專利名稱：：透光性導(dǎo)電膜、透光性電磁波屏蔽膜、濾光器和制造顯示過濾器的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種透光性導(dǎo)電膜。特別地，本發(fā)明涉及一種電磁波屏蔽材料，其能夠屏蔽從諸如陰極射線管(CRT)、等離子體顯示面板(PDP)、液晶顯示裝置、電致發(fā)光(EL)顯示裝置或場發(fā)射顯示裝置(FED)的顯示器正面、微波爐、電子器件、印刷線路板等產(chǎn)生的電磁波，并具有透光性，及其制造方法。本發(fā)明還涉及一種制造顯示過濾器的方法、由此得到的顯示過濾器和其中使川的電磁波屏蔽材料。更具體而言，本發(fā)明涉及一種制造顯示過濾器的方法，所述顯示過濾器含有能夠阻斷從等離子體顯示面板產(chǎn)生的電磁波的電磁波屏蔽材料，涉及由此得到的顯示過濾器和其中使用的電磁波屏蔽材料。
背景技術(shù)：
：隨著近來各種電氣設(shè)備和電子器件的使用的增加，電磁干擾(EMI)急劇增大。應(yīng)指出，EMI不僅在電子器件中引起機械故障和阻礙，而且對操作這些器件的工作人員的健康也有不利影響。因此，需要控制從電氣裝置/電子器件產(chǎn)生的電磁強度以不超過標(biāo)準(zhǔn)或規(guī)定水平。作為針以上述EMI的對策，需要屏蔽電磁波，顯然可以利用金屬不允許電磁透過的特性可實現(xiàn)這一點。因此，例如，已經(jīng)采用了使用由金屬或高導(dǎo)電材料制成的殼體的方法，在電路基板間插入金屬板的方法和用金屬箔涂布電纜的方法。然而，CRT、PDP等的顯示器應(yīng)該是透明的，因為操作人員應(yīng)確認(rèn)屏幕上顯示的字符等。然而，在上述每種方法中，顯示器的正面經(jīng)常變成不透明的，從而使這些方法不適于作為電磁波屏蔽方法。與CRT等相比，PDP產(chǎn)生大量電磁波。因此，要求PDP具有更強的電磁波屏蔽性能。電磁波屏蔽性能可以簡單地以表而電阻率表示。用于CRT的透光性電磁波屏蔽材料其表面電阻率應(yīng)為約300Q/sq或更小，用于PDP的透光性電磁波屏蔽材料其表面電阻率應(yīng)為約2.5Q/sq或更小。此外，用于消費者使用的等離子體TV用的透光性電磁波屏蔽材料應(yīng)具有極高導(dǎo)電性，即表面電阻率約1.5Q/sq或更小，優(yōu)選0.1Q/sq或更小。關(guān)于透明度，用于CRT的透光性電磁波屏蔽材料其透明度應(yīng)為約70%或更大，用于PDP的電磁波屏蔽材料其透明度更高，為80%或更大。為克服上述問題，已經(jīng)提出了使用具有開口的金屬網(wǎng)來獲得良好的電磁波屏蔽性能和高透明度的各種材料和方法，下而將進(jìn)行說明。(1)導(dǎo)電纖維例如，JP-A-5-327274(專利文獻(xiàn)l)公開了一種由導(dǎo)電纖維制成的電磁波屏蔽材料。然而，這種屏蔽材料面臨的問題在于，具有較寬的網(wǎng)狀線寬度，因此，在用于屏蔽顯示屏幕時，使屏幕變暗。其結(jié)果是，顯示器上所示的字符幾乎無法看到。(2)通過無電鍍方法得到的網(wǎng)狀已經(jīng)提出了一種方法，包括使用無電鍍催化劑印刷格子圖案，然后進(jìn)行無電鍍(參見例如，JP-A-11-170420(專利文獻(xiàn)2)和JP-A-05-283889(專利文獻(xiàn)3))。然而，在這種情況下，印刷的催化劑具有較寬的線寬，約60pm，這使得其不適于需要相對較窄線寬和精密圖案的顯不器。此外，已經(jīng)提出了一種方法，包括涂布含有無電鍍催化劑的光致抗蝕劑、曝光并顯影，形成無電鍍催化劑圖案，然后進(jìn)行無電鍍(參見例如，JP-A-11-170421(專利文獻(xiàn)4))。然而，導(dǎo)電膜的可見光透過率為72%，因此，這樣僅能獲得不充分的透明度。此外，該方法面臨的問題在于制造成本，即需要使用高價的鈀作為無電鍍催化劑，以除去曝光后的大部分曝光部。(3)使用照相平版印刷術(shù)通過蝕刻法得到的網(wǎng)狀已經(jīng)提出了一種方法，其中使用照相平版印刷術(shù)通過蝕刻法在透明基材上形成金屬網(wǎng)狀薄膜(參見例如，JP-A-2003-46293(專利文獻(xiàn)5)，JP-A-2003-23290(專利文獻(xiàn)6)，JP-A-5-16281(專利文獻(xiàn)7)，JP-A-10-338848(專利文獻(xiàn)8)等)。由于能夠進(jìn)行微加工，因而這種方法的優(yōu)點在于形成具有高開口率(高透過率)的網(wǎng)狀并能夠屏蔽更強的電磁釋放。另一方面，其面臨的問題在于，制造過程麻煩和復(fù)雜，因此，成本高。此外，已知的是，由于使用蝕刻過程，因而格子圖案的問題在于，交點的線寬比直線更寬。此外，已經(jīng)指出，這種方法面臨應(yīng)克服波紋的問題。(4)使用鹵化銀通過在導(dǎo)電金屬銀和顯影銀上鍍銅得到的網(wǎng)狀已經(jīng)提出了使用經(jīng)使鹵化銀顯影得到的導(dǎo)電金屬銀形成導(dǎo)電網(wǎng)狀的方法，或通過用金屬銅鍍經(jīng)使鹵化銀顯影得到的網(wǎng)狀顯影銀形成導(dǎo)電網(wǎng)狀的方法(參見例如，JP-A-2004-221564(專利文獻(xiàn)9))。特別地，顯示器已廣泛地用于個人電腦、監(jiān)視器等。此外，發(fā)展趨勢是薄型和大型化的顯示器。作為大型和薄型的顯示器，等離子體顯示面板已引起了公眾注意。然而，由于結(jié)構(gòu)和操作機理的原因，等離子體顯示面板會嚴(yán)重泄漏電磁波并產(chǎn)生近紅外線。根據(jù)ElectricalApplianceandMaterialSafetyLaw(電氣制品和材料安全法)，電磁波的產(chǎn)生應(yīng)調(diào)節(jié)在不超過標(biāo)準(zhǔn)水平。由于近紅外線影響周圍裝置，并引起機械故障，近紅外區(qū)(800-1000nm)內(nèi)的射線應(yīng)被切斷到在實用上不產(chǎn)生問題的水平。為屏蔽電磁波，需要用高導(dǎo)電物質(zhì)覆蓋顯示表面。這種覆蓋用的高導(dǎo)電物質(zhì)(即，電磁波屏蔽材料)應(yīng)是透明的，從而不會嚴(yán)重?fù)p壞顯示內(nèi)容。作為滿足這些要求的一種電磁波屏蔽材料，實際上已經(jīng)使用通過例如濺射在透明基休上形成由軾化物、金屬等構(gòu)成的透明多層薄膜而制造的電磁波屏蔽膜。然而，n前這些電磁波屏蔽膜的導(dǎo)電性仍不充分。因此，它們僅在需要低電磁波屏蔽性能的情況下用作電磁波屏蔽材料。作為另一種電磁波屏蔽材料，已經(jīng)使用通過在由聚合物薄膜構(gòu)成的基體上形成圖案化網(wǎng)狀金屬層而制造的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜。在該方法中，可以通過使用微加工技術(shù)如照相平版印刷術(shù)形成網(wǎng)狀圖案來獲得高透光性。此外，由于使用金屬形成網(wǎng)狀圖案，與使用透明多層薄膜的情況相比，可以獲得更高的電磁波屏蔽能力。當(dāng)導(dǎo)電物質(zhì)吸收電磁波時，在導(dǎo)電物質(zhì)上產(chǎn)生電荷。這樣產(chǎn)生的電荷使用導(dǎo)電物質(zhì)作為天線再次引起電磁波振蕩。除非這樣產(chǎn)生的電荷經(jīng)接地線快速逸出，否則會有電磁波泄漏的可能。[天1此，顯示過濾器的導(dǎo)電層應(yīng)與顯示1:體內(nèi)部電連接。具冇這些功能的顯示過濾器例如由JP-A-2002-323861(專利文獻(xiàn)IO)報道。在上述用于顯示過濾器中的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜中，需要使用尺寸適合顯示器顯示部的掩模，使每個顯示過濾器的金屬層圖案化。圖1示出之前使用的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜的例子。在圖1所示的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜與玻璃板的粘合中，應(yīng)根據(jù)顯示器規(guī)格放置圖案化網(wǎng)狀部和非網(wǎng)狀部。因此，花費大量時間粘合，使定位損失增大，這使得生產(chǎn)效率降低。即，這種導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜面臨生產(chǎn)成本的嚴(yán)重問題。此外，在圖1所示的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜中，用作顯示部的網(wǎng)狀部和用作連接顯示主體的非顯示部的非網(wǎng)狀部尺寸都固定。其結(jié)果是，引起另一個問題，某一規(guī)格的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜幾乎不能用于不同過濾器。專利文獻(xiàn)l:JP-A-5-327274專利文獻(xiàn)2:JP-A-11-170420專利文獻(xiàn)3:JP-A-5-283889專利文獻(xiàn)4:JP-A-11-170421專利文獻(xiàn)5:JP-A-2003-462934專利文獻(xiàn)6:JP-A-2003-23290專利文獻(xiàn)7:JP-A-5-16281專利文獻(xiàn)8:JP-A-10-338848專利文獻(xiàn)9:JP-A-2004-207001專利文獻(xiàn)10:JP-A-2002-323861
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明要解決的問題已知的是，通過使導(dǎo)電部接地，可以改進(jìn)EMI屏蔽材料的屏蔽能力。斷線的網(wǎng)狀通常具有不能接地的區(qū)域。因此，應(yīng)防止用作EMI屏蔽材料的區(qū)域斷線。另一方面，根據(jù)現(xiàn)有不包括上述纖維體系的形成網(wǎng)狀的方法，僅能制造在一定面積不斷線的網(wǎng)。這是因為，當(dāng)通過無電鍍銅方法形成網(wǎng)狀圖案時，通過諸如絲網(wǎng)印刷等印刷體系使電鍍催化劑核被圖案化，因此，在屏幕中或m陷的表面單元屮，網(wǎng)狀發(fā)生破損。在照相平版印刷術(shù)中，在曝光掩模單元中網(wǎng)狀發(fā)生破損。盡管JP-A-2004-207001公開了在曝光中使用內(nèi)部滾筒體系的圖像定位器，但是網(wǎng)狀在短于這種內(nèi)部滾筒體系的滾筒內(nèi)周的長度下發(fā)生破損。為了克服這些問題，例如，在制造用于PDP的導(dǎo)電材料時，使用的方法包括定位具有PDP模塊或濾光器材料的屏蔽材料的網(wǎng)狀無破損部，所述屏蔽材料被稱作正面板或窗口材料，并具有玻璃等作為基材。在該方法中，屏蔽材料的損失更大。即使在使用長片形的輥狀屏蔽材料來提高生產(chǎn)率的情況下，也花費長時間進(jìn)行定位，因而不能充分地提高生產(chǎn)速度。針對這些情況進(jìn)行本發(fā)明。即，本發(fā)明的第一個目的是提供一種可以制造同時具有良好EMI屏蔽性能和高透明度、并且沒有波紋的透光性導(dǎo)電膜并且能夠容易、便宜、大量地形成細(xì)線狀圖案的方法。本發(fā)明的另一個目的是提供一種其上形成有連續(xù)網(wǎng)狀圖案的電磁波屏蔽材料，從而降低屏蔽材料損失并提高生產(chǎn)率。考慮上述已知技術(shù)，本發(fā)明的另一個目的是提供一種以高生產(chǎn)效率和低成本制造顯示過濾器的方法。解決問題的手段本發(fā)明人從同時具有良好EMI屏蔽性能和高透明度的方面進(jìn)行了深入研究。其結(jié)果是，發(fā)現(xiàn)通過以下透光性電磁波屏蔽膜可以有效地實現(xiàn)上述第一目的，從而完成了本發(fā)明。針對上述第二目的進(jìn)行后續(xù)研究，本發(fā)明人還發(fā)現(xiàn)，通過使用電磁波屏蔽材料，其中在聚合物膜的一面上在機械加工方向連續(xù)形成網(wǎng)狀導(dǎo)電層，并切割網(wǎng)狀部，從而制造顯示過濾器，同一種電磁波屏蔽材料可適用于各種規(guī)格的過濾器，并且可以防止過程增多和由顯示部定位造成的材料損失，從而提高了生產(chǎn)效率。這樣，完成了本發(fā)明。因此，本發(fā)明的構(gòu)成如下。1.一種透光性導(dǎo)電膜，通過圖案化透明支持體上的導(dǎo)電金屬部和可見光透過部形成，其中所述導(dǎo)電金屬部由尺寸1pm-40pm的網(wǎng)形成細(xì)線構(gòu)成，所述網(wǎng)狀圖案連續(xù)3m或更長。2.—種透光性導(dǎo)電膜，通過圖案化透明支持體上的顯影的銀部和可見光透過部形成，并使所述顯影的銀部其上帶有導(dǎo)電金屬以形成導(dǎo)電金屬部，其中所述導(dǎo)電金屬部是由尺寸1(im-30p"n的細(xì)線形成的網(wǎng)狀，所述網(wǎng)狀圖案連續(xù)3m或更長。3.如項1或2所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述透明支持體是具有柔韌性、寬度2cm或更大、長度3m或更大和厚度200jam或更小的薄膜。4.如項l-3任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述網(wǎng)狀圖案是由基本上平行的直細(xì)線相互交叉構(gòu)成的圖案。5.如項l-4任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中在彎曲的曝光臺上輸送所述透明支持體的同時通過用激光束掃描曝光所述透明支持體進(jìn)行所述圖案化。6.如項5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的主掃描方向垂直于支持體輸送方向。7.如項5或6所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的光強度具有包括基本上0狀態(tài)的兩個或更多個值。8.如項l-4任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中使用與支持體輸送方向交叉的曝光頭進(jìn)行所述圖案化，所述曝光頭包括發(fā)射光束的照射單元；空間調(diào)制元件，用于調(diào)制所述照射單元發(fā)射的光束，包括根據(jù)各控制信號改變光調(diào)制狀態(tài)的多個象素部，所述象素部在所述支持體上排列成二維圖案；控制器，用于根據(jù)基于曝光數(shù)據(jù)形成的控制信號控制各象素部，所述象素部的數(shù)量比所述支持體上配置的象素部總數(shù)少；以及光學(xué)系統(tǒng)，用于使己被各象素部調(diào)制的光束的圖像聚焦在曝光面上。9.如項5-8任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中在使所述光束相對于輸送方向傾斜角度30。-60。時進(jìn)行掃描。10.如項9所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的光強度在所述圖案化過程中僅有1個值11.如項5-10任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的波長為420nm或更小。12.如項5-10任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的波長為600nm或更大。13.如項5-11任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的能量為1mJ/cm"或更小。14.如項2-13任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中通過使鹵化銀顯影形成所述顯影的銀部。15.如項1和3-13任一項所述的透光性導(dǎo)電膜，其中通過蝕刻銅箔形成所述導(dǎo)電金屬部。16.—種透光性電磁波屏蔽膜，其包括項1-15任一項所述的透光性導(dǎo)電膜。17.如項16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其具有粘合層。18.如項16或17所述的透光性電磁波屏蔽膜，其-A有可剝離的保護(hù)薄膜。19.如項16-18任一項所述的透光性電磁波屏蔽膜，其中黑色部分占所述導(dǎo)電圖案化面的總表面積的20%或更大。20.如項16-19任一項所述的透光性電磁波屏蔽膜，其包括具有選自以下一種或多種功能的功能透明層紅外線-屏蔽性能、硬涂布性能、抗反射性能、防眩性能、抗靜電性能、防污性、紫外線保護(hù)性能、氣體阻擋性能和顯示面板-防破損性能。21.如項16-20任一項所述的透光性電磁波屏蔽膜，其具有紅外線-屏蔽性能。22.—種濾光器，其具有項16-21任一項所述的透光性電磁波屏蔽膜。23.—種顯示過濾器，其使用項l-15任一項所述的透光性導(dǎo)電膜。24.如項23所述的顯示過濾器，其中彼此相對的至少兩個面的端部用作幾何圖案的導(dǎo)電部(whereinendsectionsofatleasttwosidesfacingeachotherserveasconductivepartsofageometricpattern)。25.如項24所述的顯示過濾器，其中使用黑色導(dǎo)電涂料形成電極。26.—種使用項1-15任一項所述的透光性導(dǎo)電膜制造顯示過濾器的方法，所述方法包括粘合寬度比所述透光性導(dǎo)電膜窄的具有壓敏粘合劑層的薄膜的步驟。27.如項26所述的制造顯示過濾器的方法，所述方法包括將已經(jīng)粘合到具有壓敏粘合劑層的薄膜上的所述透光性導(dǎo)電膜粘合到寬度比所述透光性導(dǎo)電膜寬的基材上的步驟。