專(zhuān)利名稱(chēng)：一種激光上色標(biāo)刻方法及設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種全新的激光防偽標(biāo)識(shí)及設(shè)備，特指一種激光上色標(biāo)刻防偽的方 法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
目前，隨著我國(guó)工業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展以及經(jīng)融危機(jī)的影響，加快了傳統(tǒng)標(biāo)識(shí)方式及 設(shè)備的更替，激光作為一種高新技術(shù)，是一種更為先進(jìn)的標(biāo)識(shí)加工方式，順應(yīng)市場(chǎng)需 求，順應(yīng)了企業(yè)的品牌戰(zhàn)略方向以及創(chuàng)新為企業(yè)生存之本的理念。企業(yè)的品牌戰(zhàn)略中，防偽標(biāo)識(shí)是品牌戰(zhàn)略的重中之重。防偽標(biāo)識(shí)傳統(tǒng)的有粘 貼、印刷、轉(zhuǎn)移在標(biāo)識(shí)物的表面，或標(biāo)識(shí)在貨物包裝上，或標(biāo)識(shí)在貨物附屬物(如商品 掛牌、名片以及防偽證卡)上，具有防偽作用的標(biāo)識(shí)。防偽標(biāo)識(shí)的防偽特征以及識(shí)別的 方法是防偽標(biāo)識(shí)的靈魂。在我們熟知的玻璃行業(yè)，防偽是以印刷為主，在自然條件下反復(fù)高溫，潮濕， 摩擦就很容易脫落，達(dá)不到標(biāo)識(shí)防偽的作用；在衛(wèi)浴搪瓷和陶瓷行業(yè)，是采用二次燒制 的辦法來(lái)制成防偽標(biāo)識(shí)，成品率不高，標(biāo)識(shí)在燒制過(guò)程中不易控制，出現(xiàn)不均勻，變形 等；高光度金屬的產(chǎn)品防偽目前主要是以絲印為主，不符合環(huán)保規(guī)定，且容易脫落；鋁 及合金制品行業(yè)，采用沖壓，絲印，腐蝕等方式，這些方式易產(chǎn)生變形，標(biāo)識(shí)脫落，程 序繁瑣，附加成本高等缺陷。在玻璃，鋁及合金，陶瓷(搪瓷)，高光度金屬行業(yè)需要標(biāo)識(shí)圖文領(lǐng)域，不僅需 求數(shù)量巨大，而且使用種類(lèi)多，廣泛，而激光上色標(biāo)刻防偽就可以全部實(shí)現(xiàn)在玻璃，鋁 及合金，陶瓷(搪瓷)，高光度金屬行業(yè)上的應(yīng)用，快速，有效，干凈環(huán)保，防偽能力 強(qiáng)，能獲得很高的經(jīng)濟(jì)效益。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的第一個(gè)技術(shù)問(wèn)題是提供一種激光上色標(biāo)刻方法，克服了玻 璃、陶瓷(搪瓷)、鋁及合金、高光度金屬的圖文防偽標(biāo)識(shí)的不足，并且對(duì)比度高、質(zhì)感 好、永不脫落。本發(fā)明所要解決的第二個(gè)技術(shù)問(wèn)題是提供一種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，快速、有 效、干凈環(huán)保、防偽能力強(qiáng)，能獲得很高的經(jīng)濟(jì)效益。本發(fā)明解決第一個(gè)技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為一種激光上色標(biāo)刻方法，其 特征在于激光上色標(biāo)刻方法包括如下步驟1)將酒精和水以質(zhì)量比為1 1 1 7進(jìn)行稀釋?zhuān)?)將顏料粉用稀釋好的酒精來(lái)調(diào)和出合適的流體態(tài)，顏料粉和稀釋好的酒精的 配比為 IOOmg IOOml IOOmg 350ml ；3)將調(diào)和好的顏料液體倒入噴槍內(nèi)，然后用噴槍把顏料液體噴射到材料的表面 形成涂層表面；或者將調(diào)和好的顏料液體用絲印來(lái)絲印到材料的表面形成涂層表面；
