘴陣列之間的第一位置處與每個噴嘴面接觸，并且移動經(jīng)過每個噴射模塊的 第一噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模塊第一噴嘴陣列的第二位置處。所述第二擦拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上，使得所述第二擦拭器在位于每個噴射模塊中的第一噴嘴陣列和 第二噴嘴陣列之間的第三位置處與每個噴嘴面接觸，并且移動經(jīng)過每個噴射模塊的第二噴 嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模塊中的第二噴嘴陣列的第四位置處。所述維護站包括具有與所述多個噴射模塊相對應(yīng)的多個蓋帽對的蓋帽單元。每個 蓋帽對中的一個蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)。所述蓋帽對中的另一個 蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)。所述蓋帽單元在第一擦拭器和第二擦拭 器之間可移動到第一位置和第二位置，在所述第一位置處，所述多個蓋帽對中的每一對與 所述相對應(yīng)的噴射模塊中的所述第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列相接觸，而在第二位置處， 遠(yuǎn)離與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列的接觸。根據(jù)本發(fā)明中的另一特性，提供了一種維護打印頭的方法，所述打印頭包括多個 并排設(shè)置在一行并且相對于打印介質(zhì)運動的方向傾斜的噴射模塊，所述多個噴射模塊中的 每個包括一個噴嘴面，每個噴嘴面包括構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列和構(gòu)造成噴射 第二液體的第二噴嘴陣列。所述方法包括提供擦拭單元，所述擦拭單元包括第一擦拭器、第 二擦拭器、和擦拭器移動機構(gòu)，所述第一擦拭器與每個噴射模塊中的第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)， 所述第二擦拭器與每個噴射模塊中的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第一擦拭器設(shè)置在所述擦 拭器移動機構(gòu)上，所述第二擦拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上；使得所述第一擦拭器在 位于每個噴射模塊的第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列之間的第一位置處與每個噴嘴面接觸； 移動經(jīng)過每個噴射模塊的第一噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模塊第一噴嘴陣列的第二位 置處；使得所述第二擦拭器在位于每個噴射模塊的第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列之間的第 三位置處與每個噴嘴面接觸；移動經(jīng)過每個噴射模塊的第二噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射 模塊中的第二噴嘴陣列的第四位置處。所述方法也可以包括提供具有與多個噴射模塊相對應(yīng)的多個蓋帽對的蓋帽單元， 每個蓋帽對中的一個蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述蓋帽對中的另 一個蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)；使得所述蓋帽單元在第一擦拭器和 第二擦拭器之間可移動到第一位置和第二位置，在所述第一位置處，所述多個蓋帽對中的 每一對與相對應(yīng)的噴射模塊的第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列相接觸，而在第二位置處，遠(yuǎn) 離所述相對應(yīng)的噴射模塊中的第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列。


在下文中對本發(fā)明的示例實施例進行的詳細(xì)描述中，參考了附圖，其中圖1是本發(fā)明中的一個示例實施例的側(cè)面示意圖，其示出了打印頭和處于暫停位 置的維護站；圖2是圖1中所示打印頭的頂部示意圖，其示出了維護站的一部分；圖3-5是圖1中所示的打印頭的側(cè)面示意圖，其示出了維護站中的擦拭單元從圖 1中所示的暫停位置移動通過打印頭的部分擦拭周期；圖6和圖7是圖1中所示打印頭的側(cè)面示意圖，其示出了維護站的蓋帽單元從圖 1中所示的暫停位置移動到蓋帽位置；圖8-15是圖1中所示打印頭的側(cè)面示意圖，其示出了維護站中的擦拭單元的另一 個實施例，其中擦拭單元從暫停位置移動通過打印頭的一個完整的擦拭周期；