28.如項26或27所述的制造顯示過濾器的方法，所述方法包括將已經(jīng)粘合到具有壓敏粘合劑層的薄膜上的所述透光性導(dǎo)電膜粘合到基材上的步驟，其中進(jìn)行所述粘合，使所述透光性導(dǎo)電膜寬度方向的中心與所述基材的寬度方向的中心一致。29.如項27或28所述的制造顯示過濾器的方法，其中將功能薄膜粘合至所述基材的與具有所述透光性導(dǎo)電膜一側(cè)相對的一側(cè)上。30.如項29所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述功能薄膜其寬度比所述透光性導(dǎo)電膜窄。31.—種制造透光性導(dǎo)電膜的方法，所述方法包括在彎曲的曝光臺上輸送所述透明支持體的同時用激光束掃描曝光透明支持體；以及形成網(wǎng)狀圖案，其包括由尺寸1pm-40pm的形成網(wǎng)狀的細(xì)線構(gòu)成的導(dǎo)電金屬部和可見光透過部，并連續(xù)3m或更長。32.如項31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述導(dǎo)電金屬部是顯影的銀部。33.如項32所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中使所述顯影的銀部上帶有導(dǎo)電金屬形成所述導(dǎo)電金屬部。34.如項32或33所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中通過使鹵化銀顯影形成所述顯影的銀部。35.如項31-34任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中通過蝕刻銅裕形成所述導(dǎo)電金屬部。36.如項31-35任--項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中使用光束的主掃描方向與支持體輸送方向交義的曝光頭進(jìn)行曝光。37.如項31-36任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中在使所述光束相對于輸送方向傾斜角度30。-60。時進(jìn)行所述掃描。38.如項31-37任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的光強度在所述圖案化過程中僅有1個值。39.如項31-38任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的波長為420nm或更小。40.如項31-39任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的波長為600nm或更大。41.如項31-40任一項所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的能量為1mJ/cn^或更小。42.—種制造顯示過濾器的方法，其中彼此相對的至少兩個面的端部用作幾何圖案的導(dǎo)電部，使用電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成具有幾何圖案的導(dǎo)電部的導(dǎo)電層(B)，其中所述幾何圖案的導(dǎo)電部在所述聚合物薄膜(A)的機械加工方向連續(xù)形成，所述幾何圖案的導(dǎo)電部是線寬1-50pm和間隔30-500的網(wǎng)狀，所述導(dǎo)電層(B)的表面電阻率為0.01-1Q/口，以及其中所述方法至少包括切斷所述幾何圖案的導(dǎo)電部的步驟。43.如項42所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述電磁波屏蔽材料(C)包括導(dǎo)電層(B),其中通過在所述聚合物薄膜(A)的一面上使用導(dǎo)電物質(zhì)(B1)形成幾何圖案并將導(dǎo)電物質(zhì)(B2)附著在所述幾何圖案上來形成所述導(dǎo)電部。44.如項42所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述電磁波屏蔽材料(C)包括導(dǎo)電層(B)，其中通過粘合層(B3)使所述聚合物薄膜(A)粘合到金屬箔(B4)上，然后處理所述金屬箔(B4)，形成所述幾何圖案的導(dǎo)電部。45.如項42-44任一項所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述導(dǎo)電層(B)的至少一面呈黑色或黑棕色。46.—種顯示過濾器，其通過項42-45任一項所述的制造方法得到。47.如項46所述的顯示過濾器，其用于等離子體顯示面板中。48.—種在如項42-45任一項所述的制造顯示過濾器的方法中所用的電磁波屏蔽材料，其是電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成具有幾何圖案的導(dǎo)電部的導(dǎo)電層(B)，其中所述幾何圖案的導(dǎo)電部在所述聚合物薄膜(A)的機械加工方向連續(xù)形成，所述幾何圖案的導(dǎo)電部是線寬1-50nm和間隔30-500pm的網(wǎng)狀，所述導(dǎo)電層(B)的表面電阻率為0.01-1Q/口。發(fā)明效果本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)容易、便宜、大量地形成細(xì)線狀圖案的方法。根據(jù)該方法，可以提供同時具有良好EMI屏蔽性能和高透明度、沒有波紋、形成有連續(xù)網(wǎng)狀圖案的透光性導(dǎo)電膜，從而降低屏蔽材料損失并提高生產(chǎn)率。根據(jù)本發(fā)明，還可以使用生產(chǎn)效率極高但僅需低成本的方法來提供顯示過濾器。圖1是顯示根據(jù)已知技術(shù)制造的導(dǎo)電網(wǎng)狀膜的平面圖的例子。圖2是從導(dǎo)電層(B)側(cè)觀察時，本發(fā)明電磁波屏蔽材料(C)的平面示意圖，其中導(dǎo)電網(wǎng)狀圖案(B)形成在聚合物薄膜(A)的整個面上。圖3是從導(dǎo)電層(B)側(cè)觀察時，本發(fā)明電磁波屏蔽材料(C)的平面示意圖，其中除了與聚合物薄膜(A)的機械加工方向平行的端部，導(dǎo)電層(B)的網(wǎng)狀圖案在聚合物薄膜(A)上連續(xù)形成。圖4是根據(jù)本發(fā)明制造的顯示過濾器的例子(實施例2-l)的截面示意圖。圖5是根據(jù)本發(fā)明制造的顯示過濾器的例子(實施例2-2)的截面示意圖。圖6是根據(jù)本發(fā)明制造的集成有過濾器的等離子體顯示面板的例子(實施例2-3)的截面示意圖。圖7是根據(jù)本發(fā)明制造的顯示過濾器的例子(實施例2-4)的截面示意圖。附圖標(biāo)記說明10電磁波屏蔽材料(C)11導(dǎo)電層(B)的網(wǎng)狀部12導(dǎo)電層(B)的非網(wǎng)狀部13聚合物薄膜(A)14粘合層(B3)20透明壓敏粘合劑材料(D1)30透明支持層(F)40透明壓敏粘合劑材料(D2)50功能薄膜(E)51含有近紅外吸收劑的層(E)52硬涂JS以及具冇抗靜電和防污竹:的抗反射J253能夠切斷紫外線的聚合物薄膜60銀槳電極70等離子體顯示面板具體實施方式下面，詳細(xì)說明實現(xiàn)本發(fā)明第一目的透光性電磁波屏蔽膜及其制造方法。在數(shù)值之間插入的術(shù)語"至"其含義包括在其之前和之后分別作為下限和上限的數(shù)值。形成連續(xù)網(wǎng)狀圖案的方法的例子包括印刷、噴墨、熱轉(zhuǎn)印等。在印刷的情況下，應(yīng)以卩n版印刷方法、凸版印刷力'法或任何其他方法使用其上形成冇無縫連續(xù)圖案的圓筒狀印刷板。需要幾到十幾i^im的細(xì)線以幾百)im的間隔排列，并且在繞印刷板后，每一細(xì)線連接至其本身的端部。然而，極難構(gòu)造這種印刷板，并且得到的具有這些細(xì)線的印刷板具有不充分的耐印刷性。另一方面，通過噴墨方法或熱轉(zhuǎn)印方法僅能獲得不充分的分辨率，因此，幾乎不能繪制幾iam的連續(xù)線。本發(fā)明人進(jìn)行了深入研究，發(fā)現(xiàn)用激光束繪制細(xì)線最適用于形成連續(xù)網(wǎng)狀圖案。然而，在幾百到幾千米的長度和幾米的寬度內(nèi)重復(fù)繪制精密細(xì)線的情況下，面臨的問題在于，由于輸送時的振動或輸送速度的微小變化，寬度和間隔將發(fā)生變化。為克服此問題，本發(fā)明人進(jìn)行了進(jìn)一步研究。其結(jié)果是，發(fā)現(xiàn)通過平行于激光束的主掃描方向提供彎曲的曝光臺(更具體而言，曝光輥)可以特別有效地解決此問題，這種曝光臺在穿過支持體的相對側(cè)上具有均勻表面，其中激光束在曝光面上聚焦圖像。優(yōu)選的是，曝光輥由金屬制成。幾乎不發(fā)生熱變形并保持與鏡面相當(dāng)?shù)谋砻婀饣鹊牟牧鲜莾?yōu)選的。還優(yōu)選的是曝光輥的直徑為5cm或更大但不超過1mm，更優(yōu)選10cm或更大但不超過50cm。通過使在支持體上具有含鹵化銀的乳液iS的感光材料曝光，然后進(jìn)行顯影過程，分別在曝光區(qū)和未曝光區(qū)形成金屬銀部和透光性部，對金屬銀部施加物理顯影和/或電鍍處理，從而使金屬銀部帶有導(dǎo)電金屬，這樣制得本發(fā)明的透光性導(dǎo)電膜。形成本發(fā)明透光性導(dǎo)電膜的方法根據(jù)使用的感光材料和顯影處理包括以下三種模式。(1)一種其中使沒有物理顯影核的感光鹵化銀單色感光材料進(jìn)行化學(xué)顯影或熱顯影，從而在感光材料上形成金屬銀部的模式。(2)—種其中使在鹵化銀乳液層中含有物理顯影核的感光鹵化銀單色感光材料進(jìn)行溶解物理顯影，從而在感光材料上形成金屬銀部的模式。(3)—種其中疊置沒有物理顯影核的感光鹵化銀單色感光材料和具有含物理顯影核的非感光層的圖像接受片，進(jìn)行擴散轉(zhuǎn)印顯影，從而在非感光圖像接受片上形成金屬銀部的模式。在--體化的單色顯影型的實施方案(l)中，在感光材料上形成透光性導(dǎo)電膜，如透光性電磁波屏蔽膜或光透明性導(dǎo)電膜。這樣得到的顯影的銀是具有大比表面積的細(xì)絲形式的化學(xué)顯影的銀或熱顯影的銀。因此，在物理顯影過程中，后續(xù)電鍍是高度活性的。在實施方案(2)中，鹵化銀顆粒在物理顯影核周圍溶解，并沉積在物理顯影核上。因此，在感光材料上形成透光性導(dǎo)電膜，如透光性電磁波屏蔽膜或光透明性導(dǎo)電膜。這種模式也落入一體化單色顯影型類別中。盡管顯影處理使得在物理顯影核上沉積并因而獲得高活性，但是顯影的銀是具有小表面積的球形。在實施方案(3)中，鹵化銀顆粒溶解并擴散，然后在物理顯影核上沉積。因此，在圖像接受片上形成透光性導(dǎo)電膜，如透光性電磁波屏蔽膜或光透明性導(dǎo)電膜。這種模式落入單獨型類別，即在使用之前從感光材料剝離圖像接受片。在這些模式的各自中，可以選擇負(fù)型顯影或反轉(zhuǎn)顯影(在擴散轉(zhuǎn)印體系中，可以使用自動正型感光材料作為感光材料來進(jìn)行負(fù)型顯影)。本說明書中，術(shù)語"化學(xué)顯影"、"熱顯影"、"溶解物理顯影"和"擴散轉(zhuǎn)印顯影"具有本領(lǐng)域常用的含義。這些術(shù)語通常示T"光化學(xué)教科書中，例如，S/箭//"尺，A:w，ShinichiKikuchi(KyoritsuShuppan，1955)禾口7T7e777W>"o/尸/70tog廠"p/1/c/Vocesses，第4版，C.E.K.Mees(Mcmillan，1977)編。盡管這里使用液體處理，但是其他申請中的熱顯影體系也可用作顯影體系。即，例如JP-A-2004-184693、JP畫A-2004匿334077、JP-A-2005-010752、日本專利申請2004-244080和日本專利申請2004-085655。<感光材料>[支持體]作為本發(fā)明使用的感光材料的支持體，可以使用塑料薄膜、塑料板、玻璃板等。作為上述塑料薄膜和塑料板的材料，可以使用例如，聚酯，如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)和聚萘二甲酸乙二醇酯；聚烯烴，如聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯和EVA;乙烯基-基樹脂，如聚氯乙烯和聚偏二氯乙烯；聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸酯樹脂、三乙?；w維素(TAC)等。在本發(fā)明中，從透明度、耐熱性、易處理性和成本的角度，優(yōu)選上述塑料薄膜是聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜或三乙酰基纖維素(TAC)薄膜。由于顯示器用的電磁波屏蔽材料應(yīng)是透明的，因而優(yōu)選的是支持體具有高透明度。在這種情況下，塑料薄膜或塑料板的總可見光透過率優(yōu)選為70-100%，更優(yōu)選85-100%，特別優(yōu)選卯-100%。在本發(fā)明中，還可以使用已被著色但其程度不會干擾實現(xiàn)本發(fā)明目的的塑料薄膜或塑料板。本發(fā)明使用的塑料薄膜或塑料板可以是單層的或包括結(jié)合在一起的兩層或更多層的多層的。在本發(fā)明中使用玻璃板作為支持體的情況下，玻璃的種類沒^r特別限制。在用作顯示器用電磁波屏蔽膜的情況下，優(yōu)選使用在表面上設(shè)有硬化層的硬化玻璃。與非硬化玻璃相比，硬化玻璃可以防止破損。從安全性的觀點來看，通過氣冷方法得到的硬化玻璃是更優(yōu)選的，因為在破碎時，其碎成沒有銳利邊緣的小片。[保護(hù)層]這里使用的感光材料可以具有形成在后述乳液層上的保護(hù)層。本說明書中，術(shù)語"保護(hù)層"指如下的層，其由粘結(jié)劑如或明膠或高分子聚合物構(gòu)成并形成在感光乳液層上，從而賦予防擦傷作用并改進(jìn)機械性能?？紤]到電鍍處理，優(yōu)選的是不形成保護(hù)層或如果形成也使其厚度最小。保護(hù)層的厚度優(yōu)選0.2iLim或更小?？梢酝ㄟ^任何公知的涂布方法形成保護(hù)層，沒有限制。[乳液層]優(yōu)選的是本發(fā)明的制造方法中使用的感光材料在支持體上具有乳液層(含有銀鹽的層)，其含有銀鹽作為光傳感器。除了銀鹽之外，本發(fā)明的乳液層可以任選地含有染料、粘結(jié)劑、溶劑等。<染料>感光材料可以至少在乳液層中含有染料。由于各種目的將染料加到乳液層中，即作為過濾器染料，用于防止照射等。作為染料，可以含有固體分散染料。本發(fā)明優(yōu)選使用的染料的例子包括在JP-A-9-179243中記載的通式(FA)，(FA1)，(FA2)和(FA3)所代表的染料。更具體而言，該專利文獻(xiàn)中記載的化合物F1-F34是優(yōu)選的。此外，可以優(yōu)選使用在JP-A-7-152112中記載的染料(H-2)-(II-24)，在JP-A-7-152112中記載的染料(m-5)-(III-18)，在JP-A-7-152112中記載的染料(IV-2)-(IV-7)等。作為在本發(fā)明中使用的染料的其他例子，可以例舉的有在顯影或定影過程中瀝濾的微粒形式的固體染料，如在JP-A-3-138640中記載的菁染料.、吡喃鹽染料和季銨鹽染料。在處理中未脫色的染料的例子包括在JP-A-9-96891中記載的具有羧基的菁染料、在JP-A-8-245902中記載的沒有酸基團(tuán)的菁染料、在JP-A-8-333519中記載的色淀型菁染料、在JP-A-1-255536中記載的菁染料、在JP-A-3-136038中記載的空孔型菁染料、在JP-A-62-299959中記載的吡喃鹽染料、在JP-A-7-253639中記載的聚合物型菁染料、在JP-A-2-282244中記載的oxonol染料的微粒分散體、在JP-A-63-131135中記載的光散射顆粒、在JP-A-9-5913中記載的Yb3+化合物、在JP-A-7-l13072中記載的ITO粉末等。此外，可以使用在JP-A-9-179243中記載的通式(F1)和(F2)所代表的染料，更具體而言，在該專利文獻(xiàn)中記載的化合物F35-F112。上述染料包括水溶性染料。這些水溶性染料的例子包括oxonol染料、苯亞甲基染料、melocyanine染料、菁染料和偶氮染料。其中，oxonol染料、hemioxonol染料和苯亞甲基染料在本發(fā)明中是特別有用的。本發(fā)明中使用的水溶性染料的具體例子包括在英國專利584,609、同上1,177,429、JP-A-48-85130、JP-A-49-99620、JP腸A-49-l14420、JP-A-52-20822、JP-A-59-154439、JP-A-59-208548、US專利2,274,782、同上2，533，472、同上2、956,879、同上3,148,187、同上3,177,078、同上3,247,127、同上3,540,887、同上3,575,704、同上3,653,905和同上3,718,427中記載的那些。從防止照射的效果和因含量增加而使敏感度下降的觀點來看，乳液層中的染料含量優(yōu)選0.01-10重量％，更優(yōu)選0.1-5重量％。<銀鹽〉作為在本發(fā)明中使用的銀鹽，可以例舉的有無機銀鹽，如鹵化銀。在本發(fā)明中優(yōu)選使用作為光傳感器具有優(yōu)異特性的鹵化銀。下面，說明本發(fā)明優(yōu)選使用的鹵化銀。在本發(fā)明中優(yōu)選使用起到光傳感器作用的鹵化銀。因此，關(guān)于已經(jīng)用在鹵化銀光薄膜、照相紙、制版薄膜、光掩模用乳化掩模等中的鹵化銀技術(shù)也適用于本發(fā)明。上述商化銀中所含的鹵元素可以是氯、溴、碘和氟中的任一種。此外，可以使用這些元素的組合。