4)將涂好顏料液體的材料放入到烘烤箱內(nèi)，用65 160攝氏溫度烘烤，烘烤時(shí) 間為若干分鐘；5)把烘烤過(guò)后的材料放入到激光設(shè)備內(nèi)，從而使激光束照射到涂層表面，經(jīng)過(guò) 二維掃描系統(tǒng)全反偏轉(zhuǎn)、聚焦進(jìn)行標(biāo)刻；6)將標(biāo)刻好的材料放入清水里，用毛刷清洗，風(fēng)干或烘干。作為改進(jìn)，所述的涂層表面的顏料來(lái)回不重貼的均勻的涂在材料的表面。作為改進(jìn)，所述的烘烤時(shí)間根據(jù)材料的不同而不同陶瓷或搪瓷7_15min，玻璃5-10min,鋁及合金4_12min，高光度金屬6_14min。作為改進(jìn)，所述的激光束照射到涂層表面的重復(fù)定位精度為士0.01mm。最后，所述的稀釋的酒精用合適的比例來(lái)調(diào)和顏料粉，保證了標(biāo)刻效果的一致 性和美觀。本發(fā)明解決第二個(gè)技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為一種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，包 括放置平臺(tái)架、激光器、放置平臺(tái)架下方設(shè)置有廢料接收箱，放置平臺(tái)架、激光器、廢 料接收箱都內(nèi)置在機(jī)殼中，機(jī)殼通過(guò)支撐架安放在地面上，其特征在于X軸導(dǎo)軌安置在放置平臺(tái)架上，傳動(dòng)皮帶套置在X軸導(dǎo)軌上，X軸導(dǎo)軌的兩端 的Y軸方向上設(shè)置有Y軸導(dǎo)軌，從而X軸導(dǎo)軌能沿Y軸導(dǎo)軌前后地移動(dòng)；激光器，發(fā)射出的激光束經(jīng)過(guò)多個(gè)全反鏡，最后經(jīng)過(guò)激光聚焦系統(tǒng)聚焦到涂層 表面進(jìn)行二維掃描標(biāo)刻。作為改進(jìn)，所述的二維掃描標(biāo)刻采用的是五個(gè)全反鏡，其中的45度全反鏡一、 45度全反鏡二相互成90度設(shè)置在放置平臺(tái)架上的一側(cè)；45度全反鏡三固定在放置平臺(tái)架 上的另一側(cè)，45度全反鏡四固定在X軸滑軌與Y軸導(dǎo)軌的交叉處的X軸導(dǎo)軌上，與45度 全反鏡三互成90度；45度全反鏡五及激光聚焦系統(tǒng)可左右滑動(dòng)的連接在X軸導(dǎo)軌上，X 軸導(dǎo)軌前后的移動(dòng)、五個(gè)全反鏡及激光聚焦系統(tǒng)形成了二維掃描系統(tǒng)。作為改進(jìn)，所述的激光源采用的二氧化碳激光器，二氧化碳激光器的工作幅面 采用的是幅面為900mm*1200mm的寬幅面，來(lái)標(biāo)刻各種大小的平面陶瓷或搪瓷、玻璃、 鋁及合金，高光度的金屬材料。作為改進(jìn)，所述的二氧化碳激光器的平均功率為50-100W，優(yōu)選為60W，中心 波長(zhǎng)為10.64nm。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于克服了傳統(tǒng)的玻璃、陶瓷(搪瓷)、鋁 及合金、高光度金屬的圖文防偽標(biāo)識(shí)的不足，能夠標(biāo)刻出任何自然條件下和人為條件都 不易失效的防偽標(biāo)識(shí)，且對(duì)比度高、質(zhì)感好、永不脫落；能夠?qū)崿F(xiàn)精密、高質(zhì)量、高效 率、單件低成本的多重行業(yè)的加工；這種工藝方法及設(shè)備，可以在多領(lǐng)域?qū)嵱?，而且?以一機(jī)多用。


圖1為本發(fā)明的正視圖2為本發(fā)明的俯視圖；圖3為本發(fā)明的側(cè)視圖；圖4為本發(fā)明的二維掃描系統(tǒng)的原理圖；圖5為本發(fā)明的工藝流程圖。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。如圖所示一種激光上色標(biāo)刻方法，1)將酒精和水以質(zhì)量比為1 2進(jìn)行稀釋?zhuān)?)