圖16-18是圖1中所示打印頭的側(cè)面示意圖，其示出了維護站中的擦拭單元的另 一個實施例，其中擦拭單元從暫停位置移動通過打印頭的一個完整的擦拭周期；圖19是圖1中所示的打印頭的頂部示意圖，其示出了本發(fā)明中的擦拭器之一；圖20是圖19中所示擦拭器的一個實施例的側(cè)面示意圖；圖21是擦拭器基底的一個實施例的側(cè)面示意圖。
具體實施例方式本說明書將特別涉及形成根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的組成部分或與之更直接協(xié)作的組 件。可以理解的是，未明確示出的或描述的組件可能具有為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的各種 形式。參看圖1，本發(fā)明的一個具體實施例的側(cè)面示意圖示出了打印頭30和處于暫停位 置的維護站40。延伸進和延伸出附圖1的打印頭30位于維護站40的上方。當(dāng)進行維護作 業(yè)時，通過沿著軌道或路徑將打印頭30從位于打印介質(zhì)上方的打印位置平移至位于維護 站40上方的位置來完成打印頭30的運動。但是同樣也可以采用本領(lǐng)域公知的其它運動技 術(shù)。維護站40，也稱為清洗擦拭蓋帽(PWC)站，包括擦拭單元50和蓋帽單元60。擦拭 單元50包括第一擦拭器52和第二擦拭器M。擦拭單元50和蓋帽單元60由維護站40的 框架結(jié)構(gòu)42所支承。維護站40，如圖1中所示，處于暫停位置或初始位置，從而容許打印頭 30移動到維護站40且允許蓋帽單元60朝向打印頭30移動。典型地，在清洗之后進行擦拭的同時，在清洗之前或打印頭30臨時性關(guān)閉之前進 行蓋帽作業(yè)。清洗作業(yè)有助于除去在液體，例如墨水，裝填或更換操作過程中留在打印頭30 中的氣泡；清潔液體回路；以及修復(fù)故障噴嘴。參看圖2，打印頭30的頂部示意圖，其示出了維護裝置40的擦拭單元50的第一 擦拭器52和第二擦拭器M。打印頭30包括并排設(shè)置在一行(如箭頭32所示)并且相對 于打印介質(zhì)運動的方向(如箭頭33所示)傾斜的多個噴射模塊31。多個噴射模塊31中 的每個包括噴嘴面34，每個噴嘴面34包括構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列35和構(gòu)造 成噴射第二液體的第二噴嘴陣列36。向第一噴嘴陣列35供給第一液體，例如第一彩色油 墨，向第二噴嘴陣列36供給與第一液體無關(guān)的第二液體，例如第二彩色油墨。利用公知技 術(shù)，例如利用壓電致動器或加熱器，使第一液體噴射通過噴嘴陣列35和使第二液體噴射通 過第二噴嘴36。第一擦拭器52與每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35相關(guān)聯(lián)。第二擦拭 器M與每個噴射模塊31的第二噴嘴陣列36相關(guān)聯(lián)。所述第一液體可以是第一彩色油墨，所述第二液體可以是第二彩色油墨，第一彩 色油墨和第二彩色油墨在某些方面互不相同，例如顏色、密度和黏稠度?？蛇x的是，第一和 第二液體可以是足夠相互區(qū)別的任何印刷液體，以使得能夠更好地獨立可取地獨立維持噴 嘴陣列噴射每一種液體。在圖2中，第一噴嘴陣列35包括設(shè)置在噴射模塊31的噴嘴面34的第一側(cè)37上的 兩行噴嘴，第二噴嘴陣列包括設(shè)置在噴射模塊31的噴嘴面34的第二側(cè)38上的兩行噴嘴。 間隙39存在于第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36之間。參看圖3-5，其示出了打印頭30和從圖1中所示暫停位置移動通過打印頭30的部分擦拭周期的維護站40的擦拭單元50的側(cè)面示意圖。除第一擦拭器52和第二擦拭器M 外，擦拭單元50還包括擦拭器移動機構(gòu)51。擦拭器移動機構(gòu)51包括框架53和將第一擦拭器52和第二擦拭器M移動通過打 印頭30的擦拭周期的致動器55。第一擦拭器52和第二擦拭器M垂直并側(cè)向于打印頭30 的噴嘴面運動，并且提供有一個或多個傳統(tǒng)的致動器55，例如與擦拭單元50適當(dāng)連接或嚙 合的馬達或者螺線管。擦拭器移動機構(gòu)51可以包括獨立的致動器55，包括完成側(cè)向運動的 致動器55A，以及完成垂直運動的致動器55B。可選地，擦拭器移動機構(gòu)51可以只包括一個側(cè)向運動致動器55A，并且使用與蓋 帽單元60相關(guān)聯(lián)的垂直致動器86以提供垂直運動。這通過促使蓋帽單元60與擦拭單元 50相接觸，然后進行垂直運動使得第一擦拭器52，如上文中所描述，與打印頭30相接觸來 實現(xiàn)。然后，側(cè)向運動致動器55A將第一擦拭器52移動通過每個第一噴嘴陣列35。然后， 與所述蓋帽單元60相關(guān)聯(lián)的所述垂直致動器降低蓋帽單元60和第一擦拭器52。然后第二 擦拭器M重復(fù)上述過程。第一擦拭器52設(shè)置在擦拭器移動機構(gòu)51上。擦拭器移動機構(gòu)51促使第一擦拭 器52從它的暫停位置(如圖1所示)移動到位于每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和 第二噴嘴陣列36之間的位置，并且遠(yuǎn)離每個噴射模塊31 (如圖3所示)的噴嘴面34。