例如，優(yōu)選使用的鹵化銀包括AgCl、AgBr或Agl作為主要成分。還優(yōu)選使用氯化銀和溴化銀的混合物，碘化銀、氯化銀和溴化銀的混合物，或碘化銀和溴化銀的混合物。更優(yōu)選使用氯化銀和溴化銀的混合物，溴化銀，碘化銀、氯化銀和溴化銀的混合物，或碘化銀和溴化銀的混合物。最優(yōu)選使用含有50摩爾％或更多氯化銀的氯化銀和溴化銀的混合物或碘化銀、氯化銀和溴化銀的混合物。本說明書中，表述"含有AgBr(溴化銀)作為主要成分的鹵化銀"指卣化銀組合物中溴離子的摩爾比達(dá)到50%或更大的鹵化銀。除了溴離子之外，含有AgBr作為主要成分的鹵化銀顆?？梢院袖咫x子和氯離子。卣化銀是固體顆粒形式?？紤]到曝光和顯影后形成的圖案化金屬銀層中的圖像質(zhì)量，優(yōu)選的是以相應(yīng)球的直徑表示的平均粒徑為0.1-1000nm(1|im)，更優(yōu)選0.1-100nm，再更優(yōu)選l-50nm。卣化銀顆粒的"相應(yīng)球的直徑"指具有相同體積的球狀顆粒的直徑。卣化銀顆粒的形狀沒有特別限制。即，它們可以是各種形狀，如球狀、立方體狀、平板狀(六邊形板、三角形板、四方形板等)、八面體狀、14-面體狀等。立方體狀或14而體狀是優(yōu)選的。鹵化銀顆?？梢杂蓛?nèi)部和作為均勻相的表面構(gòu)成?？蛇x擇地，其可以具有鹵素組成不同的局部層作為內(nèi)部或表面。在本發(fā)明的乳液層中用作涂布溶液的鹵化銀乳液可以使用例如記載在G.Glafkides，C7z/m/eef尸/^w々we尸/zc^ogra//w々we(PaulMontel，1997)，G.F.Dufin，尸/20ogra//2/cEww/w.owCTzeAw&^y(TheForcalPress,1966)，V丄.Zelikman等人，Mah'"gCo加'"g尸/zo/ogra//7/cEwiz/s/ow(TheForcalPress,1964)等中的方法制備。作為制備上述鹵化銀乳液的方法，可以使用酸性方法或中性方法。作為使可溶性銀鹽與可溶性鹵素鹽反應(yīng)的方法，可以使用單側(cè)混合方法、同吋混合方法或其組合。為形成銀顆粒，還可以使用在過量銀離于存在下形成顆粒的方法(即，所謂的逆混合方法)。此外，作為同時混合方法之一，可以使用其中pAg在用于形成鹵化銀的液相中保持恒定水平的方法，即所謂的控制雙噴射方法。還優(yōu)選的是使用所謂的鹵化銀溶劑如氨水、硫醚或四取代的硫脲形成顆粒。在這些方法中，特別優(yōu)選使用在JP-A-53-82408和JP-A-55-77737中記載的四取代的硫脲化合物。四取代的硫脲化合物的優(yōu)選例子包括四甲基硫脲和1，3-二甲基-2-咪唑啉硫酮。盡管鹵化銀溶劑的加入量隨所需粒徑和卣素組成變化，但優(yōu)選為l(T5-10'2mOl/mol鹵化銀。通過使用上述控制雙噴射方法或利用鹵化銀溶劑形成顆粒的方法，可以容易地得到具有規(guī)則晶型和較窄粒徑分布的鹵化銀乳液。因此，這些方法優(yōu)選用于本發(fā)明中。為使粒徑均勻，優(yōu)選的是使銀通過使用如下方法在不超過臨界飽和度的范圍內(nèi)快速生長在英國專利1,535,016、JP-B-48-36890和JP-B-52-16354中記載的根據(jù)顆粒生長速度改變氮化銀或堿金屬卣化物加入速度的方法，或在英國專利4,242,445和JP-A-55-158124中記載的改變水溶液濃度的方法。形成本發(fā)明的乳液J2中所用的卣化銀乳液優(yōu)選是單分散的乳液，優(yōu)選U粒徑的標(biāo)準(zhǔn)偏差)/(平均粒徑MxlOO代表的變化系數(shù)為20%或更小，更優(yōu)選15%或更小，最優(yōu)選10%或更小。本發(fā)明使用的鹵化銀乳液可以是具有不同的粒徑的多種卣化銀乳液的混合物。本發(fā)明使用的鹵化銀乳液可以含有屬于VIII或VIIB族的金屬。為獲得高對比和低霧度，特別優(yōu)選的是含有銠化合物、銥化合物、釕化合物、鐵化合物、鋨化合物等。這些化合物可以具有各種配體。配體的例子包括氰根離子、鹵素離子、硫氰酸根離子、亞硝酰離子、這些擬鹵素和氨水以及有機分子如胺(甲基胺、乙二胺等)、雜環(huán)化合物(咪唑、噻唑、5_甲基噻唑、巰基咪唑等)、脲和硫脲。為提高感光度，冇利的是使用金屬六氰配合物摻雜劑，如K4[Fe(CN)6]、K4[Ru(CN)6]或K3[Cr(CN)6]。作為上述銠化合物，本發(fā)明中可以使用水溶性銠化合物。水溶性銠化合物的例子包括鹵化銠(III)、六氯銠(m)配合鹽、五氯aco銠配合鹽(pentachloroacorhodiumcomplexsalt)、四氯diagno牽老酉己合鹽(tetrachlorodiagnorhodiumcomplexsalt)、六溴銠(III)配合鹽、六胺銠(III)配合鹽、三草酸合銠(III)配合鹽和K3Rh2Br9。通過在水或適合的溶劑中溶解使用這種銠化合物。還可以使用常用方法以穩(wěn)定銠化合物的溶液，即加入鹵化氫(如鹽酸、氫溴酸或氫氟酸)或堿金屬鹵化物(如KC1、NaCl、KBr或NaBr)水溶液的方法。代替水溶性銠化合物的是，在制備鹵化銀時，還可以加入并溶解用銠摻雜的其他卣化銀顆粒。上述銥化合物的例子包括六氯銥配合鹽如K2lrCl6或K3IrCl6、六溴銥配合鹽、六胺銥配合鹽和五氯nitrisil銥配合鹽(pentachloronitrisiliridiumcomplexsalt)。上述釕化合物的例子包括六氯釕、五氯亞硝?；懞蚄4[Ru(CN)6]。上述鐵化合物的例子包括六氰合鐵(II)酸鉀和硫氰酸亞鐵。如在JP-A-63-2042、JP-A-1-285941、JP-A-2-20852和JP-A-2-20855中所述，以水溶性配合鹽形式加入釕或鋨。作為特別優(yōu)選的例子，可以舉出下式所代表的6-配位配合物-n其中M代表Ru或Os;n代表0、1、2、3或4。在這種情況下，反離子并不重要，例如可以是堿金屬離子的銨。此外，配體的優(yōu)選例子包括鹵化物配體、氰化物配體、氧氰化物配體、亞硝酰基配體和硫代亞硝?；潴w。接下來，示出本發(fā)明所用的配合物的具體例子，但本發(fā)明不限于這些例子。-1、[RuCl5(NO)]-2、[RuBr5(NS)]-2、[Ru(CO)3Cl3r2、[Ru(CO)Cl5;T2、[Ru(CO)Br5]-2、[OsCl6;T3、[OsCl5(NO)r2、[Os(NO)(CN)5]—2、[Os(NS)Br5]-2、[Os(CN6)r4和[Os(0)2(CN)5]-4。所述化合物優(yōu)選加入量為每摩爾鹵化銀10"、l(r2mol/mol.Ag，更優(yōu)選IO義I(T3mol/mol.Ag。還優(yōu)選的是，在本發(fā)明中使用含有Pd(II)離子禾P/或Pd金屬的鹵化銀。Pd可以均勻分布在鹵化銀顆粒內(nèi)，但優(yōu)選包含在鹵化銀顆粒的表面層附近。術(shù)語Pd"包含在鹵化銀顆粒的表面層附近"是指鹵化銀顆粒具有鈀含量比其他層更高的層，該層距鹵化銀顆粒表面的深度50nm。通過在形成鹵化銀顆粒的過程中加入Pd可以制備這種鹵化銀顆粒，優(yōu)選的是在加入超過總加入量50%的銀離子和鹵素離子之后加入Pd。還優(yōu)選的是通過在后熟化階段中加入Pd(II)離子，使Pd(II)離子存在于鹵化銀的表面層中。這種含有Pd的鹵化銀顆粒增大了物理顯影或無電鍍速度，從而改進(jìn)了所需電磁波屏蔽材料的制造效率。其結(jié)果是，有助于降低制造成本。Pd是眾所周知的，并用作無電鍍的催化劑，并且在本發(fā)明中，可以在鹵化銀顆粒的表面層中使Pd局部化，從而節(jié)省極昂貴的Pd。在本發(fā)明中，相對于鹵化銀中的銀的摩爾數(shù)，在l萄化銀中的Pd離子和/或Pd金屬優(yōu)選含量為10—4-0.5mole/mol.Ag，更優(yōu)選0.01-0.3mole/mol.Ag。使用的Pd化合物的例子包括PdCU和Na2PdCl4。在本發(fā)明中，可以進(jìn)行在照相乳液中實施的化學(xué)增感，從而進(jìn)一步改進(jìn)作為光傳感器的感光度。作為化學(xué)增感，可以使用硫?qū)僭卦龈腥缌蛟龈?、硒增感或碲增感，貴金屬增感如金增感，或還原增感。所述增感可以單獨使用或組合使用。在使用上述化學(xué)增感組合的情況下，例如，硫增感和金增感的組合，硫增感、硒增感和金增感的組合，或硫增感、碲增感和金增感的組合是優(yōu)選的。通常通過加入硫增感劑并在40°C以上的高溫下攪拌乳液一定時間來進(jìn)行硫增感。作為硫增感劑，可以使用已知的硫化合物，例如，明膠中所含的硫化合物或各種硫化合物如硫代硫酸鹽、硫脲、噻唑或繞丹寧。優(yōu)選的硫化合物是硫代硫酸鹽或硫脲化合物。硫增感劑的加入量隨例如化學(xué)熟化時的pH和溫度、鹵化銀的粒徑等各種條件變化，并優(yōu)選為10-7-10-2mol/mo1鹵化銀，更優(yōu)選1(T5-1(T3mol。作為硒增感中使用的硒增感劑，可以使用已知的硒化合物。通常通過加入不穩(wěn)定的和/或非不穩(wěn)定的硒化合物并在40°C以上的高溫下攪拌乳液一定時間來進(jìn)行硒增感。作為不穩(wěn)定的硒化合物，可以使用在JP-B-44-15748、JP-B-43-13489、JP-A-4-109240和JP-A-4-324855中記載的那些。特別優(yōu)選的是使用JP-A-4-324855的通式(VIII)和(IX)所代表的化合物。在碲增感中使用的碲增感劑是能夠在鹵化銀顆粒表面或內(nèi)部產(chǎn)生碲化銀的化合物，猜想碲化銀構(gòu)成增感核。鹵化銀乳液中的碲化銀產(chǎn)生速度可通過在JP-A-5-313284中記載的方法測試。所述化合物的具體例子包括在USPNo.1,623,499、同上No.3，320，069、同上No.3,772,031、英國專利No.235,211、同上No.1,121,496、同上No.1,295,462、同上No.1，396,696、加拿大專利No.800,958、JP-A-4-204640、JP-A-4-271341、JP-A-4-333043、JP-A-5-303157、《/CTe附.Soc.CTe附.Cowww".、635(1980)、同上1102(1979)、同上645(1979)、C/7e"7Soc.Pe廠h".7ra肌、1,2191(1980)、S.Patai、7TeC7iem/s^yo/0"gaw/c5"e/ew/:wwawt/Com/o"w^，Vol.I(1986)和同上Vol.2(1987)中記載的那些。其中，JP-A-5-313284的通式(II)、(III)和(IV)所代表的化合物是優(yōu)選的。本發(fā)明使用的硒增感劑或碲增感劑的量隨所用的鹵化銀顆粒和化學(xué)熟化條件變化。通常，其范圍為l(rM(r2mol/mol鹵化銀，優(yōu)選10:10_3mol。本發(fā)明的化學(xué)增感的條件沒有特別限制，但通常在pH5-8，pAg6-11、優(yōu)選7-10，溫度40-95。C，優(yōu)選45-85。C下進(jìn)行。作為貴金屬增感劑，可以使用金、鉑、鈀或銥，其中金增感是特別優(yōu)選的。金增感中使用的金增感劑例子包括氯金酸、氯金酸鉀、金硫代氰酸鉀、硫化金、硫代葡萄糖金(I)和硫代甘露糖金(I)。金增感劑用量約10'7-約10—2mol/mol鹵化銀。在本發(fā)明使用的鹵化銀乳液中，在鹵化銀顆粒形成或物理熟化中可以包括鎘鹽、亞硫酸鹽、鉛鹽或鉈鹽。在本發(fā)明中，還可以使用還原增感。作為還原增感劑，可以使用亞錫鹽、胺、甲脒亞磺酸或硅烷化合物。在鹵化銀乳液中，可以含有硫代磺酸化合物。鹵化銀乳液可以通過在歐洲專利(EP)No.293917中記載的方法含有硫代磺酸化合物。在制備本發(fā)明的感光材料中使用的鹵化銀乳液可以是一種乳液或兩種或多種乳液的組合(例如，平均粒徑、鹵素組成、結(jié)晶態(tài)、化學(xué)增感條件或感光度不同的那些)。為獲得高對比度，如在JP-A-6-324426中記載的，優(yōu)選的是在基材附近涂布高感光度的乳液。<粘結(jié)劑>在乳液層中，可以使用粘結(jié)劑，以均勻分散銀鹽顆粒并有助于乳液層和基材之間的粘合。作為在本發(fā)明中的粘結(jié)劑，非水溶性聚合物或水溶性聚合物都適用，但水溶性聚合物是優(yōu)選的。粘結(jié)劑的例子包括明膠、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、多糖如淀粉、纖維素及其衍生物、聚環(huán)氧乙烷、多糖、聚乙烯基胺、殼聚糖、聚賴氨酸、聚丙烯酸、聚褐藻酸、聚透明質(zhì)酸、羧基纖維素等。這些材料根據(jù)官能團(tuán)的離子性能A有屮性、陰離子或陽離子性能。乳液層中含有的粘結(jié)劑的量沒有特別限制，可以在發(fā)揮分散性和粘合性的范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)剡x擇。<溶劑>形成上述乳液層中使用的溶劑沒有特別限制。例如，可以使用水、有機溶劑(例如醇如甲醇、酮如丙酮、酰胺如甲酰胺、亞砜如二甲基亞砜、酯如乙酸乙酯、或醚)、離子液體或其混合物。在本發(fā)明的乳液層中，相對于乳液層中所含的銀鹽、粘結(jié)劑等的總重量，所用溶劑量為30-90重量％，優(yōu)選50-80重量％。<各個步驟>[曝光]在本發(fā)明中，對在支持體上設(shè)置的含有銀鹽的層或用照相平版印刷光聚合物涂布的感光層進(jìn)行曝光?？梢杂秒姶派渚€進(jìn)行曝光。電磁射線可以是例如可見光、例如紫外光的光或射線如X-射線?？梢允褂镁哂胁ㄩL分布的光源或特定波長的光源進(jìn)行l(wèi)展光。作為光源，在需耍時，可以使用在可見光譜區(qū)表現(xiàn)出光發(fā)射的各種發(fā)光物質(zhì)。例如，紅色發(fā)光物質(zhì)、綠色發(fā)光物質(zhì)或藍(lán)色發(fā)光物質(zhì)可以單獨使用或以兩種或多種的混合物使用。光譜區(qū)不限于上述紅色、綠色和藍(lán)色區(qū)，還可以使用在黃色、橙色、紫色或紅外區(qū)發(fā)光的發(fā)光物質(zhì)。特別地，經(jīng)常使用通過混合這些發(fā)光物質(zhì)發(fā)白光的陰極射線管。紫外線燈也是優(yōu)選的，還可以使用水銀燈的g-線或i-線。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是使用各種激光束進(jìn)行曝光。例如，優(yōu)選通過掃描曝光方法進(jìn)行本發(fā)明的曝光，其中使用氣體激光器、發(fā)光二極管、半導(dǎo)體激光器、由使用半導(dǎo)體激光器作為激勵光源的半導(dǎo)體激光器或固態(tài)激光器與非線性光學(xué)晶體的組合構(gòu)成的第二諧波產(chǎn)生器(SHG)的單色高密度光。此外，還可以使用KrF受激準(zhǔn)分子激光器、ArF受激準(zhǔn)分子激光器或F2激光器。為獲得緊湊和便rt的系統(tǒng)，優(yōu)選的是使用半導(dǎo)體激光器或由半導(dǎo)體激光器或固態(tài)激光器與非線性光學(xué)晶體的組合構(gòu)成的第二諧波產(chǎn)生器(SHG)進(jìn)行曝光。為了設(shè)計特別緊湊、便宜、長壽命和高度穩(wěn)定的裝置，最優(yōu)選的是使用半導(dǎo)體激光器進(jìn)行曝光。在使用鹵化銀的情況下，曝光能量優(yōu)選為1mJ/cn^或更小，更優(yōu)選100(iJ/cmS或更小，更優(yōu)選50^J/cm2或更小。激光器光源的具體例子包括波長430-460nm的藍(lán)色半導(dǎo)體激光器(由NichiaChemicalCo.在48thUnitedMeetingofAppliedPhysics(2001年3月)發(fā)表)；通過具有波導(dǎo)型反轉(zhuǎn)疇(inverteddomain)結(jié)構(gòu)的LiNb03SHG晶體的半導(dǎo)體激光器(振動波長約1060nm)對光波長變換而得到的約530nm的綠光激光器；波長約685nm的紅色半導(dǎo)體激光器(Hitachi型HL6738MG);和波長約650nm的紅色半導(dǎo)體激光器(Hitachi型HL6501MG)。作為藍(lán)色激光器的紫外光，優(yōu)選使用波長300nm或更長但不長于420nm的激光器，更具體而言波長約365nm或約405nm的激光器。通過用激光束掃描曝光可以進(jìn)行含有銀鹽的層的圖案曝光。特別地，優(yōu)選使用在JP-A-2000-39677中記載的絞盤(capstan)激光器掃描曝光裝置。還優(yōu)選的是使用在JP-A-2000-1244中記載的光束掃描系統(tǒng)中的DMA，代替絞盤系統(tǒng)中多邊形鏡面旋轉(zhuǎn)下的光朿掃描。[顯影處理]在本發(fā)明中，在乳液層曝光后進(jìn)行顯影處理?？梢允褂迷陲@影鹵化銀照相薄膜或紙、平版印刷薄膜、光掩模用的乳液掩模等中常用的技術(shù)進(jìn)行顯影處理。顯影溶液沒有特別限制，可以使用PQ顯影劑、MQ顯影劑或MAA顯影劑。還可以使用市售產(chǎn)品，例如，顯影溶液或試劑盒中的顯影溶液，如FujiFilmCo.制造的CN-16、CR-56、CP45X、FD-3或Papitol，或者EastmanKodakCo.制造的C-41、E-6、RA-4、D-19或D-72。還可以使用平版印刷顯影劑。作為平版印刷顯影溶液，可以使用例如EastmanKodakCo.制造的D85。在本發(fā)明中，經(jīng)過上述曝光和顯影處理，在曝光區(qū)中形成金屬銀部，優(yōu)選圖案化的金屬銀部，而在未曝光區(qū)中形成后述的透光性部分。作為本發(fā)明制造方法中的顯影溶液，可以使用二羥基苯類的顯影劑。二羥基苯顯影劑的例子包括對苯二酚、氯對苯二酚、異丙基對苯二酚、甲基對苯二酚和對苯二酚單磺酸鹽，其中對苯二酚是特別優(yōu)選的。作為對上述二羥基苯顯影劑表現(xiàn)出超疊加性的輔助顯影劑，可以使用l-苯基-3-吡唑啉酮和對氨基苯酚。