將顏料粉用稀釋好的酒精來(lái)調(diào)和出合適的流體態(tài)，顏料粉和稀釋好的酒精的 配比為IOOmg 200ml ；用稀釋的酒精采用合適的比例來(lái)調(diào)和顏料粉，是為了保證標(biāo)刻 效果的一致性和美觀；3)將調(diào)和好的顏料液體倒入噴槍內(nèi)，然后用高壓噴槍把顏料液體噴射到材料的 表面形成涂層表面；或者將調(diào)和好的顏料液體直接用絲印來(lái)絲印到材料的表面形成涂層 表面；調(diào)和好的顏料要來(lái)回不重貼地均勻地涂在材料的表面；4)將涂好顏料液體的材料放入到烘烤箱內(nèi)，用80攝氏溫度烘烤，烘烤時(shí)間根據(jù) 材料的不同而不同，陶瓷或搪瓷15min，玻璃lOmin，鋁及合金12min，高光度金 屬14min ；5)把烘烤過(guò)后的材料放入到激光設(shè)備內(nèi)，從而使激光束照射到涂層表面，激光 束照射到涂層表面的重復(fù)定位精度為士0.01mm;調(diào)整好工藝及定位，經(jīng)過(guò)二維掃描系統(tǒng) 全反偏轉(zhuǎn)、聚焦進(jìn)行一次性陳列標(biāo)刻滿(mǎn)版，根據(jù)實(shí)際工件大小來(lái)定制設(shè)備幅面大??；6)將標(biāo)刻好的材料放入清水里，用毛刷清洗，風(fēng)干或烘干；然后留下的是清 晰，質(zhì)感好且不脫落的標(biāo)識(shí)圖文。如圖所示一種激光上色標(biāo)刻的設(shè)備，包括放置平臺(tái)架4、激光器8、放置平臺(tái) 架4下方設(shè)置有一廢料接收箱3，接收由激光設(shè)備中散落下來(lái)的廢棄物；放置平臺(tái)架4、 激光器8、廢料接收箱3都內(nèi)置在機(jī)殼15中，機(jī)殼15通過(guò)支撐架2安放在地面上，支撐 架2與地面之間設(shè)置有腳輪1，方便設(shè)備的移動(dòng)；X軸導(dǎo)軌6安置在放置平臺(tái)架4上，傳 動(dòng)皮帶7套置在X軸導(dǎo)軌6上，X軸導(dǎo)軌6的兩端的Y軸方向上設(shè)置有Y軸導(dǎo)軌5，X 軸導(dǎo)軌6可沿Y軸導(dǎo)軌5前后地移動(dòng)；45度全反鏡一 9、45度全反鏡二 10相互成90度 設(shè)置在放置平臺(tái)架4上的一側(cè)；45度全反鏡三11固定在放置平臺(tái)架4上的另一側(cè)，45度 全反鏡四12固定在X軸滑軌6與Y軸導(dǎo)軌5的交叉處的X軸導(dǎo)軌6上，與45度全反鏡 三11互成90度；45度全反鏡五13及激光聚焦系統(tǒng)14可左右滑動(dòng)的連接在X軸導(dǎo)軌6 上，X軸導(dǎo)軌6前后的移動(dòng)、五個(gè)全反鏡及激光聚焦系統(tǒng)14左右前后移動(dòng)形成了二維掃 描系統(tǒng)；激光器8安裝在放置平臺(tái)架4上，發(fā)出的激光剛好發(fā)射到45度全反鏡一 9上；激光器8采用的是二氧 化碳激光器，二氧化碳激光器的平均功率為50-100W， 本發(fā)明二氧化碳激光的平均功率為60W，中心波長(zhǎng)為10.64nm，整個(gè)設(shè)備的功率為 1.5KW,其工作幅面采用的是幅面為900mm*1200mm的寬幅面，來(lái)標(biāo)刻各種大小的平面 陶瓷或搪瓷、玻璃、鋁及合金，高光度的金屬材料；最大標(biāo)刻速度為7200mm/min。二氧化碳激光器發(fā)射的激光束沿水平X+方向射出經(jīng)過(guò)45度全反鏡一 9反射至Y-方向，經(jīng)過(guò)45度全反鏡二 10反射至X-方向，經(jīng)過(guò)45度全反鏡三11反射至Y-方 向，在經(jīng)過(guò)45度全反鏡四12反射至X+方向，在經(jīng)過(guò)45度全反鏡五13反射至Z-方向， 最后 經(jīng)過(guò)激光聚焦系統(tǒng)14到涂層表面，45度全反鏡五13是在X軸導(dǎo)軌6上左右滑動(dòng)， X軸導(dǎo)軌6沿Y軸導(dǎo)軌前后移動(dòng)、五個(gè)全反鏡組合體及激光聚焦系統(tǒng)14的左右前后移動(dòng) 形成了二維掃描系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了二維平面標(biāo)刻。
權(quán)利要求
1.一種激光上色標(biāo)刻方法，其特征在于包括如下步驟1)將酒精和水以質(zhì)量比為1 1 1 7進(jìn)行稀釋?zhuān)?)將顏料粉用稀釋好的酒精來(lái)調(diào)和出流體態(tài)，顏料粉和稀釋好的酒精的配比為 IOOmg IOOml IOOmg 350ml ；3)將調(diào)和好的顏料液體倒入噴槍內(nèi)，然后用噴槍把顏料液體噴射到材料的表面形成 涂層表面；或者將調(diào)和好的顏料液體絲印到材料的表面形成涂層表面；4)將涂好顏料液體的材料放入到烘烤箱內(nèi)，用65 160攝氏溫度烘烤，烘烤時(shí)間為 若干分鐘；5)把烘烤過(guò)后的材料放入到激光設(shè)備內(nèi)，從而使激光束照射到涂層表面，進(jìn)行標(biāo)刻；6)將標(biāo)刻好的材料放入清水里，用毛刷清洗，風(fēng)干或烘干。