擦拭 器移動機構(gòu)51促使第一擦拭器52在位于每個噴射模塊31 (如圖4所示)的第一噴嘴陣列 35和第二噴嘴陣列36之間的第一位置(間隙39)處與每個噴嘴面34相接觸。然后擦拭器 移動機構(gòu)51促使第一擦拭器52移動通過每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35而到達遠(yuǎn)離 每個噴射模塊31 (如圖5所示)的第一噴嘴陣列35的第二位置。然后，第一擦拭器52在 不接觸第一噴嘴陣列35的情況下返回至其初始位置或暫停位置(如圖1所示)。第一擦拭器52對每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35進行擦拭的擦拭周期是從 每個噴射模塊31的內(nèi)部或中心開始，到每個噴射模塊31的外部邊緣結(jié)束。這種擦拭運動 有助于減少在噴嘴面34的間隙39中的出現(xiàn)液體積聚的可能性。附圖8-15更詳細(xì)地示出 了第一擦拭器52對第一噴嘴陣列35進行擦拭的擦拭周期。第二擦拭器M也設(shè)置在擦拭器移動機構(gòu)51上。擦拭器移動機構(gòu)51促使第二擦 拭器M從它的暫停位置移動，并且在位于每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴 陣列36之間的第三位置(間隙39)處與每個噴嘴面34相接觸。然后擦拭器移動機構(gòu)51 促使第二擦拭器M移動通過每個噴射模塊31的第二噴嘴陣列36而到達遠(yuǎn)離每個噴射模 塊31的第二噴嘴陣列36的第四位置。第二擦拭器M對每個噴射模塊31的第二噴嘴陣列36進行擦拭的擦拭周期是從 每個噴射模塊31的內(nèi)部或中心開始，到每個噴射模塊31的外部邊緣結(jié)束。這種擦拭運動 有助于減少在噴嘴面34的間隙39中出現(xiàn)液體積聚的可能性。附圖8-15更詳細(xì)地示出了 第二擦拭器M對第二噴嘴陣列36進行擦拭的擦拭周期。遠(yuǎn)離每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35的第二位置位于每個噴射模塊31的一 側(cè)，而遠(yuǎn)離每個噴射模塊31中的第二噴嘴陣列36的第四位置位于每個噴射模塊31的另一 側(cè)。然后第二擦拭器M在不接觸第二噴嘴陣列36的情況下，返回至其初始位置或暫停位 置(如圖1所示)。第一擦拭器52對第一噴嘴陣列35進行擦拭的擦拭周期的方向被認(rèn)為是與第二擦拭器M對第二噴嘴陣列36進行擦拭的擦拭周期的方向相反。參看圖6和圖7，其示出了打印頭30和從圖1所示的暫停位置移動到蓋帽位置的 維護站40的蓋帽單元60的側(cè)面示意圖。蓋帽單元60包括與多個噴射模塊31相對應(yīng)的多 個蓋帽對62，其中每個蓋帽對62中的一個蓋帽64與相對應(yīng)的噴射模塊31的第一噴嘴陣列 35相關(guān)聯(lián)，并且所述每個蓋帽對62中的另一個蓋帽66與相對應(yīng)的噴射模塊31的第二噴嘴 陣列36相關(guān)聯(lián)。所述蓋帽單元60在第一擦拭器52和第二擦拭器M之間可移動到第一位 置和第二位置，在所述第一位置處，所述多個蓋帽對62中的每一對與相對應(yīng)的噴射模塊31 的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36密封地接觸，而在第二位置處，遠(yuǎn)離相對應(yīng)的噴射模 塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36。蓋帽單元60垂直于打印頭30運動，并且提 供有傳統(tǒng)的致動器86，例如與蓋帽單元60適當(dāng)連接或嚙合的馬達或者螺線管。每個蓋帽64和66提供有由合適的適宜材料，例如橡膠，制成的墊圈，以有助于對 噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36進行流體密封。每個蓋帽64和66或 者每個蓋帽對62可以被安裝在彈簧上，所述彈簧有助于保持噴射模塊31的第一噴嘴陣列 35和第二噴嘴陣列36的流體密封。多個蓋帽對62的每個蓋帽64、66包括具有一開口 69的基板68。開口 69，例如， 穿過管子，與廢墨罐(未示出)流體連通，以允許通過開口 69排出液體。在蓋帽作業(yè)期間， 使用橡膠圓盤將每個蓋帽對62的每個蓋帽64、66吸成真空，從而有助于從每個第一噴嘴陣 列35和第二噴嘴陣列36中吸走液體。當(dāng)蓋帽單元60與噴射模塊31相接觸時，可以進行清洗。清洗作業(yè)可以包括在第 一液體和第二液體的彎液面處提供背壓力，使得從打印頭30中排出液體，同時多個蓋帽對 62的每一對與印刷頭30的相對應(yīng)的噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36相 接觸。清洗噴射模塊31的步驟可以包括單獨清洗每個噴射模塊31，連續(xù)地清洗成組的噴射 模塊31，或者同時清洗所有的噴射模塊31。可以在蓋帽單元60遠(yuǎn)離噴射模塊31后開始擦拭作業(yè)。