作為本發(fā)明制造方法中使用的顯影溶液，可以優(yōu)選使用二羥基苯顯影劑與l-苯基-3-吡唑啉酮的組合或二羥基苯顯影劑與對氨基苯酚的組合。可以與l-苯基-3-吡唑啉酮或其衍生物組合的顯影劑的例子包括1-苯基_3_吡唑啉酮、1_苯基_4,4-二甲基-3-吡唑啉酮、l-苯基-4-甲基-4-羥基甲基-3-吡唑啉酮等。對氨基苯酚類輔助顯影劑的例子包括N-甲基-對氨基苯酚、對氨基苯酚、N-(p-羥基乙基)-對氨基苯酚、N-(4-羥基苯基)甘氨酸等，其中N-甲基-對氨基苯酚是優(yōu)選的。二羥基苯顯影劑的常用量為0.05-0.8mol/升，但在本發(fā)明中優(yōu)選用量為0.23mol/升或更高，更優(yōu)選在0.23-0.6mol/升的范圍。在使用二羥基苯與l-苯基-3-吡咪啉酮或?qū)Π被椒拥慕M合的情況下，優(yōu)選的是前者川量為0.23-0.6mol/升，更優(yōu)選0.23-0.5mol/升，后者用量為0.06mol/升或更小，更優(yōu)選0.03-0.003mol/升。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是顯影起始溶液和顯影劑補充溶液均具有"在將0.1mol氫氧化鈉加到1升溶液的情況下使pH增加0.5或更小"的性能。通過調(diào)節(jié)待測試的顯影起始溶液或顯影劑補充溶液其pH值為10.5，然后將0.1mol氫氧化鈉加到1升這種溶液中，并測量溶液的pH值，可以確認(rèn)待使用的顯影起始溶液或顯影劑補充溶液的這種性能。當(dāng)pH增加0.5或更小時，溶液被認(rèn)為具有上述性能。在本發(fā)明的制造方法中，優(yōu)選使用在上述測試中pH增加0.4或更小的顯影起始溶液和顯影劑補充溶液。為賦予顯影起始溶液或顯影劑補充溶液上述性能，優(yōu)選使用利用緩沖液的方法。作為緩沖液，可以使用碳酸鹽、在JP-A-62-l86259中記載的硼酸、在JP-A-60-93433中記載的糖類(如蔗糖)、月虧(如丙酮肟)、苯酚(如5-磺基水楊酸)或三代磷酸鹽(如鈉鹽或鉀鹽)，優(yōu)選碳酸鹽或硼酸。優(yōu)選使用量為0.25mol/升或更高，特別優(yōu)選0.25-1.5mol/升的緩沖液(特別是碳酸鹽)。在本發(fā)明中，顯影起始溶液優(yōu)選pH值為9.0-11.0，特別優(yōu)選9.5-10.7。此外，在連續(xù)處理時，顯影槽中的顯影劑補充溶液和顯影溶液的pH值落入此范圍。為調(diào)節(jié)pH，可以使用堿，其是普通的水溶性無機堿金屬鹽(如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉或碳酸鉀)。在處理根據(jù)本發(fā)明制造方法的11112感光材料時，顯影溶液中的顯影劑補充溶液含量為323ml或更小，優(yōu)選323-30ml，特別優(yōu)選225-50ml。顯影劑補充溶液可以與顯影起始溶液具有相同組成?？蛇x擇地，關(guān)于在顯影中消耗的某一成分，其可以具有比顯影起始溶液更高的濃度。用于本發(fā)明感光材料顯影處理的顯影溶液(下面有時將"顯影起始溶液"和"顯影劑補充溶液"統(tǒng)稱作"顯影溶液")可以含有常用添加劑(如穩(wěn)定劑或螯合劑)。穩(wěn)定劑的例子包括亞硫酸鹽，如亞硫酸鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸鋰、亞硫酸銨、亞硫酸氫鈉、偏亞硫酸氡鉀、甲醛亞硫酸氫鈉等。優(yōu)選使用亞硫酸鹽量為0.20mol/升或更卨，更優(yōu)選0.3mol/升或更高。然而，優(yōu)選的是其上限為1.2mol/升，因為過量加入會在顯影溶液中引起銀污。特別優(yōu)選的范圍是0.35-0.7mol/升。還可以使用與亞硫酸鹽組合的少量抗壞血酸衍生物，作為二羥基苯顯影劑穩(wěn)定劑?？箟难嵫苌锏睦影箟难?、作為其立體異構(gòu)體的刺桐酸(erysorbicacid)和其堿金屬鹽(如鈉鹽或鉀鹽)。作為抗壞血酸衍生物，從材料成本的觀點來看，優(yōu)選使用刺桐酸鈉。優(yōu)選使用的抗壞血酸衍生物量與二羥基苯顯影劑的摩爾比為0.03-0.12，特別優(yōu)選0.05-0.10。在使用抗壞血酸衍生物作為穩(wěn)定劑的情況下，優(yōu)選的是顯影溶液優(yōu)選不含有硼化合物。顯影溶液中使用的其他添加劑包括顯影抑制劑，如溴化鈉或溴化鉀；有機溶劑，如乙二醇、二乙二醇、三乙二醇或二甲基甲酰胺；顯影促進(jìn)劑，例如，烷醇胺如二乙醇胺或三乙醇胺、咪唑或其衍生物；作為防起霧劑或黑胡椒斑點防止劑的巰基化合物、吲唑化合物、苯并三唑化合物或苯并咪唑化合物。上述苯并咪唑化合物的具體例子包括5-硝基吲唑、5-對硝基苯甲?；被胚?、l-甲基-5-硝基吲唑、6-硝基口引唑、3-甲基-5-硝基B引唑、5-硝基苯并咪唑、2-異丙基-5-硝基苯并咪唑、5-硝基苯并三唑、4-[(2-巰基-l，3,4-噻二唑-2-基)硫代]丁垸磺酸鈉、5-氨基-l,3,4-噻二唑-2-硫醇、甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、2-巰基苯并三唑等。苯并咪唑化合物通常用量為0.01-10mmol/升顯影溶液，更優(yōu)選0.1-2隨ol。顯影溶液還可以含有有機或無機螯合劑。無機螯合劑的例子包括四聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉等。作為有機螯合劑，基本上可以使用有機羧酸、氨基多羧酸、有機膦酸、氨基膦酸或有機膦基羧酸。上述有機羧酸的例子包括丙烯酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、琥珀酸、壬二酸、癸二酸、壬烷二羧酸、癸烷二羧酸、十一烷二羧酸、馬來酸、衣康酸、蘋果酸、擰檬酸、酒石酸等，但本發(fā)明不限于此。上述氨基多羧酸的例子包括亞氨基二乙酸、次氮基三乙酸、次氮基三丙酸、乙二胺單羥基乙基三乙酸、乙二胺四乙酸、乙二醇醚四乙酸、1，2-二氨基丙烷四乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸、1,3-二氨基-2-內(nèi)醇四乙酸、乙二醇醚二胺四乙酸和在JP-A-52-25632、JP-A-55-67747、JP-A-57-l02624和JP-BNo.53-40900中記載的化合物。有機膦酸的例子包括在USPNo.3,214,454、USPNo.3,794,591和GP-ANo.2227639中記載的羥基亞烷基二膦酸，或者在ResearchDisclosure,vol.181，項18170(1979年5月)中記載的化合物。上述氨基膦酸的例子包括氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四亞甲基膦酸、氨基三亞甲基膦酸等。此外，可以使用在ResearchDisclosureNo.18170、JP畫A-57畫208554、JP-A-54-61125、JP-A-55-29883和JP-A-56-97347中記載的化合物。瞵基羧酸的例子包括在JP-A-52-102726、JP-A-53-42730、JP-A-54-121I27、JP-A-55-4024、JP-A-55-4025、JP-A-55陽126241、JP-A-55-65955、JP-A-55-65956和ResearchDisclosureNo.8170中記載的化合物。螯合劑可以堿金屬鹽或銨鹽形式使用。按每1升顯影溶液計，螯合劑優(yōu)選加入量為lxl(TMxl(T1mol，更優(yōu)選lxl(T3-lxl(T2mo。顯影溶液還可以含有在JP-A-56-24347、JP-A-56-46585、JP-B-62-2849和JP-A-4-362942中記載的化合物作為銀污防止劑。作為輔助溶劑，還可以使用在JP-A-61-267759中記載的化合物。顯影溶液在必要時還可以含有調(diào)色劑、表面活性劑、消泡劑、硬化劑等。顯影溫度和顯影時間相互關(guān)聯(lián)，并根據(jù)總處理時間決定。然而，通常顯影溫度優(yōu)選為約20-50°C，更優(yōu)選25-45°C。顯影時間優(yōu)選為5秒-2分鐘，更優(yōu)選7-90秒。為節(jié)約運輸成本、包裝成本和顯影溶液的空間，還優(yōu)選的實施方案是濃縮顯影溶液并在使用之前稀釋。為濃縮顯影溶液，有效地是使用在顯影溶液中所含的鹽類中的鉀鹽。本發(fā)明中的顯影處理可以包括用于除去未曝光區(qū)中的銀鹽從而實現(xiàn)穩(wěn)定化的定影處理?？梢允褂美缭邴u化銀照相薄膜或紙、平版印刷薄膜或光掩模用乳液掩模中常用的定影技術(shù)進(jìn)行本發(fā)明中的定影處理。定影步驟中使用的定影溶液的優(yōu)選成分如下。艮口，優(yōu)選的是定影溶液含有硫代硫酸鈉或硫代硫酸銨，并在需要時含有酒石酸、擰檬酸、葡糖酸、硼酸、亞氨基二乙酸、5-磺基水楊酸、glucoheptanoic酸、鈦試劑、乙二胺四乙酸、二乙三胺五乙酸、硝基三乙酸、其鹽等。從近年來環(huán)境保護(hù)的觀點來看，優(yōu)選不含有硼酸。本發(fā)明中使用的定影溶液中的定影劑的例子包括硫代硫酸鈉、硫代硫酸銨等。從定影速度的觀點來看，硫代硫酸銨是優(yōu)選的。然而，從近年來環(huán)境保護(hù)的觀點來看，還可以使用硫代硫酸鈉。盡管這種己知的定影劑的量可以適當(dāng)?shù)刈兓?，但其通常范圍為約0.1-約2mol/升，優(yōu)選0.2-1.5mol/升。在需要時，定影溶液可以含有硬化劑(如水溶性鋁化合物)、穩(wěn)定劑(如亞硫酸鹽或亞硫酸氫鹽)、pH緩沖液(如乙酸)、pH調(diào)節(jié)劑(如氨或硫酸)、螯合劑、表面活性劑、增濕劑、定影促進(jìn)劑等。上述表而活性劑的例子包括陰離子表面活性劑，如硫酸鹽化合物或磺酸化的化合物，聚乙烯基表面活性劑，或在JP-A-57-6740中記載的兩性表面活性劑。此外，定影溶液可以含有公知的消泡劑。上述增濕劑的例子包括垸醇胺、烷二醇等。作為定影促進(jìn)劑，還可以使用在JP-B-5-35754、JP-B-58-122535和JP-B-58-122536中記載的硫脲衍生物；在分子中具有三鍵的醇；在USPNo.4,126,459中記載的硫醚化合物；在JP-A-4-229860中記載的介離子(mesoion)化合物；或在JP-A-2-44355中記載的化合物。上述pH緩沖液的例子包括有機酸，如乙酸、蘋果酸、琥珀酸、酒石酸、檸檬酸、草酸、馬來酸、乙醇酸、或己二酸；和無機緩沖液，如硼酸、磷酸鹽或亞硫酸鹽。pH緩沖液優(yōu)選為乙酸、酒石酸或亞硫酸鹽。pH緩沖液用于防止被攜帶顯影溶液而在定影溶液中pH增加，優(yōu)選其量為0.01-1.0mol/升，更優(yōu)選0.02-0.6mol/升。定影溶液優(yōu)選其pH值為4.0-6.5，特別優(yōu)選4.5-6.0。作為染料溶解促進(jìn)劑，還可以使用在JP-A-64-4739中記載的化合物。本發(fā)明的定影溶液中使用的硬化劑的例子包括水溶性鋁鹽和鉻鹽。優(yōu)選的是硬化劑是水溶性鋁鹽，如氯化鋁、硫酸鋁或明磯，優(yōu)選加入量為0.01-0.2mol/升，更優(yōu)選0.03-0.08mol/升。在上述定影步驟中，定影溫度優(yōu)選為約2(TC-約50°C，更優(yōu)選25-45°C，定影時間優(yōu)選為5秒-l分鐘，更優(yōu)選7-50秒。相對于感光材料的處理量，定影溶液的補充量優(yōu)選為600ml/n^或更小，更優(yōu)選500ml/m2或更小，特別優(yōu)選300ml/m2或更小。已經(jīng)進(jìn)行過顯影和定影處理的感光材料優(yōu)選進(jìn)行漂洗處理或穩(wěn)定化處理。在漂洗處理或穩(wěn)定化處理中，對于lr^的感光材料，經(jīng)常用20升或更少的水進(jìn)行漂洗，補充量為3升或更少(包括0，即在立式水浴中漂洗)。因此，不僅可以節(jié)省水，而且省卻在自動處理器中的管道。為降低漂洗水的補充量，已知的有多步(2-或3-步)逆流系統(tǒng)。在本發(fā)明的制造方法中使用上述多步逆流系統(tǒng)的情況下，以合適方向順次處理定影步驟之后的感光材料，即朝著被定影溶液污染更小的處理溶液，從而進(jìn)行更有效的漂洗。此外，在用少量水進(jìn)行漂洗的情況下，優(yōu)選提供帶有在JP-A-63-l8350和JP-A-62-287252中記載的擠壓輥或交叉輥的漂洗槽。此外，為減輕用少量水漂洗造成的污染，可以使用加入各種氧化劑或用過濾器過濾的組合。此外，在所述方法中，來自漂洗浴或穩(wěn)定化浴的溢流液體或部分所述溢流液體，其由用水補充漂洗浴或穩(wěn)定化浴產(chǎn)生，并包括防霉裝置可以在JP-A-60-235133中記載的預(yù)先處理步驟中用作具有定影能力的處理溶液。此外，可以加入水溶性表面活性劑或消泡劑，以防止在用少量水漂洗時產(chǎn)生氣泡圖案和/或?qū)⑻幚沓煞謴臄D壓輥轉(zhuǎn)移到處理的薄膜。此外，在漂洗處理或穩(wěn)定化處理中，在JP-A-63-163456中記載的染料吸收劑可以置于漂洗浴中，從而防止從感光材料溶出的染料的污染。此外，在漂洗處理之后的穩(wěn)定化處理中，含有在JP-A-2-201357、JP-A-2-132435、JP-A-卜102553禾QJP-A-46-44446中記載的化合物的浴可以用作感光材料的最終浴。在這種情況下，在需要時，可以加入銨化合物、例如Bi或Al等的金屬化合物、熒光增白劑、螯合劑、薄膜pH調(diào)節(jié)劑、硬化劑、殺菌劑、防霉劑、烷醇胺或表面活性劑。漂洗處理或穩(wěn)定化處理中使用的水可以是自來水，或優(yōu)選去離子水或用鹵素、紫外線殺菌燈或氧化劑(如臭氧、過氧化氫或高氯酸鹽)殺菌后的水。還可以使用含有在JP-A-4-39652和JP-A-5-241309中記載的化合物的漂洗水。在漂洗處理或穩(wěn)定化處理中，優(yōu)選的是使用浴溫度0-5(TC和浴中時間5秒-2分鐘。本發(fā)明中使用的處理溶液如顯影溶液或定影溶液優(yōu)選保存在JP-A-6-73147中記載的低氧滲透度的包裝材料中。為降低補充量，還優(yōu)選的是處理槽與空氣的接觸面積較小，以避免溶液蒸發(fā)和大氣氧化。輥傳送型自動處理器例如記載在USPNo.3,025,779和3,545,971中，下面簡稱作輥傳送處理器。輥傳送處理器優(yōu)選包括顯影、定影、漂洗和干燥四個步驟。盡管這四個步驟在本發(fā)明中最優(yōu)選使用，但不排除其它步驟(如停止步驟)。此外，這四個步驟中可以使用穩(wěn)定化步驟代替漂洗步驟。在每一上述步驟中，顯影溶液或定影溶液的成分可通過除去水以固體供應(yīng)，并可以在使用前溶解在預(yù)定量的水中形成顯影溶液或定影溶液。這種形式的處理材料被稱作固體處理材料。固體處理材料以粉末、片劑、顆粒、塊體或糊狀物形式使用。處理材料優(yōu)選的形式是在JP-A-61-259921中記載的形式或片劑。所述片劑可通過例如在JP畫A-51-61837、JP-A-54陽155038、JP-A-52-88025禾卩BPNo.1,213,808中記載的常用方法制造。顆粒形式的固體處理材料可通過例如在JP-A-2-109042、JP-A-2-109043、JP-A-3-39735和JP-A-3-39739中記載的常用方法制造。粉末形式的處理材料可通過例如在JP-A-54-133332、BPNo.725,892和729,862和GPNo.3,733,861中記載的常用方法制造?？紤]到溶解度，固體處理材料優(yōu)選其堆密度為0.5-6.0g/cm3，更優(yōu)選1.0-5.0g/cm3。為制備固體處理材料，可以使用以下方法包括在構(gòu)成處理材料的物質(zhì)中，以分層方式提供反應(yīng)性物質(zhì)，使得至少兩種相互反應(yīng)性顆粒物質(zhì)構(gòu)成被至少一層對反應(yīng)性物質(zhì)惰性的物質(zhì)的中間分隔層分離的層，然后使用能夠真空包裝的袋作為包裝材料，抽空并密封該袋。本說明書中，術(shù)語"惰性"指相互接觸的物質(zhì)在包裝內(nèi)的通常狀態(tài)下不會反應(yīng)，也不會發(fā)生顯著的反應(yīng)。不活性物質(zhì)可以對兩種相互反應(yīng)性物質(zhì)是惰性的，或者可以在兩種相互反應(yīng)性物質(zhì)的預(yù)期應(yīng)用中是惰性的。此外，惰性物質(zhì)是與兩種反應(yīng)性物質(zhì)同時使用的物質(zhì)。例如，在顯影溶液中，由于對苯二酚和氫氧化鈉直接接觸，因此亞硫酸鈉等可以用作真空包裝中對苯二酚和氫氧化鈉之間的分隔層，從而能夠長時間保存。此外，對苯二酚等可制成球狀，從而減小與氫氧化鈉的接觸面積，從而改進(jìn)保存性能并能夠以混合物使用。作為真空包裝的包裝材料，可以使用由惰性塑料薄膜或塑料材料和金屬箔的層合物形成的袋。按曝光之前曝光區(qū)中所含的銀的重量計，顯影處理后曝光區(qū)中所含的金屬銀的重量優(yōu)選為50重量％或更大，更優(yōu)選80重量％或更大。優(yōu)選的是按曝光之前曝光區(qū)中所含的銀的重量計，曝光區(qū)中所含的金屬銀其量為50重量％或更大，因為在這種情況下可以獲得高導(dǎo)電性。盡管對于本發(fā)明顯影處理后進(jìn)行的等級沒有特別限制，但優(yōu)選高于4.0。顯影處理后的等級高于4.0可以增加導(dǎo)電金屬部的導(dǎo)電性，同時保持透光性部分的高透明度。高于4.0的等級可以通過例如按上述用銠離子或銥離子摻雜實現(xiàn)。[物理顯影和電鍍處理]為了賦予通過曝光和顯影處理的金屬銀部以導(dǎo)電性，在本發(fā)明中進(jìn)行物理顯影和/或電鍍處理，從而使金屬銀部帶有導(dǎo)電金屬粒子。在本發(fā)明中，金屬銀部帶有導(dǎo)電金屬粒子可通過物理顯影和電鍍處理之一進(jìn)行。此外，金屬銀部帶有導(dǎo)電金屬粒子還可以通過組合物理顯影和電鍍處理來實現(xiàn)。