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光上色標(biāo)刻方法，其特征在于所述的涂層表面的 顏料來(lái)回不重貼地均勻地涂在材料的表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光上色標(biāo)刻方法，其特征在于所述的烘烤時(shí)間根 據(jù)材料的不同而不同陶瓷或搪瓷7-15min，玻璃5-1 Omin,鋁及合金4-12min，高光度金屬6-14min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光上色標(biāo)刻方法，其特征在于所述的激光束照射 到涂層表面的重復(fù)定位精度為士0.01mm。
5.—種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，包括放置平臺(tái)架、激光器、放置平臺(tái)架下方設(shè)置有廢料 接收箱，放置平臺(tái)架、激光器、廢料接收箱都內(nèi)置在機(jī)殼中，機(jī)殼通過(guò)支撐架安放在地 面上，其特征在于X軸導(dǎo)軌安置在放置平臺(tái)架上，傳動(dòng)皮帶套置在X軸導(dǎo)軌上，X軸導(dǎo)軌的兩端的Y 軸方向上設(shè)置有Y軸導(dǎo)軌，從而X軸導(dǎo)軌能沿Y軸導(dǎo)軌前后地移動(dòng)；激光器，發(fā)射出的激光束經(jīng)過(guò)多個(gè)全反鏡，最后經(jīng)過(guò)激光聚焦系統(tǒng)聚焦到涂層表面 進(jìn)行二維掃描標(biāo)刻。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，其特征在于所述的二維掃描標(biāo) 刻采用的是五個(gè)全反鏡，其中的45度全反鏡一、45度全反鏡二相互成90度設(shè)置在放置平 臺(tái)架上的一側(cè)；45度全反鏡三固定在放置平臺(tái)架上的另一側(cè)，45度全反鏡四固定在X軸 滑軌與Y軸導(dǎo)軌的交叉處的X軸導(dǎo)軌上，與45度全反鏡三互成90度；45度全反鏡五及 激光聚焦系統(tǒng)可左右滑動(dòng)的連接在X軸導(dǎo)軌上，X軸導(dǎo)軌前后的移動(dòng)、五個(gè)全反鏡及激 光聚焦系統(tǒng)形成了二維掃描系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，其特征在于所述的激光器采用 的是二氧化碳激光器，二氧化碳激光器的工作幅面采用的是幅面為900mm*1200mm的寬 幅面，來(lái)標(biāo)刻各種大小的平面陶瓷或搪瓷、玻璃、鋁及合金，高光度的金屬材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種激光上色標(biāo)刻設(shè)備，其特征在于所述的二氧化碳激 光器的平均功率為50—100W，中心波長(zhǎng)為10.64nm。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種激光上色標(biāo)刻方法及設(shè)備，涉及到激光防偽領(lǐng)域。將傳統(tǒng)無(wú)法做到或者防偽要求不理想的材料，如玻璃，陶瓷(搪瓷)，鋁及合金，高光度的金屬等材料均勻噴涂進(jìn)口的顏料粉，然后烘干，再用紅外光頻段波長(zhǎng)為10.64nm的氣體激光束照射在涂層表面，通過(guò)二維掃描系統(tǒng)全反偏轉(zhuǎn)，聚焦，標(biāo)刻任意圖文，標(biāo)刻完成后沖洗，留下的就是被激光束高溫?zé)鄣纳吓c基材融合物，對(duì)比度高，質(zhì)感好，永不脫落的圖文，是傳統(tǒng)加工無(wú)法比擬的。
文檔編號(hào)B41M5/00GK102019780SQ200910152858
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2009年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月18日
發(fā)明者俞國(guó)麟, 顏業(yè)志 申請(qǐng)人:寧波唯爾激光科技有限公司