擦拭作業(yè)可以包括在第一 液體和第二液體的彎液面處提供有助于在此作業(yè)期間排出液體的正壓力。在擦拭作業(yè)結(jié)束 后，在第一液體和第二液體的彎液面處提供有助于將液體回吸到每個噴嘴中的負(fù)壓力。參看圖8-15，其示出了打印頭30和維護站40的擦拭單元50的另一個示例性實施 例的側(cè)面示意圖，其中擦拭單元50從暫停位置移動通過打印頭30的一個完整的擦拭周期。 在這些圖中，打印頭30延伸進并延伸出附圖。擦拭器移動機構(gòu)51包括固定有第一擦拭器 52和第二擦拭器M的可移動的框架53。在框架53的結(jié)構(gòu)中，第一擦拭器52和第二擦拭 器M作為一個單元側(cè)向移動?？蚣?3包括一個開口，當(dāng)蓋帽單元60從它的暫停位置移動 到蓋帽位置時穿過所述開口。開始時，擦拭單元50位于它的初始位置(圖8中所示的位置1)。擦拭單元50側(cè) 向移動以將第一擦拭器52置于每個相對應(yīng)的噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴 陣列36之間。擦拭單元50垂直運動使得所述第一擦拭器52與每個噴嘴面34(如圖9中 所示的位置2、接觸。第一擦拭器52移動通過每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35，同時與 每個第一噴嘴陣列35保持接觸(如圖10中所示的位置幻。然后，第一擦拭器52朝著維護 站40的框架42從每個噴射模塊31的第一噴嘴陣列35處移動離開，移動到遠(yuǎn)離每個噴射 模塊31的第一噴嘴陣列35的位置(如圖11中所示的位置4)。
接著，擦拭單元50沿著相反的方向側(cè)向移動，從而將第二擦拭器M置于每一相對 應(yīng)的噴射模塊31的第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36之間(如圖12中所示的位置5)。 然后，擦拭單元50垂直運動使得所述第二擦拭器M與每個噴嘴面34接觸(如圖13中所 示的位置6)。第二擦拭器M移動通過每個噴射模塊31的第二噴嘴陣列36，同時與每個第 二噴嘴陣列36保持接觸(如圖14中所示的位置7)。然后，第二擦拭器M朝著維護站40 的框架42從每個噴射模塊31的第二噴嘴陣列36處移動離開，移動到遠(yuǎn)離每個噴射模塊31 的第一噴嘴陣列35的位置(如圖15中所示的位置8)，最終，擦拭單元50返回到其初始位 置(圖8中所示的位置1)。參看圖16-18，其示出了打印頭30和維護站40的擦拭單元50的另一個示例性實 施例的側(cè)面示意圖，其中擦拭單元50從暫停位置移動通過打印頭30的一個完整的擦拭周 期。在這個示例性實施例中，第一擦拭器52和第二擦拭器M從初始位置(圖16)移動到 第一噴嘴陣列35和第二噴嘴陣列36 (圖17)之間的位置處。第一擦拭器52和第二擦拭器 M可以相繼地或并行地運動。如上文中所述，第一擦拭器52對第一噴嘴陣列36進行擦拭， 第二擦拭器M對第二噴嘴陣列36進行擦拭。在擦拭周期完成之后，第一擦拭器52和第二 擦拭器M回到它們各自的初始位置。參看圖19，其示出了打印頭30和第一擦拭器52的頂部示意圖。并且，參看圖20， 其示出了同樣也在圖19中示出的第一擦拭器52的一個示例性實施例的側(cè)面示意圖。將第 一擦拭器52設(shè)置成與所述噴射模塊31的行平行。也可以以同樣的方式設(shè)置第二擦拭器 M。第一擦拭器52 (和第二擦拭器54)可在擦拭器移動機構(gòu)51的作用下沿著多個噴射模 塊31傾斜的方向運動。第一擦拭器52 (和第二擦拭器54)是連續(xù)地橫跨打印頭30的長度 的刮刀形式76的擦拭器?？蛇x的是，第一擦拭器52 (和第二擦拭器54)包括橫跨所述噴射模塊31的行的 多個擦拭器刮刀70。此外，或者作為另一選擇，第一擦拭器52 (和第二擦拭器54)包括分 段的或者有凹口的擦拭器刮刀72，每個段74僅僅與相對應(yīng)的噴射模塊31的第一噴嘴陣列 35 (第二噴嘴陣列36)接觸。將分段的擦拭器刮刀72的每個段74設(shè)置成與所述噴射模塊 31的行平行。另外，將凹口 73置于位于第一噴嘴陣列35(第二噴嘴陣列36)之間的區(qū)域 中，從而在擦拭作業(yè)期間，減少液體在這些區(qū)域的積聚。擦拭器刮刀70和72通過與噴嘴面 34接觸后產(chǎn)生的輕微變形來進行擦拭作業(yè)。典型的，擦拭器刮刀70和72由合適的彈性可 變形材料，例如具有合適的硬度和環(huán)境適應(yīng)性的橡膠材料，制成。參看圖21，其示出了擦拭器基底的一個示例性實施例的側(cè)面示意圖。在這個實施 例中，第一擦拭器52包括固定在擦拭器刮刀基底78上的刮刀形擦拭器76。擦拭器刮刀基 底78包括貯墨池80以從擦拭器76處收集液體。貯墨池80通向與廢墨罐84流體連通的 排墨槽82。貯墨池80橫跨擦拭器基底76的長度。但是，根據(jù)所使用的擦拭器的具體類型， 允許使用其它構(gòu)造的貯墨池80。通過參考特定的優(yōu)選的實施例對本發(fā)明進行了詳細(xì)的描述，但是應(yīng)該理解的是， 在本發(fā)明的范圍內(nèi)能夠進行多種變形和修改。零件目錄表30打印頭31多個噴射模塊