己經(jīng)進(jìn)行過物理顯影和/或電鍍處理的金屬銀部被稱作"導(dǎo)電金屬部"。本發(fā)明使用的術(shù)語"物理顯影"指用還原劑來還原金屬離子如銀離子，以在金屬或金屬化合物的核上沉積金屬粒子。這種物理顯影已用在即顯單色薄膜、即顯滑膜或平版印刷薄膜中，這些技術(shù)也可用在本發(fā)明中。物理顯影可以與曝光之后的顯影處理同時進(jìn)行，或在顯影處理后單獨進(jìn)行。在本發(fā)明中，電鍍處理可以是無電鍍(化學(xué)還原電鍍或置換電鍍)和/或電解電鍍?？梢允褂眉褐臒o電鍍技術(shù)進(jìn)行本發(fā)明的無電鍍，例如，用在印刷線路板中的技術(shù)，并優(yōu)選為無電銅鍍。無電銅鍍?nèi)芤褐兴幕瘜W(xué)物質(zhì)的例子包括硫酸銅或氯化銅、還原劑如福爾馬林或乙醛酸、銅配體如EDTA或三乙醇胺和用于浴穩(wěn)定化和改進(jìn)電鍍薄膜光滑度的添加劑如聚乙二醇、亞鐵氰酸鹽或聯(lián)吡啶。電解銅鍍浴可以是硫酸銅浴或焦磷酸銅浴?？梢栽跍睾碗婂兯俣葪l件下或在5i^m/hr或更高的高電鍍速度下進(jìn)行本發(fā)明的電鍍處理。在電鍍處理中，可以使用各種添加劑，如配體，例如EDTA，以改進(jìn)電鍍?nèi)芤旱姆€(wěn)定性。[氧化處理]在本發(fā)明中優(yōu)選的是，對顯影處理后的金屬銀部和通過物理顯影和/或電鍍處理形成的導(dǎo)電金屬部進(jìn)行氧化處理。通過進(jìn)行氧化處理，可以除去最終略微沉積在透光性部分中的金屬，從而在透光性部分中獲得約100%的透明度?？梢酝ㄟ^利用各種氧化劑的已知處理進(jìn)行氧化處理，如用Fe(III)離子處理。如上所述，可以在曝光和顯影處理乳液層之后或在物理顯影或電鍍處理之后進(jìn)行氧化處理，可以在顯影處理之后和物理顯影或電鍍處理之后進(jìn)行。在本發(fā)明中，還可以在曝光和顯影處理之后用含有Pd的溶液處理金屬銀部。Pd可以是二價鈀離子或金屬Pd。由于這種處理，可以加速無電鍍或物理顯影。[導(dǎo)電金屬部]在用作透光性電磁波屏蔽材料的情況下，本發(fā)明的導(dǎo)電金屬部優(yōu)選具有通過三角形如等邊三角形、等腰三角形或直角三角形，四邊形如正方形、矩形、菱形、平行四邊形或梯形，正(n)-多邊形如正六邊形或正八邊形，圓，橢圓或星形的組合形成的幾何形狀，更優(yōu)選由這些幾何形狀構(gòu)成的網(wǎng)狀。從EMI屏蔽性能的觀點來看，三角形是最有效的，但考慮到可見光透過率，n值較大的正(n)-多邊形是有利的，因為對于相同線寬提供了較大的開口率，從而提高了可見光透過率。為最小化波紋，還優(yōu)選的是提供以隨機或非周期性方式改變線寬的幾何形狀。在用作導(dǎo)電配線材料的情況下，導(dǎo)電金屬部的形狀沒有特別限制，可以根據(jù)用途選擇任意的形狀。在包括本發(fā)明顯影的銀的導(dǎo)電金屬部中細(xì)線線寬為30pm或更大的情況下，在與PDP模塊組合時經(jīng)常發(fā)生帶狀圖像不規(guī)則。在線寬為l)am或更小吋，不能獲得屏蔽電磁波的高導(dǎo)電性。考慮到這些因素，優(yōu)選的是包括本發(fā)明顯影的銀的導(dǎo)電金屬部中細(xì)線線寬為1-30pm，更優(yōu)選5-25jLim，最優(yōu)選10-20pm。在用作透光性電磁波屏蔽材料的情況下，導(dǎo)電金屬部中的細(xì)線應(yīng)被調(diào)節(jié)到1pm或更大但不超過40pm，優(yōu)選5)im或更大但不超過30pm，最優(yōu)選10nm或更大但不超過25nm。線間隔優(yōu)選為50jam或更大但不超過500pm，更優(yōu)選200pm或更大但不超過400iam，最優(yōu)選250)im或更大但不超過350iani。為接地等目的，導(dǎo)電金屬部可以具有線寬超過20pm的部分。在考慮可見光透過率時，本發(fā)明的導(dǎo)電金屬部優(yōu)選其開口率為85%或更高，更優(yōu)選90%或更高，最優(yōu)選95%或更高。本說明書中，術(shù)語"開口率"指構(gòu)成網(wǎng)狀的細(xì)線外部部分在整個面積中所占比率，例如，線寬15/im和間距300pm的正方形格子網(wǎng)其開口率為90。/0。[透光性部分]本說明書中，術(shù)語"透光性部分"指除了透光性電磁波屏蔽膜中的導(dǎo)電金屬部之外的具有透明度的部分。如上所述，"透光性部分的透過率"指具有在380-780nm波長區(qū)內(nèi)由最小透過率代表的透過率的部分，不包括基材的吸收和反射的貢獻(xiàn)，其透過率為90%或更高，更優(yōu)選95%或更高，再優(yōu)選97%或更高，再更優(yōu)選98%或更高。最優(yōu)選99%或更咼°本發(fā)明中的網(wǎng)狀圖案應(yīng)連續(xù)3m或更長。具有較大重復(fù)數(shù)的模式是優(yōu)選的，因為這樣可以減小在制造濾光器材料中的損失。另一方面，重復(fù)數(shù)增加經(jīng)常會造成以下問題例如在巻取成巻時，輥直徑增加，輥變重，輥中心的壓力升高，造成包括粘合及變形等麻煩。因此，優(yōu)選的是網(wǎng)狀圖案的長度不長于2000m，優(yōu)選100m或更長但不長于1000m，更優(yōu)選200m或更長但不長于800m，最優(yōu)選300m或更長但不長于500m。出于同樣原因，支持體的厚度優(yōu)選為200,或更小，更優(yōu)選20,或更大但不超過180pm，最優(yōu)選50|am或更大但不超過120|im。本發(fā)明的另一目的是提供一種可以提高連續(xù)制造效率的電磁波屏蔽材料.。本說明書中，術(shù)語"連續(xù)制造"指使用單個電磁波屏蔽材料巻制造多個濾光片。似乎取決于模塊尺寸可以組合各種尺寸的濾光器。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是濾光器其寬度為2cm或更大，更優(yōu)選50cm-150cm，只要適合37英寸-110英寸的PDP模塊。盡管從連續(xù)制造效率的觀點來看，較長的電磁波屏蔽材料巻是優(yōu)選的，但考慮到巻重量、巻直徑等造成的限制，單個巻的長度優(yōu)選為3m-2000m，更優(yōu)選100m-1000m。本說明書中，表述"由基本上平行的直細(xì)線相互交叉構(gòu)成的圖案"指所謂的格子圖案，其中構(gòu)成格子圖案的鄰近細(xì)線平行，或在士2。角度內(nèi)平行排列。關(guān)于使用光束的掃描方法，優(yōu)選的是使用其中使用基本上垂直于輸送方向的線性光源或旋轉(zhuǎn)多邊形面鏡進(jìn)行曝光的方法。在這種情況下，應(yīng)該調(diào)制光束的光強度，使其具冇包括基本上0狀態(tài)的兩個或更多個值。直線是連續(xù)點的圖案。由于是連續(xù)點，單點的細(xì)線具有逐級邊緣。細(xì)線的厚度相應(yīng)于最窄部分的寬度。作為另一種光掃描方法，還優(yōu)選的是使用向輸送方向傾斜的光束掃描，以適于傾斜的格子圖案。在這種情況下，優(yōu)選的是使兩個掃描光束正交，使得光束的光強度在曝光面上基本上為1。本發(fā)明中優(yōu)選的是，使網(wǎng)狀圖案相對于輸送方向傾斜角度30°-60°，更優(yōu)選40°-50°，最優(yōu)選43°-47°。這是因為具有相對于框架傾斜約45°的網(wǎng)狀圖案的掩模通常難于制造，并伴隨有一些問題，包括出現(xiàn)不均勻性和成本升高。另一方面，在上述方法中，在約45。時不均勻性比較小，因此，與掩模對齊曝光系統(tǒng)的照相平版印刷術(shù)或通過絲網(wǎng)印刷圖案化相比，本發(fā)明具有顯著優(yōu)點。在本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽膜中，支持體優(yōu)選厚度為5-200nm，更優(yōu)選30-150,。只要厚度在5-200pm的范圍內(nèi)，就可以實現(xiàn)所需的可見光透過率并易于處理。在物理顯影和/或電鍍處理之前，在支持體上形成的金屬銀部其厚度可以根據(jù)將要在支持體上涂布的含有銀鹽的層用的涂布液體的涂布厚度適當(dāng)?shù)卮_定。金屬銀部的厚度優(yōu)選為30pm或更小，更優(yōu)選20nm或更小，再更優(yōu)選0.01-9pim，最優(yōu)選0.05-5pm。金屬銀部優(yōu)選具有圖案化形狀。此外，金屬銀部可以由一層構(gòu)成，或可以具有兩層或多層的多層結(jié)構(gòu)。在金屬銀部具有圖案化形狀和兩層或多層的多層結(jié)構(gòu)的情況下，可以對這些層賦予不同的感光性，從而使它們對不同的波長敏感。因此，用不同曝光波長曝光可以在這些層中形成不同的圖案。包括由此形成的多層結(jié)構(gòu)的圖案化金屬銀部的透光性電磁波屏蔽膜適用作高密度印刷電路板。在用作顯示器的電磁波屏蔽材料的情況下，導(dǎo)電金屬部優(yōu)選具有盡可能小的厚度，以增大顯示器視角。在用作導(dǎo)電配線材料的情況下，為獲得更高密度，需要薄膜更薄。從這些觀點出發(fā)，導(dǎo)電金屬部上的導(dǎo)電金屬層優(yōu)選厚度小于9pm，更優(yōu)選0.1|_im或更大但小于5^m，再更優(yōu)選0.1nm或更大但小于3nm。在本發(fā)明中，由于通過控制乳液層的涂布厚度可以形成所需厚度的金屬銀部并通過物理顯影和/或電鍍處理可以任意控制導(dǎo)電金屬粒子的層，即使是厚度小于5pm、優(yōu)選小于3jam的透光性電磁波屏蔽膜也易于形成。與其中必須蝕刻掉并棄去大部分金屬薄膜的己知蝕刻法相比，本發(fā)明能夠僅在支持休上形成含有必需量導(dǎo)電金屬的圖案，并且僅使用必需最少量的金屬，從而獲得制造成本和棄去金屬量降低的優(yōu)點。<粘合層>在集成進(jìn)濾光器、液晶顯示面板、等離子體顯示面板、其它圖像顯示Glat面板、CCD所代表的攝像用半導(dǎo)體集成電路的情況下，通過粘合層粘合本發(fā)明的電磁波屏蔽膜。在粘合層中，優(yōu)選的是使用折射率1.40-1.70的粘合劑。這是因為通過使本發(fā)明中使用的粘合劑和透明基材如塑料薄膜之間的折射率差最小可以防止可見光透過率降低。只要折射率在1.40-1.70的范圍內(nèi)，可見光透過率幾乎不下降，因此可以得到良好結(jié)果。優(yōu)選使用通過加熱或加壓可流動的粘合劑。特別優(yōu)選當(dāng)加熱到200。C或更低或在1kgf/ci^或更大下加壓時表現(xiàn)出流動性的粘合劑。通過使用這種粘合劑，可以使粘合層可流動，從而使本發(fā)明的電磁波屏蔽膜粘合到被粘物如顯示器或塑料板上，其中導(dǎo)電層包埋在粘合層中。由于可以流動，粘合層能夠通過層合、加壓成形容易地使電磁波屏蔽材料與被粘物粘合，特別地，加壓成形能與具有曲面或復(fù)雜形狀的被粘物粘合。為此，優(yōu)選的是粘合劑的軟化點為20(TC或更低。由于電磁波屏蔽材料經(jīng)常用在溫度低于8(TC的環(huán)境下，因此優(yōu)選的是粘合劑的軟化點為8(TC或更高，考慮到加工性最優(yōu)選80-120°C。術(shù)語"軟化點"指粘度變?yōu)?012泊或更低的溫度。在這種溫度下，物質(zhì)在約1-10秒內(nèi)變得可以流動。下面列出上述通過加熱或加壓變得可以流動的包括熱塑性樹脂的粘合劑的代表例子。即，可以使用天然橡膠(折射率11=1.52)、聚異戊二烯(n-1.521)、聚-1，2-丁二烯(11=1.50)、聚異丁烯(11=1.505-1.51)、聚丁烯(n=1.513)，二烯，如聚-2-庚基-l，3-丁二烯(n-1.50)、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯(n-1.506)和聚-l，3-丁二烯(n-1.515)，聚氧乙烯(『1.456)、聚氧丙烯(11=1.450)，聚醚，如聚乙烯基乙基醚(n-1.454)、聚乙烯基己基醚(11=1.459)和聚乙烯基丁基醚(11=1.456)，聚酯，如聚乙酸乙烯酯(11=1.467)和聚丙酸乙烯酯(n一.467)、聚氨酯(『1.5-1.6)，乙基纖維素(n-1.479)、聚氯乙烯(11=1.54-1.55)、聚丙烯腈(11=1.52)、聚甲基丙烯腈(1!=1.52)、聚砜(n-1.633)、聚硫化物(n-1.6)、苯氧基樹脂(n-1.5-1.6)，聚(甲基)丙烯酸酯，如聚丙烯酸乙酯(11=1.469)、聚丙烯酸丁酯(n-.466)、聚丙烯酸2-乙基己基酯(11=1.463)、聚丙烯酸叔丁酯(n-1.464)、聚丙烯酸3-乙氧基丙基酉旨(n-1.465)、聚氧羰基四亞甲基(polyoxycarbonyltetramethylene)(n=1.465)、聚丙烯酸甲酯(『1.472-1.480)、聚甲基丙烯酸異丙酯(n=1.473)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(『1.474)、聚甲基丙烯酸十四垸酯(n=1.475)、聚甲基丙烯酸正丙酯(11=1.484)、聚甲基丙烯酸3，3，5-三甲基環(huán)己酯(n-1.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(『1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(11=1.487)、聚甲基丙烯酸1,1-二乙基丙酯(『1,489沐聚甲基丙烯酸甲酯(n4.489)。在需要時，可以共聚這些丙烯?；酆衔镏械膬煞N或多種。還可以使用兩種或多種的共混物。作為通過共聚丙烯酸酯樹脂與丙烯酸酯樹脂之外的樹脂得到的樹脂，還可以使用環(huán)氧丙烯酸酯(11=1.48-1.60)、氨基甲酸酯丙烯酸酯(n=1.5-1.6)、聚醚丙烯酸酯(11=1.48-1.49)、聚酯丙烯酸酯(11=1.48-1.54)等。從粘合性的觀點來看，氨基甲酸酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯極為優(yōu)異。環(huán)氧丙烯酸酯的例子包括1,6-己二醇二縮水甘油基醚、新戊二醇二縮水甘油基醚、烯丙醇二縮水甘油基醚、間苯二酚二縮水甘油基醚、二縮水甘油基己二酸酯、二縮水甘油基鄰苯二甲酸酯、聚乙二醇二縮水廿汕基醚、三羥屮基丙烷三縮水tf"油基醚、目-油三縮水甘汕基醚、季戊四醇四縮水甘油基醚、山梨糖醇四縮水甘油基醚等的(甲基)丙烯酸加成物。在分子中具有羥基的聚合物如環(huán)氧丙烯酸酯對于改進(jìn)粘合性有效。在需要時，這些共聚物樹脂的兩種或多種可以一起使用。從處理性能的觀點來看，用作粘合劑的聚合物的軟化點適當(dāng)?shù)貫?0(TC或更低，優(yōu)選15(TC或更低。由于電磁波屏蔽材料經(jīng)常用在溫度低于80。C的環(huán)境下，因此考慮到加工性優(yōu)選的是粘合劑的軟化點為80-120°C。另一方面，優(yōu)選使用重均分子量為500或更大的聚合物(使用聚苯乙烯作為標(biāo)準(zhǔn)，使用通過明膠滲透色譜得到的校準(zhǔn)曲線測量的值；以下相同)。分子量小于500的聚合物僅能使粘合劑組合物具有不充分的粘合力，這可能會降低對被粘物的粘合性。在需要吋，本發(fā)明使用的粘合劑可以含有添加劑，如稀釋劑、塑化劑、抗氧化劑、填料、著色劑、紫外線吸收劑或增粘劑。粘合層的厚度優(yōu)選為10-80pm，特別優(yōu)選20-50pm，并且不小于導(dǎo)電層的厚度。涂布幾何圖案的粘合劑和透明塑料基材之間的折射率差被調(diào)節(jié)為0.14或更小。在透明塑料基材通過粘合層在導(dǎo)電材料上層疊的情況下，粘合層和涂布幾何圖案的粘合劑之間的折射率差被調(diào)節(jié)為0.14或更小。這是因為，當(dāng)透明塑料基材和粘合層的折射率或粘合劑和粘合層的折射率有很大不同時，可見光透過率降低。只要折射率差為0.14或更小，可見光透過率幾乎不下降，因此可以得到良好結(jié)果。在使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(折射率n4.575)作為透明塑料基材的情況下，作為滿足上述要求的粘合劑材料，可以使用環(huán)氧樹脂(折射率1.55-1.60)，如雙酚A型環(huán)氧樹脂、雙酚F型環(huán)氧樹脂、四羥基苯基甲烷型環(huán)氧樹脂、酚醛環(huán)氧樹脂、間苯二酚型環(huán)氧樹脂、多元醇聚二醇型環(huán)氧樹脂、聚烯烴型環(huán)氧樹脂、脂肪族或鹵代雙酚等。環(huán)氧樹脂之外的例子包括天然橡膠(n-1.52)、聚異戊二烯(11=1.521)、聚-1,2-丁二烯(11=1.50)、聚異丁烯(n-1.505-1.51)、聚丁烯(11=1.5125)，二烯，如聚-2-庚基-l,3-丁二烯(n=1.50)、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯(11=1.506)和聚-1，3-丁二烯(11=1.515)、聚氧乙烯(11=1.4563)、聚氧丙烯(11=1.495)，聚醚，如聚乙烯基乙基醚(n=1.454)、聚乙烯基己基醚(r^l.459)和聚乙烯基r基醚(n-1.4563)，聚酯，如聚乙酸乙烯酯(11=1.4665)和聚丙酸乙烯酯(11=1.4665)、聚氨酯(n=1.5-1.6)，乙基纖維素(n4.479)、聚氯乙烯(n-1.54-l.55)、聚丙烯腈(n=1.52)、聚甲基丙烯腈(11=1.52)、聚砜(n-1.633)、聚硫化物(n—.6)、苯氧基樹脂(『1.5-1.6)等。這種粘合劑可以賦予適當(dāng)?shù)目梢姽馔高^率。在使用丙烯酸酯樹脂作為透明塑料基材的情況下，除了上述樹脂之外，可以使用聚(甲基)丙烯酸酯，如聚丙烯酸酯乙酯(11=1.4685)、聚丙烯酸丁酯(11=1.466)、聚丙烯酸2-乙基己基酯(11=1.463)、聚丙烯酸叔丁酯(11=1.4638)、聚丙烯酸3-乙氧基丙基酯(『1.465)、聚氧羰基四亞甲基(11=1.465)、聚丙烯酸甲酯(n-1.472-1.480)、聚甲基丙烯酸異丙酯(n=1.4728)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(11=1.474)、聚甲基丙烯酸十四烷酯(n=1.4746)、聚甲基丙烯酸正丙酯(『1.484)、聚甲基丙烯酸3,3，5-三甲基環(huán)己酯(n—.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(『1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(『1.4868)、聚甲基丙烯酸四羰基酯(『1.4889)、聚甲基丙烯酸U-二乙基丙酉旨(『1.4889)和聚甲基丙烯酸甲酯(r^1.489)。在需要時，可以共聚這些丙烯酰基聚合物中的兩種或多種。還可以使用兩種或多種的共混物。作為通過共聚丙烯酸酯樹脂與丙烯酸酯樹脂之外的樹脂得到的樹脂，還可以使用環(huán)氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。從粘合性的觀點來看，環(huán)氧丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯極為優(yōu)異。環(huán)氧丙烯酸酯的例子包括1,6-己二醇二縮水甘油基醚、新戊二醇二縮水甘油基醚、烯丙醇二縮水甘油基醚、間苯二酚二縮水甘油基醚、二縮水甘油基己二酸酯、二縮水甘油基鄰苯二甲酸酯、聚乙二醇二縮水廿油基醚、三羥甲基丙垸三縮水甘油基醚、甘油三縮水甘油基醚、季戊四醇四縮水甘油基醚、山梨糖醇四縮水甘油基醚等的(甲基)丙烯酸加成物。由于在分子中具有羥基，因此環(huán)氧丙烯酸酯對于改進(jìn)粘合性有效。在需要時，這些共聚物樹脂的兩種或多種可以一起使用。作為粘合劑的主要成分，可以使用重均分子量為i，ooo或更大的聚合物。當(dāng)分子量小于1,000吋，粘合劑僅具有不充分的粘合力，這會降低對被粘物的粘合性。作為粘合劑的硬化劑，可以使用胺，如三亞乙基四胺、二甲苯二胺和二氨基二苯基甲垸，酸酐，如鄰苯二甲酸軒、馬來酸酐、十二烷基琥珀酸酐、均四苯酸酐和二苯甲酮四羧酸酐，二氨基二苯基砜、三(二甲基氨基甲基)苯酚、聚酰胺樹脂，二氰基二酰胺，乙基甲基咪唑等?？梢允褂眠@些硬化劑中的一種或兩種或多種的混合物。按100重量份上述聚合物，交聯(lián)劑量為0.1-50重量份，優(yōu)選l-30重量份。當(dāng)硬化劑加入量小于O.l重量份時，硬化不充分。另一方面，當(dāng)其量超過50重量份時，會造成過度交聯(lián)，有時對粘合性有不利影響。在需要時，用作本發(fā)明粘合劑的樹脂組合物可以含有添加劑，如稀釋劑、增塑劑、抗氧化劑、填料或增粘劑。涂布這種用作粘合劑的樹脂組合物，使得完全或部分地涂布構(gòu)成基材，所述基材具有用導(dǎo)電材料在透明塑料基材表面上繪制的幾何圖案。蒸發(fā)掉溶劑并加熱硬化之后，得到本發(fā)明的粘合薄膜。這樣得到的粘合薄膜具有電磁波屏蔽性能和透明度，并且由于粘合薄膜中所含的粘合劑，被直接粘合到CRT、PDP、液晶或EL顯示器上?？蛇x擇地，其被粘合到板或片如丙烯酸酯樹脂板或玻璃板，然后用于顯示器中。還可以在用于觀察產(chǎn)生電磁波的測量裝置、測量儀器或制造裝置的內(nèi)部或殼體的孔中以上述相同方式使用這種粘合薄膜。此外，還可以用在具有被電波能量或高壓線的電磁干擾危險的建筑物窗戶、汽車窗戶等中。優(yōu)選的是用導(dǎo)電材料繪制的幾何圖案具有接地線。已經(jīng)除去導(dǎo)電材料的透明塑料基材表面的-一部分，故意形成峰和谷，或者將導(dǎo)電材料的背面圖案轉(zhuǎn)移到其上。因此，表面上的光散射使透明度減小。通過用折射率接近透明塑料基材的樹脂平滑地涂布具有峰和谷的面，從而使不規(guī)則反射最小并表現(xiàn)出透明度，可以克服此問題。由于線寬極小，因此用導(dǎo)電材料在透明塑料基材上繪制的幾何圖案用肉眼不能看到。此外，間隔足夠大，這有助于表現(xiàn)出明顯透明度。另一方面，幾何圖案的間隔比被屏蔽的電磁波波長小很多，這也有助于表現(xiàn)出透明度。如JP-A-2003-188576所示，在將由具有高熱熔性乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂或高熱熔性樹脂如離聚物樹脂的薄膜單獨或與另一種樹脂的層合物構(gòu)成的透明塑料基材層合在金屬箔的情況下，可以在沒有形成粘合層的情況下進(jìn)行層合。然而，常用的是，使用粘合層等的干燥層合方法進(jìn)行層合。構(gòu)成粘合層的粘合劑的例子包括含有丙烯酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物樹脂等的粘合劑。此外，可以使用熱固性樹脂或電離射線-硬化樹脂(紫外線硬化樹脂，電子束-硬化樹脂等)。由于顯示器通常具有玻璃表面，因而使用壓敏粘合劑將透明塑料薄膜粘合到玻璃板上。因此，產(chǎn)生各種問題，如粘合面起泡或發(fā)生剝離，并使得圖像變形或由待顯示的固有顏色發(fā)生色變。起泡和剝離問題均由壓敏粘合劑從塑料薄膜或玻璃板的剝離引起。這種現(xiàn)象可能出現(xiàn)在塑料薄膜側(cè)和玻璃板側(cè)。即，出現(xiàn)在粘合力較小的一側(cè)。因此，壓敏粘合劑在高溫下應(yīng)對塑料薄膜和玻璃板具有較大的粘合力。更具體而言，優(yōu)選的是壓敏粘合劑在80'C下對塑料薄膜和玻璃板的粘合力為10g/cm或更大，更優(yōu)選30g/cm或更大。然而，有時不需要使用粘合力超過2000g/cm的壓敏粘合劑，因為在這種情況下粘合過程變得繁雜，盡管在沒有上述麻煩的情況下可以沒有任何問題地使用這種壓敏粘合劑。還可以提供在沒有面對透明塑料薄膜一側(cè)具有紙張(隔板)的壓敏粘合劑部分，從而防止與其它部分不必需的接觸。優(yōu)選使用透明壓敏粘合劑。更具體而言，壓敏粘合劑的總透光性優(yōu)選為70%或更高，更優(yōu)選80%或更高，最優(yōu)選85-92%。還優(yōu)選的是壓敏粘合劑具有低霧度。更具體而言，壓敏粘合劑的霧度優(yōu)選為0-3%，更優(yōu)選0-1.5%。為防止從待顯示的固有顏色發(fā)生色變，優(yōu)選的是本發(fā)明使用的壓敏粘合劑是無色的。然而，具有較小厚度的壓敏粘合劑基本上被認(rèn)作是無色的，盡管樹脂本身是有顏色的。此外，后述故意著色的情況不在此范圍內(nèi)。具有上述特性的壓敏粘合劑的例子包括丙烯?；?基樹脂、a-烯烴樹脂、乙酸乙烯酯-基樹脂、丙烯酸酯共聚物-基樹脂、氨基甲酸酯-基樹脂、環(huán)氧-基樹脂、偏二氯乙烯-基樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯-基樹脂、聚酰胺-基樹脂、聚酯-基樹脂等。其中，丙烯?；?基樹脂是優(yōu)選的。即使在使用--種樹脂的情況下，通過例如降低在用聚合方法合成壓敏粘合劑中交聯(lián)劑的加入量、加入增粘成分或改性分子的端基，也可以改進(jìn)壓敏粘合性。此外，即使在使用一種壓敏粘合劑的情況下，通過例如表面改性透明塑料薄膜或玻璃板與壓敏粘合劑粘合的面也可以改進(jìn)粘合性。表面改性方法的例子包括物理過程，如電暈放電和等離子體輝光處理，以及形成用于改進(jìn)粘合性的下涂層。從透明度、無色性和處理性能的觀點來看，優(yōu)選的是壓敏粘合劑層的厚度為約5-約50(am。在使用粘合劑形成壓敏粘合劑層的情況下，厚度可以在上述范圍內(nèi)減小，更具體而言，為約1-約20(im。然而，在使顯示顏色本身沒有變化并且獲得上述范圍內(nèi)的透明度的情況下，層厚度可以超出上述上限。<可剝離的保護(hù)薄膜〉本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽薄膜可以提供有可剝離的保護(hù)薄膜。這種保護(hù)薄膜不總是提供在電磁波屏蔽片l(透光性電磁波屏蔽膜)的兩面上。如^-八-2003-188576圖2(a)所公開的，保護(hù)薄膜20還可以僅設(shè)在層合物10的網(wǎng)狀金屬箔ll'上，而沒有設(shè)在透明基膜14側(cè)上。如JP-A-2003-188576圖2(b)所公開的，保護(hù)薄膜30還可以僅設(shè)在層合物IO的透明基膜14側(cè)上，而沒有設(shè)在金屬箔ll'上。在上述專利文獻(xiàn)的圖2和圖1中，具有相同附圖標(biāo)記的部件具有相同含義。接下來，將參考上述專利文獻(xiàn)的圖3(a)-(f)說明以層合物形式的電磁波屏蔽片1的層結(jié)構(gòu)和制造所述層合物的方法，所述層合物至少具有透明基膜14和層合在其上的電磁波屏蔽層，所述電磁波屏蔽層包括其中密集排列開口部的網(wǎng)狀金屬箔ll'并具有透明度。在說明制造層合物的方法之后將描述保護(hù)薄膜20和/或保護(hù)薄膜30的層合。如上述專利文獻(xiàn)的圖3(a)所示，首先制備具有通過粘合層13層合的透明基膜14和金屬箔11的層合物。作為透明基膜14，可以使用由丙烯酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、纖維素-基樹脂、聚砜樹脂或聚氯乙烯樹脂制成的薄膜。通常，優(yōu)選使用由具有優(yōu)異機械強度和高透明度的聚酯樹脂如聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂制成的薄膜。盡管透明基膜14的厚度沒有特別限制，但從賦予機械強度和增大耐彎折性的觀點來看，優(yōu)選約50jim-約200pm。其厚度可以進(jìn)一步增加。在使用在另一種透明基材上層合電磁波屏蔽片1后的情況下，不總是需要使用在上述范圍內(nèi)的厚度。在需要時，透明基膜14的一面或兩面可以經(jīng)受電暈放電處理，或可以在其上形成粘合促進(jìn)層。下面參照上述專利文獻(xiàn)的圖4進(jìn)行說明，通過例如紅外線切割過濾層在基材上層合上述層合物、并在正面和背面上進(jìn)一步層合具有增強最外面、賦予抗反射性能、賦予防污性等效果的片，從而利用電磁波屏蔽片1。應(yīng)在另外的層合步驟中剝離上述保護(hù)薄膜。因此，優(yōu)選的是保護(hù)薄膜以所謂的可剝離方式層合在金屬箔側(cè)上。在金屬箔上層合的保護(hù)薄膜的剝離強度優(yōu)選為5mN/25mm寬度至5N/25mm寬度，更優(yōu)選10mN/25mm寬度至100mN/25mm寬度。剝離強度低于上述下限是不希望的，因為剝離太易于發(fā)生，因此，在這種情況下在處理中或由于非故意接觸可能會剝離保護(hù)薄膜。此外，剝離強度超過上述上限是不希望的，因為需要較大的力進(jìn)行剝離，在這種情況下在剝離時會使網(wǎng)狀金屬笵與透明基膜(或粘合層)分離。在木發(fā)明的電磁波屏蔽片1中，在層合物(任選具有黑化層)的底面?zhèn)取⒓赐该骰?cè)層合的保護(hù)薄膜，其中網(wǎng)狀金屬箔通過粘合層13層合在透明基膜14上，用于保護(hù)透明基膜的下面免受處理中或由于非故意接觸造成的損傷，并在金屬箔上形成抗蝕劑層和蝕刻的各步驟中，特別是蝕刻中，防止透明基膜的暴露面被污染或腐蝕。與上述保護(hù)薄膜相似，這種保護(hù)薄膜應(yīng)在層合物上的另外層合步驟中剝離。因此，優(yōu)選的是以可剝離方式在透明基膜側(cè)層合這種保護(hù)薄膜。與上述保護(hù)薄膜相似，剝離強度優(yōu)選為5mN/25mm寬度-5N/25mm寬度，更優(yōu)選10mN/25mm寬度-100mN/25mm寬度。這是因為，剝離強度低于上述下限時，因為太容易剝離，在處理中或由于非故意接觸可能會剝離保護(hù)薄膜，而在剝離強度超過上述上限時，需要較大力進(jìn)行剝離。優(yōu)選的是在透明基膜側(cè)層合的保護(hù)薄膜對蝕刻條件有抵抗性，例如，當(dāng)在約5(TC的蝕刻溶液、特別是堿性成分中浸漬幾分鐘時不會腐蝕。在干式蝕刻的情況下，優(yōu)選的是保護(hù)薄膜對約IO(TC的溫度有耐受性。當(dāng)在層合感光樹脂層的步驟中浸漬涂布層合物的情況下，涂布溶液也與相反面粘附。因此，在這種情況下，優(yōu)選的是在保護(hù)薄膜和感光樹脂層之間具有足夠粘合力，使得感光樹脂不會剝離以及在蝕刻溶液中漂浮。在使用蝕刻溶液的情況下，優(yōu)選的是保護(hù)薄膜對含有氯化鐵、氯化銅等的蝕刻溶液的污染有耐受性，或?qū)τ糜诔タ刮g劑的溶液如堿性溶液的腐蝕或污染有耐受性。為滿足上述要求，作為構(gòu)成保護(hù)薄膜的薄膜，優(yōu)選使用由聚烯烴樹脂如聚乙烯樹脂或聚丙烯樹脂、聚酯樹脂如聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、丙烯酸酯樹脂等構(gòu)成的樹脂薄膜。從上述觀點來看，還優(yōu)選的是，當(dāng)用于層合物時，用作最外面的保護(hù)薄膜的至少一面已經(jīng)經(jīng)受了電暈放電處理，或己在其上形成粘合促進(jìn)層。作為構(gòu)成保護(hù)薄膜的壓敏粘合劑，可以使用丙烯酸酯-基、橡膠-基或聚硅氧烷-基壓敏粘合劑。保護(hù)薄膜和壓敏粘合劑用的薄膜材料也適用于在金屬箔側(cè)應(yīng)用的保護(hù)薄膜。閔此，作為這些保護(hù)薄膜，可以使用不同的薄膜或相同的薄膜。<黑化處理>參照J(rèn)P-A-2003-188576中的結(jié)構(gòu)圖，金屬箔可以在透明基膜側(cè)具有黑化層，從而使其具有防銹效果和抗反射性能。例如可通過Co-Cu合金電鍍形成的黑化層可以抑制金屬箔ll表面上的反射。此外，可以在其上進(jìn)行鉻酸鹽處理作為防銹處理。通過在含有鉻酸鹽或重鉻酸鹽作為主要成分的溶液中浸漬層合物、干燥以形成防銹涂膜而進(jìn)行鉻酸鹽處理。在需要時，可以在金屬箔的一面或兩面上進(jìn)行鉻酸鹽處理?？蛇x擇地，可以使用例如已經(jīng)進(jìn)行過鉻酸鹽處理的市售銅箔。在未使用黑化的金屬箔的情況下，可以在后面適當(dāng)步驟中進(jìn)行黑化處理。通過使用黑色組合物形成可用作后述抗蝕劑層的感光樹脂層，并在蝕刻完成后，保留抗蝕劑層不除去，這樣可以形成黑化層。可選擇地，可以使用電鍍方法，從而形成黑色涂膜。包括黑化層結(jié)構(gòu)的例子可以是JP-A-11-266095中記載的結(jié)構(gòu)。在上述電磁波屏蔽板中，例如，通過基于以下原理適當(dāng)?shù)剡x擇方法，可以形成由第一黑化層3a、第二黑化層3b等構(gòu)成的黑化層，它們構(gòu)成具有彼此交叉的橫向線x和縱向線y的網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案P。在本發(fā)明中，主要有兩種方法用于形成主要目的的網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案P，即金屬電鍍方法和蝕刻方法。在本發(fā)明中，基于所選方法不同，用于形成第一黑化層3a、第二黑化層3b等的方法和材料可以不同。在本發(fā)明中，在通過金屬電鍍方法在第--黑化層3a、第二黑化層3b等上形成導(dǎo)電圖案P的情況下，應(yīng)該使用可以經(jīng)金屬電鍍進(jìn)行處理的導(dǎo)電黑化層。另一方面，在最終階段，在通過蝕刻方法或電沉積方法使層黑化的情況下，可以使用非導(dǎo)電材料形成非導(dǎo)電黑化層。通?？梢酝ㄟ^使用導(dǎo)電金屬化合物如鎳(Ni)、鋅(Zn)或銅(Cu)的化合物形成導(dǎo)電黑化層。通過使用例如糊狀黑色聚合物材料如黑色油墨、黑色化學(xué)材料如通過化學(xué)處理金屬電鍍的表面制備的黑色化合物或電沉積性離子性聚合物材料如電沉積性涂料，可以形成非導(dǎo)電黑化層。在本發(fā)明中，通過使用所述黑化層-形成方法和適當(dāng)?shù)剡x擇適于制造電磁波屏蔽板的制造過程的方法，可以形成黑化層。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，導(dǎo)電圖案化面位于導(dǎo)電金屬部相對于PDP模塊的相反面，即從作為TV等觀察PDP—側(cè)的面。為增大觀察對比度，優(yōu)選的是導(dǎo)電圖案化面為黑色。當(dāng)呈黑色的部分占導(dǎo)電圖案化面總表面積的20%或更大時，可以提高對比度。本說明書中，表述"20%或更大"指黑色部分由幾乎不可見的微小部分構(gòu)成，并且這些部分的總面積占導(dǎo)電圖案化面總表面積的20%或更大。優(yōu)選的是呈黑色的部分占導(dǎo)電圖案化面總表面積的50%或更大，更優(yōu)選80%或更大。還優(yōu)選的是在與作為TV等觀察一側(cè)相反的表面上形成黑色層。如JP-A-11-266095的圖5所示，形成黑化層的方法包括首先在電解液如黑化的銅或黑化的鎳中浸漬具有網(wǎng)狀抗蝕劑圖案12的電沉積性基材14，所述電沉積性基材14包括用于防止在導(dǎo)電基材11如上述金屬板上電沉積的絕緣薄膜，并通過已知的電化學(xué)電鍍方法進(jìn)行電鍍，從而形成包括黑化的銅層或黑化的鎳層的網(wǎng)狀第二黑化層3b。作為上述黑色電鍍浴，在本發(fā)明中，可以使用含有硫酸鎳作為主要成分的黑色電鍍浴。此外，可以使用市售黑色電鍍浴。具體例子包括ShimizuCo.，Ltd.制造的黑色電鍍浴(商品名NOBUROISNC，Sn-Ni合金基)，NIHONKAGAKUSANGYOCo.，Ltd.制造的黑色電鍍浴(商品名NIKKABLACK,Sn-Ni合金基)，KINZOKUKAGAKUKOGYOK.K.律lJ造白勺黑色電鍍浴(商品名EBONYCHROM85SERIES,Cr基)等。作為黑色電鍍浴，可以使用各種黑色電鍍浴，包括Zn-基和Cu-基黑色電鍍浴。