32目丨J頭33箭頭34噴嘴面35第一噴嘴陣列36第二噴嘴陣列37第一側(cè)38第二側(cè)39間隙40維護站42框架結(jié)構(gòu)51擦拭器移動機構(gòu)52第一擦拭器53框架54第二擦拭器55致動器62多個蓋帽對64一個蓋帽66另一個蓋帽68基板69開口70多個擦拭器刮刀72分段的擦拭器刮刀74每一段76刮刀形式擦拭器78擦拭器刮刀基板82排墨槽84廢墨罐86致動器
權(quán)利要求
1.一種用于打印頭的維護站設(shè)備，所述打印頭包括并排設(shè)置在一行并且相對于打印介 質(zhì)運動的方向傾斜的多個噴射模塊，所述多個噴射模塊中的每個都包括噴嘴面，每個噴嘴 面都包括構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列和構(gòu)造成噴射第二液體的第二噴嘴陣列，所 述維護站設(shè)備包括擦拭單元，其具有第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移動機構(gòu)，所述第一擦拭器與每 個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第二擦拭器與每個噴射模塊的所述第二噴嘴 陣列相關(guān)聯(lián)，所述第一擦拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上，使得所述第一擦拭器在位于 每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和所述第二噴嘴陣列之間的第一位置處與每個噴嘴面 接觸，并且移動經(jīng)過每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模塊的第一噴 嘴陣列的第二位置處，所述第二擦拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上，使得所述第二擦拭 器在位于每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和所述第二噴嘴陣列之間的第三位置處與每 個噴嘴面接觸，并且移動經(jīng)過每個噴射模塊中的第二噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模塊的 第二噴嘴陣列的第四位置處；以及蓋帽單元，其包括與所述多個噴射模塊相對應(yīng)的多個蓋帽對，每個蓋帽對中的一個蓋 帽與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述蓋帽對中的另一個蓋帽與所 述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述蓋帽單元在所述第一擦拭器和所述 第二擦拭器之間能夠移動到第一位置和第二位置，在所述第一位置處，所述多個蓋帽對中 的每一對與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列相接觸，而在第二 位置處，遠(yuǎn)離與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列的接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述擦拭器移動機構(gòu)包括固定有所述第一擦拭器和 所述第二擦拭器的能夠移動的框架，使得所述第一擦拭器和所述第二擦拭器作為一個單元 側(cè)向移動。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述能夠移動的框架包括一個開口，所述蓋帽單元 能夠移動地穿過所述框架的所述開口。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一擦拭器包括橫跨所述噴射模塊的行的多個 擦拭器刮刀。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一擦拭器包括分段的擦拭器刮刀，每一段僅 僅與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列相接觸。
6.如權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中將所述分段的擦拭器刮刀的每一段定位成與所述噴 射模塊的行平行。
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中第一擦拭器和所述第二擦拭器沿著所述多個噴射模 塊的傾斜的方向能夠移動。
8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述多個蓋帽對中的每個蓋帽都包括具有開口的基 板，所述開口與廢墨罐流體連通，以允許通過所述開口排出液體。
9.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一液體為第一彩色油墨，所述第二液體為第 二彩色油墨。