在本發(fā)明中，與上述文獻(xiàn)的圖5相似，將其上形成有第二黑化層3b的電沉積性基材14浸漬在屏蔽電磁波用的金屬電解液中。因此，在與電沉積性基材14的第二黑化層3b相應(yīng)的部分上層合并電沉積具有所需厚度的網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4。作為形成網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4的材料，可以使用上述引用的金屬等高導(dǎo)電材料作為最有利的材料。在這樣形成電沉積的金屬層的情況下，可以使用本領(lǐng)域中常用的金屬電解液。由于存在多種便宜的金屬電解液，因而這種情況是有利的，因為可以自由選擇適于目的的金屬電解液。作為便宜和高導(dǎo)電的金屬，通常使用Cu。盡管本發(fā)明也使用Cu，更不必說其它金屬也適用，只要適于目的并可應(yīng)用。在本發(fā)明中，不總是需要網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4只由一種金屬層構(gòu)成。由于上述由Cu構(gòu)成的網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案P相對柔軟，易產(chǎn)生磨損標(biāo)記，因此也可以使用常用的諸如Ni或Cr等硬質(zhì)金屬形成雙層的金屬電沉積的層，但這種情況沒有在圖中示出。如圖5所示，在本發(fā)明中，在形成網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4之后，網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4的表面可被化學(xué)處理。在導(dǎo)電圖案P由銅(Cu)構(gòu)成的情況下，例如，使用硫化氫(H2S)溶液對網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4進(jìn)行表面處理，以使銅表面黑化成硫化銅(CuS)。因此，構(gòu)成網(wǎng)狀導(dǎo)電圖案4的金屬電沉積的層的表面被黑化，形成第一黑化層3a。隨后，上述第二黑化層3b、導(dǎo)電圖案層4和第--黑化層3a順次按此順序?qū)雍希玫骄W(wǎng)狀導(dǎo)電圖案P。在本發(fā)明中，使用硫化物或硫化物-基化合物可以容易地進(jìn)行上述銅表面的黑化處理?？蛇x擇地，本發(fā)明還可以使用多種市售處理劑，如COPPERBLACKCuO、COPPERBLACKCuS，硒-基COPPERBLACKNo.65等(商品名；ISOLATEKAGAKUKENKYUSHO制造)和EBONOLCSPECIAL(商品名；MELTEXInc.制造)。在上述電磁波屏蔽板中，蝕刻抗蝕劑圖案35可以被除去或可以保留。在除去蝕刻抗蝕劑圖案35的情況下，可以在除去蝕刻抗蝕劑圖案35之后，黑化殘留的導(dǎo)電金屬層33的表面。對于黑化處理，可以使用公知的黑化方法，如使用例如黑色銅(Cu)或黑色鎳(Ni)的電鍍方法或化學(xué)黑化方法。[濾光器]除了上述透光性電磁波屏蔽膜之外，本發(fā)明的濾光器可以具有帶有復(fù)合功能層的功能薄膜。<復(fù)合功能層>在顯示器中，照明裝置等反射產(chǎn)生的外來圖像會干擾對顯示屏幕的觀察。因此，功能薄膜(C)應(yīng)具有防止外部光反時的抗反射(AR)性能、防止鏡面反射的防眩(AG)性能或同時滿足這兩個要求的抗反射和防眩(ARAG)性能。濾光器表面的低可見光反射率不僅有助于防止外部光反射，而且有助于改進(jìn)對比度等。具有抗反射性能的功能薄膜(C)具有抗反射薄膜。更具體而言，抗反射薄膜在可見區(qū)中具有低折射率為1.5或更小，優(yōu)選1.4或更小，并通過形成由氟聚合物樹脂、氟化鎂、聚硅氧烷-基樹脂或氧化硅構(gòu)成的薄膜以例如1/4波長光學(xué)薄膜厚度的單層來制備，或者通過層合具有不同折射率并由無機化合物如金屬氧化物、氟化物、硅化物、氮化物或硫化物或者有機化合物如聚硅氧垸-基樹脂、丙烯酸酯樹脂或氟化樹脂構(gòu)成的薄膜的多層來制備，但本發(fā)明不限于此。具有抗反射性能的功能薄膜(<:)的可見光反射率為2%或更小，優(yōu)選1.3%或更小，更優(yōu)選0.8%或更小。具有防眩性能的功能薄膜(C)具有在表面上具有約0.1)um-約10pm的小峰和谷并對可見光透明的防眩薄膜。更具體而言，通過在熱固性或光固化樹脂如丙烯酸酯樹脂、聚硅氧垸-基樹脂、三聚氰胺-基樹脂、氨基甲酸酯-基樹脂、醇酸樹脂-基樹脂或氟化樹脂中分散無機化合物或有機化合物如氧化硅、有機硅化合物、三聚氰胺或丙烯酸酯的顆粒得到油墨，然后將油墨涂布在基材上.，再硬化，從而制造這種功能薄膜。顆粒的平均直徑為1-40(im?？蛇x擇地，可通過在基材上涂布熱固性或光固化樹脂、在具有所需光澤或表面狀態(tài)的模具上按壓，再硬化，得到防眩性能。然而，本發(fā)明不限于這些方法。具有防眩性能的功能薄膜(C)的霧度為0.5%或更大但不超過20%，優(yōu)選1%或更大但不超過10%。當(dāng)霧度太低時，不能得到充分的防眩性能。另一方面，在極高霧度時，透過圖像的清晰度(sharpness)傾向于下降。為賦予濾光器足夠的耐擦傷性，優(yōu)選的是功能薄膜(C)具有硬涂性能。通過使用例如熱固性或光固化樹脂如丙烯酸酯樹脂、聚硅氧烷-基樹脂、三聚氰胺-基樹脂、氨基甲酸酯-基樹脂、醇酸樹脂-基樹脂或氟化樹脂可以形成硬涂薄膜，但是材料和形成方法沒有特別限制。薄膜的厚度約l-約50i^m。根據(jù)JIS(K-5400)測量，具有硬涂性能的功能薄膜(C)的鉛筆硬度至少為H，優(yōu)選2H，更優(yōu)選3H或更大。優(yōu)選在硬涂薄膜上形成抗反射薄膜和/或防眩薄膜，因為這樣可以得到具有耐擦傷性、抗反射性能和/或防眩性能的功能薄膜(C)。由于靜電荷的原因，灰塵和碎片經(jīng)常會附著到濾光器上。當(dāng)與人體接觸時，濾光器有時會因為放電造成電擊。因此，有時需要進(jìn)行抗靜電處理。為賦予抗靜電性能，功能薄膜(C)可以具有導(dǎo)電性。在這種情況下要求的導(dǎo)電性以表面電阻率表示為約1011Q/口或更小。作為賦予導(dǎo)電性的方法，可以列舉的有將抗靜電劑加到薄膜中的方法或形成導(dǎo)電層的方法?？轨o電劑的具體例子包括PELLESTAT(商品名；SANYOCHEMICALINDUSTRIES,Ltd.制造)、ELECTROSLIPPER(商品名；KAO制造)等。導(dǎo)電層的例子包括公知的以ITO代表的透明導(dǎo)電膜和其中分散有導(dǎo)電微粒子如ITO微粒子或氧化錫微粒子的導(dǎo)電膜。優(yōu)選的是提供有導(dǎo)電膜或含有導(dǎo)電微粒子的硬涂薄膜、抗反射薄膜或防眩薄膜。優(yōu)選的是功能薄膜(C)的表面具有防污性，因為可以防止指紋等污垢，并且在有污垢時，也可以容易地除去。作為防污劑，可以使用對水和/或脂肪和油沒有潤濕特性的物質(zhì)，例如，氟化合物或硅化合物。含氟防污劑的具體例子包括OPTOOL(商品名；DAIKININDUSTRIES,Ltd.制造)等，而硅化合物的具體例子包括TAKATAQUANTUM(商品名；NOFCo.制造)等。在抗反射薄膜中優(yōu)選使用這種防污層，這樣可以得到防污抗反射薄膜。為防止后述染料和聚合物薄膜劣化，優(yōu)選的是功能薄膜(C)具有紫外線-阻斷性能。通過將紫外線吸收劑加到上述聚合物薄膜中或使其帶有紫外線吸收薄膜，可以得到具有紫外線-阻斷性能的功能薄膜(C)。當(dāng)濾光器用于溫度高于室溫或濕度高于普通濕度的環(huán)境中時，有時會觀察到由于水分透過薄膜使后述染料劣化，由于在粘合用的壓敏粘合劑中或粘合界面處由于水分聚集而出現(xiàn)混濁，或者壓敏粘合劑中的增粘劑等在水分作用下發(fā)生相分離，從而造成混濁。因此，優(yōu)選的是功能薄膜(C)具有氣體阻擋性能。為防止染料變性或混濁，應(yīng)該防止水侵入含染料層或壓敏粘合劑層。為此，優(yōu)選的是功能薄膜(C)的蒸汽透過度為0g/m、天或更小，優(yōu)選5g/m、天或更小。在本發(fā)明中，使用對可見光透明的任意壓敏粘合劑或粘合劑(D1)(D2)來粘合聚合物薄膜(A)、導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)、功能薄膜(C)和在需要時使用的后述透明成型物(transparentmoldedarticle)(E)。壓敏粘合劑或粘合劑(D1)(D2)的具體例子包括聚醚、飽和無定形聚酯、三聚氰胺樹脂等，如丙烯酸酯粘合劑、聚硅氧垸-基粘合劑、氨基甲酸酯-基粘合劑、聚乙烯基丁縮醛(PVB)粘合劑和乙烯-乙酸乙烯酯(EVA)-基粘合劑。所述壓敏粘合劑或粘合劑可以是片狀或液體，只要具有在實用時可接受的粘合強度。作為壓敏粘合劑，可以優(yōu)選使用片狀的壓敏粘合劑。在粘合片狀壓敏粘合劑或涂布粘合劑之后，通過層合各元件進(jìn)行粘合。在涂布和粘合后，通過在室溫下放置或加熱硬化液體型粘合劑。涂布方法的例子包括棒涂法、逆涂法、凹版涂布方法、口模涂布方法、輥涂方法等。可以根據(jù)粘合劑的種類、粘度、涂布量等選擇適合的方法。盡管其厚度沒有特別限制，但其范圍為0.5pm-50iim，優(yōu)選1,-30pm。優(yōu)選的是，將其上待形成壓敏粘合劑層的面和待粘合的面預(yù)先進(jìn)行粘合促進(jìn)處理，如用粘合加速劑涂布或電暈放電，從而提高潤濕特性。在本發(fā)明中，上述對可見光透明的壓敏粘合劑或粘合劑被稱作透光性壓敏粘合劑。當(dāng)將功能薄膜(C)粘合到本發(fā)明中的導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)上時，使用透光性壓敏粘合劑層(D1)。在透光性壓敏粘合劑層(D)中使用的透光性壓敏粘合劑的具休例子與上述相同。重要的是，該層的厚度能充分補償導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)中凹部的深度。在該層的厚度小于導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的厚度的情況下，不能充分進(jìn)行補償，并且在凹部中侵入氣泡。其結(jié)果是，這樣得到的顯示過濾器變得混濁，透光性不充分。另一方面，在該層的厚度過大的情況下，存在諸如壓敏粘合劑的制造成本增大和處理惡化等一些問題。當(dāng)導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的厚度為dnm時，優(yōu)選的是透光性壓敏粘合劑層的厚度為(d-2)至(d+30)|im。優(yōu)選的是濾光器的可見光透過率為30-85%，更優(yōu)選35-70%。當(dāng)可見光透過率小于30%時，亮度過低，可見性惡化。在濾光器的可見光透過率過高的情況下，不能提高顯示器對比度。本發(fā)明中的可見光透過率基于可見光區(qū)的透過率波長相關(guān)性根據(jù)JIS(R-3106)計算。當(dāng)將功能薄膜(C)通過透光性壓敏粘合劑層(D1)粘合到導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)上時，有時觀察到氣泡侵入凹部中，引起混濁，從而降低透光性能。在這種情況下，可以通過加壓使元件之間侵入的氣泡脫氣或固體-溶解壓敏粘合劑中的氣泡，除去混濁，從而提高透光性能?？梢栽诮Y(jié)構(gòu)(cy(Diy(B)/(A)的狀態(tài)下進(jìn)行加壓?？蛇x擇地，本發(fā)明的顯示過濾器可以進(jìn)行加壓。加壓方法的例子包括包括在平板間夾持層合物并加壓的方法，包括使層合物在加壓下通過咬合輥(niprolls)之間的方法，和包括將層合物置于加壓容器中然后加壓的方法，但本發(fā)明并不特別限制于此。在加壓容器加壓的方法是優(yōu)選的，因為壓力可以均勻施加到整個層合物上，而沒有不均勻性，并且可以同時處理多個層合物。作為加壓容器，可以使用高壓釜。關(guān)于加壓條件，可以高效地除去侵入氣泡，并且可以在高壓下縮短處理?？紤]到層合物的耐壓性和加壓裝置的限制，壓力為約0.2MPa-約2MPa，優(yōu)選0.4-1.3MPa。加壓時間隨加壓條件變化，沒有限制。過長的加壓時間會使成本增加。因此，優(yōu)選的是在適當(dāng)條件下，在6小時或更短的保持時間下進(jìn)行加壓。在使用加壓容器的情況下，特別適合地是在預(yù)定壓力水平下保持約10分鐘-約3小時。在一些情況下，優(yōu)選的是在加壓同時進(jìn)行加熱。加熱使透光性壓敏粘合劑的流動性臨時增大，從而促進(jìn)壓敏粘合劑中的氣泡脫氣或促進(jìn)溶解。取決于構(gòu)成濾光器的各元件對熱的耐受性，可以在室溫至不高于約80'C下進(jìn)行加熱，但本發(fā)明沒有特別限制于此。加壓或加熱處理是有利的，因為可以提高構(gòu)成濾光器的各元件粘合之后的粘合力。在本發(fā)明的濾光器中，在聚合物薄膜(A)的導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的未形成導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的另一主面上形成另一透光性壓敏粘合劑層(D2)。透光性壓敏粘合劑層(D2)的具體例子與上述相同，但本發(fā)明沒有特別限制于此。盡管其厚度沒有特別限制，但其范圍為0.5pm，優(yōu)選1!im-30^m。優(yōu)選的是，將其上待形成透光性壓敏粘合劑層(D2)的面和其上待粘合的面預(yù)先進(jìn)行粘合促進(jìn)處理，如用粘合加速劑涂布或電暈放電，從而提高潤濕特性。在透光性壓敏粘合劑層(D2)上可以形成剝離薄膜。g卩，層合物至少由功能薄膜(C)/透光性壓敏粘合劑層(Dl)/導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)/聚合物薄膜(A)/透光性壓敏粘合劑層(D2)/剝離薄膜構(gòu)成。通過用聚硅氧烷等涂布與壓敏粘合劑接觸的聚合物薄膜的主面，來制備剝離薄膜。在將本發(fā)明的濾光器粘合到后述透明成型物(E)的主面時，或在將其粘合到顯示表面如等離子體顯示而板的前玻璃面上的情況下，剝離掉剝離薄膜，從而暴露透光性壓敏粘合劑層(D2)，然后粘合。本發(fā)明的濾光器主要用于阻斷各種顯示器產(chǎn)生的電磁波。作為其優(yōu)選的例子，可以舉出等離子體顯示器用的過濾器。如上所述，由于等離子體顯示器產(chǎn)生強的近紅外線，因此過濾器不僅應(yīng)阻斷電磁波，而且應(yīng)阻斷近紅外線，從而使實用上沒有問題。因此，必須將波長區(qū)800-1000nm的透過率調(diào)節(jié)到25%或更小，優(yōu)選15%或更小，更優(yōu)選10%或更小。等離子體顯示器中使用的濾光器應(yīng)具有中性灰色或藍(lán)灰色的透過色。這是因為必須保持或提高等離子體顯示器的發(fā)光特性和對比度，并且在一些情況下比標(biāo)準(zhǔn)白色略高一些色溫的白色是優(yōu)選的。據(jù)認(rèn)為，彩色等離子體顯示器的色彩再現(xiàn)性不充分。因此，優(yōu)選的是，選擇性地降低引起上述問題的熒光體或排放氣體的不需要的發(fā)光。特別地，紅色顯示中的發(fā)光譜在波長范圍約580nm-約700nm內(nèi)顯示數(shù)個發(fā)射峰，引起的問題在于，由于在短波長側(cè)相對較強的發(fā)射，使得紅色發(fā)光接近色純度低的橙色。可以使用染料控制這些光學(xué)特性。即，可以使用近紅外吸收劑切斷近紅外線，可以使用能夠選擇性地吸收不需要的發(fā)光的染料減小不需要的發(fā)光，從而獲得所需光學(xué)特性。使用在可見區(qū)內(nèi)具有適當(dāng)吸收的染料，可以使濾光器的色調(diào)良好?？梢允褂靡环N或多種選自以下的方法含有染料(1)使用通過捏合一種或多種染料與透明樹脂制造的聚合物薄膜或樹脂板；(2)使用通過在包括樹脂單體/有機溶劑的濃樹脂溶液中分散或溶解一種或多種染料經(jīng)澆鑄方法制造的聚合物薄膜或樹脂板；(3)使用通過將一種或多種染料和樹脂粘結(jié)劑加到有機溶劑中得到的涂料涂布的聚合物薄膜或樹脂板；和(4)使用含有一種或多種染料的透明壓敏粘合劑；但是本發(fā)明不限于此。本說明書中，術(shù)語"含有"不僅指包含于基材、層如涂膜或壓敏粘合劑中，而且也涂布在基材或?qū)拥谋砻嫔?。上述染料可以是在可見區(qū)具有所需吸收波長的常用染料或顏料、或近紅外吸收劑，其種類沒有特別限制。其例子包括一般市售的有機染料.，如蒽醌、酞菁、甲堿(methine)、甲亞胺、噁嗪、imonium、苯乙烯基類、香豆素、porphyline、二苯并呋喃、二氧代吡咯并吡咯、若丹明、氧雜蒽、吡咯甲川(pyrromethene)、二硫醇和diimonium化合物。染料的種類和濃度根據(jù)染料的吸收波長和吸收系數(shù)、濾光器所需的透過性能和透過率和染料在其中分散的介質(zhì)或涂膜的種類和厚度來決定，沒有特別限制。在具有高表面溫度和用于高環(huán)境溫度的等離子體顯示面板中，濾光器溫度也升高。因此，優(yōu)選的是染料的耐熱性不會因例如在8CTC下分解而嚴(yán)重劣化。除了耐熱性之外，一些染料缺乏耐光性。當(dāng)?shù)入x子體顯示面板的發(fā)光或外部光中的紫外光或可見光造成劣化問題，使用含有紫外線吸收劑的元件或紫外線-阻斷元件或使用不會因紫外光或可見光造成嚴(yán)重劣化的染料，來減輕因紫外光而使染料劣化。除了熱和光之外，對于濕度和具有這些因素組合的環(huán)境也同樣適用。當(dāng)染料劣化時，顯示過濾器的透過特性變化，因此其色調(diào)變化，或阻斷近紅外線的能力下降。由于染料將分散在介質(zhì)或涂膜中，因此在足量溶劑中的溶解度或分散性也是重要因素。在本發(fā)明中，具有不同吸收波長的兩種或多種染料可以含在單一介質(zhì)或涂膜中。