10.一種維護打印頭的方法，所述打印頭包括多個并排設(shè)置在一行并且相對于打印介 質(zhì)運動的方向傾斜的多個噴射模塊，所述多個噴射模塊中的每個都具有一個噴嘴面，每個 噴嘴面都包括構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列和構(gòu)造成噴射第二液體的第二噴嘴陣列，所述方法包括提供擦拭單元，所述擦拭單元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移動機構(gòu)，所述 第一擦拭器與每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第二擦拭器與每個噴射模塊 的所述第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第一擦拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上，所述第二擦 拭器設(shè)置在所述擦拭器移動機構(gòu)上；使所述第一擦拭器在位于每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和所述第二噴嘴陣列之 間的第一位置處與每個噴嘴面接觸；移動所述第一擦拭器經(jīng)過每個噴射模塊中的所述第一噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射 模塊的所述第一噴嘴陣列的第二位置處；使所述第二擦拭器在位于每個噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和所述第二噴嘴陣列之 間的第三位置處與每個噴嘴面接觸；以及移動所述第二擦拭器經(jīng)過每個噴射模塊的所述第二噴嘴陣列而到達遠(yuǎn)離每個噴射模 塊的所述第二噴嘴陣列的第四位置處。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，進一步包括提供包括與所述多個噴射模塊相對應(yīng)的多個蓋帽對的蓋帽單元，每個蓋帽對中的一個 蓋帽與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，每個蓋帽對中的另一個蓋帽與 所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)；以及使所述蓋帽單元在所述第一擦拭器和所述第二擦拭器之間移動到第一位置和第二位 置，在所述第一位置處，所述多個蓋帽對中的每一對與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一 噴嘴陣列和第二噴嘴陣列相接觸，而在第二位置處，遠(yuǎn)離與所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述 第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列的接觸。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，進一步包括通過把蓋帽單元抽成真空來清洗所述第一液體和所述第二液體的所述打印頭，同時所 述多個蓋帽對中的每一對與打印頭的所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和第二 噴嘴陣列相接觸。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，進一步包括清洗所述第一液體和所述第二液體的所述打印頭，同時所述多個蓋帽對中的每一對與 所述打印頭的所述相對應(yīng)的噴射模塊的所述第一噴嘴陣列和第二噴嘴陣列相接觸。
全文摘要
提供了一種用于噴墨打印頭的維護站設(shè)備。所述打印頭包括并排設(shè)置在一行并且相對于打印介質(zhì)運動的方向傾斜的多個噴射模塊，該多個噴射模塊中的每個都包括噴嘴面，每個噴嘴面都包括被構(gòu)造成噴射第一液體的第一噴嘴陣列和被構(gòu)造成噴射第二液體的第二噴嘴陣列。所述維護站設(shè)備包括擦拭單元，以及包括與所述多個噴射模塊相對應(yīng)的多個蓋帽對的蓋帽單元，其中，所述擦拭單元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移動機構(gòu)，所述第一擦拭器與每個噴射模塊的第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述第二擦拭器與每個噴射模塊的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，每個蓋帽對中的一個蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第一噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)，所述蓋帽對中的另一個蓋帽與相對應(yīng)的噴射模塊的第二噴嘴陣列相關(guān)聯(lián)。
文檔編號B41J2/165GK102046386SQ200980119855
公開日2011年5月4日 申請日期2009年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月29日
發(fā)明者O·奧德 申請人:伊斯曼柯達公司