也可以提供含有兩種或多種含染料的介質(zhì)或涂膜。在本發(fā)明中，含有染料的方法(l)-(4)按以下模式之一用在本發(fā)明的濾光器中，即，含有染料的聚合物薄膜(A)、含有染料的功能薄膜(C)、含有染料的透光性壓敏粘合劑(D1)和(D2)，和粘合用的另一種含有染料的透光性壓敏粘合劑或粘合劑。通常，染料傾向于被紫外光劣化。紫外光包含在外部光如陽光中，濾光器在通常使用條件下暴露于紫外光。為防止紫外光引起的劣化，適宜的是，選自含有染料的層本身和位于接觸外部光的觀察者側(cè)的層的至少一層設(shè)有能夠阻斷紫外光的層。在聚合物薄膜(A)含有染料的情況下，例如，針對壓敏粘合劑層(D1)和/或功能薄膜(C)加入紫外線吸收劑或提供能夠阻斷紫外光的功能薄膜，可以防止染料接觸外部光的紫外光。為保護(hù)染料阻斷紫外光，波長短于380nm的紫外線區(qū)中的透過率應(yīng)為20%或更小，優(yōu)選10%或更小，更優(yōu)選5%或更小。能夠阻斷紫外光的功能薄膜可以是含有紫外線吸收劑的涂膜或反射或吸收紫外光的無機薄膜。作為紫外線吸收劑，可以使用公知的，如苯并三唑或二苯甲酮化合物。其種類和濃度根據(jù)在將要分散或溶解的介質(zhì)中的分散性或溶解度、吸收波長、吸收系數(shù)、介質(zhì)厚度等來決定，沒有特別限制。優(yōu)選的是，能夠阻斷紫外光的層或薄膜在可見區(qū)具有較小吸收，既不會使可見光透過率有較大降低，也不會發(fā)生著色，如變黃。在含有染料的層形成在含有染料的功能薄膜(C)中的情況下，位于該層觀察者側(cè)的層或功能薄膜可以具有阻斷紫外光的能力。在聚合物薄膜含有染料的情況下，在薄膜的觀察者側(cè)可以具有能夠阻斷紫外光的功能薄膜或功能層。一些染料會因與金屬接觸而劣化。在使用這種染料的情況下，更優(yōu)選的是布置染料，使其與導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的接觸最小。更具體而言，優(yōu)選的是，含有染料的層是功能薄膜(C)、聚合物薄膜(A)或透光性壓敏粘合劑層(D2)，透光性壓敏粘合劑層(D2)是特別優(yōu)選的。本發(fā)明的濾光器由聚合物薄膜(A)、導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)、功能薄膜(C)、透光性壓敏粘合劑層(D1)和透光性壓敏粘合劑層(D2)按順序(Cy(Dl)/(B)/(A)/(D2)構(gòu)成。優(yōu)選的是，使用透光性壓敏粘合劑層(D1)使由導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)和聚合物薄膜(A)構(gòu)成的導(dǎo)電網(wǎng)狀薄膜粘合到功能薄膜上，透光性壓敏粘合劑層(D2)置于聚合物薄膜(A)與導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)相對側(cè)的主面上。為將本發(fā)明的濾光器安裝在顯示器上，功能薄膜(C)位于觀察者側(cè)，而透光性壓敏粘合劑層(D2)位于顯示器側(cè)。作為在顯示器正面使用本發(fā)明濾光器的方法，可以舉出的有，使用后述透明成型物(E)作為支持體而將濾光器用作正面過濾器的方法，其中通過透光性壓敏粘合劑層(D2)將濾光器粘合到顯示表面上的另一種方法。前者方法適于保護(hù)顯示器，因為濾光器可以相對容易地設(shè)置，并且由于支持體，機械強度增大。另一方面，在后者方法中，有利的是，由于沒有支持體，可以減小重量和厚度，并可以防止顯示器表面上的反射。透明成型物(E)的例子包括玻璃板和透光性塑料板。從機械強度、輕量和不易碎的觀點來看，塑料板是優(yōu)選的。然而，還優(yōu)選使用對熱穩(wěn)定并且因熱變形較小的玻璃板。塑料板的具體例子包括由丙烯酸酯樹脂如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯樹脂和透明ABS樹脂制成的那些，但本發(fā)明不限于這些樹脂。特別優(yōu)選使用在寬波長區(qū)保持高透明度和高機械強度的PMMA。塑料板的厚度沒有特別限制，只要具有足夠的機械強度和保持平面性不會下垂的剛性。通常，其厚度約1mm-約10mm。作為玻璃板，優(yōu)選使用已經(jīng)進(jìn)行過化學(xué)硬化處理或風(fēng)冷硬化處理從而賦予機械強度的半硬化玻璃板或硬化玻璃板?？紤]到重量，玻璃板的厚度優(yōu)選約l-約4mm，但本發(fā)明不限于此。在粘合到薄膜上之前，透明成型物(E)可以進(jìn)行各種已知的預(yù)處理。還可以在用作濾光器邊緣的部分中進(jìn)行有色(例如，黑色)框架印刷。在使用透明成型物(E)的情況下，濾光器至少由功能薄膜(C)/透光性壓敏粘合劑層(Dl)/導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)/聚合物薄膜(A)/透光性壓敏粘合劑層(D2)/透明成型物(E)構(gòu)成。還可以通過透光性壓敏粘合劑層，在與待粘合至透光性壓敏粘合劑層(D2)的面相對的透明成型物(E)主面上形成功能薄膜(C)。在這種情況下，不需要這種功能薄膜與設(shè)在觀察者側(cè)的功能薄膜(C)具有相同功能或結(jié)構(gòu)。在這種功能薄膜具有抗反射性能的情況下，例如，可以降低具有支持體的濾光器的背面反射。此外，可以在與待粘合至透光性壓敏粘合劑層(D2)的面相對的透明成型物(E)主面上形成功能薄膜(C2)如抗反射薄膜。盡管在這種情況下功能薄膜(C2)可以位于顯示器的觀察者側(cè)，優(yōu)選的是，如上所述，在含有染料的層中或在含有染料的層的觀察者側(cè)，提供能夠阻斷紫外光的層。在需要電磁波屏蔽的儀器中，需要通過在儀器的殼體中形成金屬層或使用導(dǎo)電材料作為殼體來阻斷電磁波。當(dāng)需要透明顯示部作為顯示器時，設(shè)置具有透光性導(dǎo)電層的窗戶形狀的電磁波屏蔽過濾器，如本發(fā)明的濾光器。電磁波被導(dǎo)電層吸收，然后產(chǎn)生電荷。除非電荷經(jīng)接地線逸出，濾光器再次用作天線，使電磁波振蕩，從而使電磁波屏蔽能力降低。因此，濾光器應(yīng)與顯示主休的接地部電接觸。因此，上述透光性壓敏粘合劑層(D1)和功能薄斷C)應(yīng)形成在導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)上，同時留出導(dǎo)通外部的導(dǎo)通部(conductpart)。盡管導(dǎo)通部的形狀沒有特別限制，但是在濾光器和顯示主體之間應(yīng)沒有使電磁波泄漏的間隙。因此，優(yōu)選的是導(dǎo)通部在導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)的周圍連續(xù)形成。g卩，優(yōu)選的是在中心部分之外設(shè)置框架狀導(dǎo)電部用作顯示器顯示部。導(dǎo)通部可以是網(wǎng)狀圖案層或非圖案化層如固體金屬箔層。然而，為與顯示主體的接地部獲得良好電導(dǎo)，非圖案化導(dǎo)通部如固體金屬箔層是優(yōu)選的。優(yōu)選的是，導(dǎo)通部是非圖案化的，如固體金屬箔，和/或?qū)ú烤哂凶銐蚋叩臋C械強度，因為導(dǎo)通部可以原樣用作電極。為保護(hù)導(dǎo)通部和/或在導(dǎo)通部是網(wǎng)狀圖案層的情況下獲得與接地部的良好電導(dǎo)，有時優(yōu)選的是在導(dǎo)通部中形成電極。盡管電極的形狀沒有特別限制，但完全覆蓋導(dǎo)通部的電極是優(yōu)選的。從導(dǎo)電性、耐腐蝕性和與透明導(dǎo)電膜粘合性的觀點來看，電極用的材料的例子包括可以單獨使用或以兩種或多種的合金使用的金屬如銀、銅、鎳、鋁、鉻、鐵、鋅和碳，這些金屬(單獨地或合金)與合成樹脂的混合物，和包括硼硅酸鹽玻璃與這些金屬(單獨地或合金)的混合物的糊狀物。為印刷和涂布這種糊狀物，可以使用公知方法。此外，市售導(dǎo)電帶可適當(dāng)?shù)厥褂?。作為?dǎo)電帶，可以使用在兩面具有導(dǎo)電性的帶，或使用碳分散體型導(dǎo)電粘合劑的單側(cè)粘合劑型。優(yōu)選使用雙面粘合劑型的帶。電極的厚度為幾pm-幾mm，但本發(fā)明不限于此。根據(jù)本發(fā)明，可以得到具有優(yōu)異光學(xué)特性的濾光器，這樣可以保持或甚至提高等離子體顯示器的圖像質(zhì)量，而不會大大損害其亮度。還可以得到電磁波屏蔽能力優(yōu)異的濾光器，其阻斷從等離子體顯示器產(chǎn)生的被認(rèn)為可能對健康有不利影響的電磁波，并能夠有效地阻斷等離子體顯示器產(chǎn)生的約800-約1000mn的近紅外光束，而不會對外圍裝置如遠(yuǎn)程控制、傳送光通信系統(tǒng)等使用的波長有不利影響，從而可以防止機械故障。此外，可以低成本提供耐候性優(yōu)異的濾光器。接下來，詳細(xì)說明用以實現(xiàn)本發(fā)明上述第二目的的制造顯示過濾器的方法。本發(fā)明的制造顯示過濾器的方法其特征在于，使用電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成導(dǎo)電層(B)，導(dǎo)電層(B)具有在聚合物薄膜(A)的機械加工方向上連續(xù)形成的網(wǎng)狀圖案，所述方法包括在制造過程中切斷電磁波屏蔽材料(C)的網(wǎng)狀部的步驟。聚合物薄膜(A)可以是允許可見區(qū)的光透過的薄膜。在本發(fā)明中，術(shù)語"透明的"指允許可見區(qū)的光透過。聚合物薄膜(A)的具體例子包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳基化物、聚醚醚酮、聚碳酸酯、聚乙烯、聚丙烯等，但本發(fā)明不限于此。所述聚合物薄膜可以具有硬涂層等。在形成導(dǎo)電網(wǎng)狀層(B)之前，可以使聚合物薄斷A)進(jìn)行各種已知的預(yù)處理如洗滌或電暈放電。聚合物薄膜(A)的厚度優(yōu)選為10-250)Lim，但本發(fā)明不限于此。為在聚合物薄膜(A)上形成導(dǎo)電層(B)，可以使用公知方法。方法的例子包括(a)包括在聚合物薄膜(A)的一面上用導(dǎo)電物質(zhì)(B1)形成幾何圖案、然后將導(dǎo)電物質(zhì)(B2)附著到該幾何圖案上的方法；(b)方法包括通過粘合層(B3)將聚合物薄膜(A)粘合到金屬箔(B4)上、然后加工金屬箔(B4)得到幾何圖案的方法；等等。在方法(a)中用導(dǎo)電物質(zhì)(Bl)形成幾何圖案的方法的例子包括通過噴墨、銅版印刷、凸版印刷、平版印刷、絲網(wǎng)印刷等在聚合物薄膜(A)的一面上直接印刷導(dǎo)電物質(zhì)(B1)的方法；通過用感光導(dǎo)電物質(zhì)(B1)涂布或?qū)雍暇酆衔锉∧?A)，通過例如用激光繪制曝光，然后除去曝光部或未曝光部而形成圖案的方法；等等。作為在由導(dǎo)電物質(zhì)(B1)形成的幾何圖案上附著導(dǎo)電物質(zhì)(B2)的方法的例子，可以引用公知方法如無電鍍和電解電鍍。在使用導(dǎo)電物質(zhì)(B1)形成的幾何圖案具有足夠?qū)щ娦缘那闆r下，其可以原樣用作電磁波屏蔽材料，而不用附著導(dǎo)電物質(zhì)(B2)。作為具體例子，可以提出如下方法包括在聚合物薄膜(A)上涂布含有鹵化銀的乳液，通過激光繪制法進(jìn)行掃描曝光得到連續(xù)網(wǎng)狀，進(jìn)行顯影形成金屬鹵化物部分和透光性部分，然后使用硫酸銅進(jìn)行無電鍍，從而形成網(wǎng)狀圖案化導(dǎo)電層。另一方面，在方法(b)屮，使用如下方法在金屬箔(B4)上形成幾何圖案包括通過噴墨、銅版印刷、凸版印刷、平版印刷、絲網(wǎng)印刷等印刷抗蝕劑圖案的方法，或者包括在金屬箔(B4)上涂布感光抗蝕劑，用激光繪制法等曝光，然后進(jìn)行顯影形成抗蝕劑圖案，和用合適蝕刻溶液洗脫圖案之外部分中的金屬從而形成所需導(dǎo)電層(B)的方法。作為具體例子，可以使用如下方法包括通過氨基甲酸酯-基粘合層將銅箔粘合到聚合物薄膜上，通過凹版印刷在銅箔上連續(xù)形成網(wǎng)狀抗蝕劑圖案，干燥，使用包括例如氯化亞鐵的蝕刻溶液除去非抗蝕劑部分中的銅箔，用水洗滌，然后使用堿剝離掉抗蝕劑。在聚合物薄膜(A)上形成導(dǎo)電層(B)的方法不限于上述方法(a)或(b)。然而，優(yōu)選的是使用方法(a)，其中沒有形成降低透光性部分的透明度的層(如方法(b)中的粘合層(B3))。除了方法(a)和(b)之外，還可以舉出形成導(dǎo)電層(B)方法的其它例子，即，方法(c)，其包括形成網(wǎng)狀導(dǎo)電金屬薄膜，然后將該網(wǎng)狀導(dǎo)電金屬薄膜轉(zhuǎn)移到聚合物(A)形成導(dǎo)電層(B);和方法(d)，其包括形成對聚合物薄膜(A)上的金屬表現(xiàn)出高粘合性的透明樹脂層，通過電鍍、干式涂布等進(jìn)一步形成金屬薄膜層，按與方法(b)相同方式形成抗蝕劑圖案，和通過蝕刻除去非抗蝕劑圖案部分中的金屬薄膜層得到導(dǎo)電層(B)。導(dǎo)電層(B)的厚度根據(jù)所需的電磁波屏蔽性能、透光性和形成導(dǎo)電層(B)中使用的方法來確定。盡管屏蔽等離子體顯示面板中的電磁波所需的導(dǎo)電性隨電磁波標(biāo)準(zhǔn)和等離子體顯示面板產(chǎn)生的電磁波強度變化，但以表面電阻率表示的優(yōu)選范圍為0.01-1。/!]，更優(yōu)選0.01-0.5Q/L]。在本發(fā)明中，使用4探針型電阻計測量表面電阻率。導(dǎo)電層(B)的厚度優(yōu)選為0.5-20pm，但本發(fā)明不限于此。當(dāng)導(dǎo)電層(B)過薄時，不能得到充分導(dǎo)電性。另一方面，過厚的厚度會使成本增加或重量增加。因此，優(yōu)選的是厚度為5-15pm.盡管導(dǎo)電層(B)的圖案沒有特別限制，但較細(xì)線寬和較寬線間隔有助于增大開口率，而增大開口率會增大顯示部的透光性。還有利的是，在這種情況下很少出現(xiàn)干涉條紋(波紋)。然而，當(dāng)開口率過度增大時，導(dǎo)電層(B)表現(xiàn)出較差的導(dǎo)電性。因此，可以優(yōu)選使用線寬l-50)iim和間隔30-500nm。為防止出現(xiàn)從縱橫配置的顯示象素發(fā)出的光的光學(xué)干涉造成的干涉條紋(波紋)，重要的是，格子網(wǎng)狀圖案中的網(wǎng)狀圖案線相對于象素線成一定角度(偏移角度)?？梢愿鶕?jù)象素間隔以及網(wǎng)狀圖案的間隔和線寬適當(dāng)?shù)剡x擇偏移角度。由于在本發(fā)明中使用電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成導(dǎo)電層(B)，導(dǎo)電層(B)具有在聚合物薄膜(A)的機械加工方向上連續(xù)形成的網(wǎng)狀圖案，因此可以切斷機械加工方向上的任意部分并粘合到玻璃上，從而可以極高生產(chǎn)率制造顯示過濾器。由于網(wǎng)狀部連續(xù)形成，因而單一規(guī)格的電磁波屏蔽材料(C)可以切成具有任意寬度的片，并適用于各種顯示過濾器。本發(fā)明使用的術(shù)語"機械加工方向"指在制造過程中在機器中或其上處理材料并輸送的方向。在用輥-輥系統(tǒng)處理聚合物薄膜巻的情況下，例如，打開的薄膜在處理中輸送的方向被認(rèn)為是機械加工方向。圖2和圖3是從導(dǎo)電層(B)側(cè)觀察的網(wǎng)狀電磁波屏蔽材料的平面示意圖。網(wǎng)狀可以是格子或蜂窩狀，沒有特別限制。導(dǎo)電層(B)在聚合物薄膜(A)上連續(xù)形成。本說明書中，術(shù)語"連續(xù)"指在聚合物薄膜(A)的機械加工方向形成網(wǎng)狀，而沒有斷開。連續(xù)的范圍，即圖2和圖3中的長度(dx)，至少相應(yīng)于兩個顯示過濾片。在用于42英寸過濾器時，例如，長度dx為2m或更長。更優(yōu)選地，長度dx相應(yīng)于五個顯示過濾片。在用于42英寸過濾器時，例如，優(yōu)選的是長度dx為5m或更長。連續(xù)范圍的上限沒有特別限制，隨所用聚合物薄膜(A)的厚度和導(dǎo)電層(B)的厚度變化。在聚合物薄膜(A)的厚度為100!im的情況下，長度dx優(yōu)選為2000m或更小。這樣形成的電磁波屏蔽材料(C)被切成各種尺寸和形狀，并用在顯示過濾器中。電磁波屏蔽材料(C)可以被切成各種寬度，如500mm或400mm，以適于過濾器尺寸，然后沿機械加工方向切割網(wǎng)狀部，得到適于過濾器尺寸的任意長度，從而制得顯示過濾器。因此，單一規(guī)格的電磁波屏蔽材料(C)可用于任意尺寸的顯示過濾器中。導(dǎo)電層(B)的網(wǎng)狀不總是形成在圖2的聚合物薄膜(A)的整個面上。只要例如如圖3所示，網(wǎng)狀連續(xù)形成在聚合物薄膜(A)的機械加工方向，不總是需要薄膜的開始端、終端和外圍均是網(wǎng)狀。必要的是，導(dǎo)電層(B)的至少一面，即聚合物薄膜(A)側(cè)或相對側(cè)，呈黑色或黑棕色。當(dāng)將顯示過濾器安裝在顯示器上時，黑色或黑棕色面位于觀察者側(cè)，使得可以提高顯示器的對比度和可見性。在使用由銅、鋁、鎳等制成的金屬色或白色的面的情況下，顯示面上的光反射增加，因此顯示過濾器的可見光反射率增加。其結(jié)果是，降低對比度或可見性，或者顯示過濾器具有金屬色。盡管與金屬或白色面相比，棕色或黑棕色面有助于降低反射，但黑色面是更優(yōu)選的。還優(yōu)選的是，當(dāng)將顯示過濾器安裝在顯示器上時位于顯示側(cè)的面具有黑棕色或黑色，因為這樣可以降低顯示過濾器的背面反射。賦予在聚合物薄膜(A)側(cè)或與聚合物薄膜(A)相對側(cè)中導(dǎo)電層(B)的面以黑色或黑棕色的方法的例子包括(a)包括使用導(dǎo)電油墨的方法；(b)包括使用黑化的金屬箔的方法；禾n(c)包括層合各自呈黑色的金屬薄膜、金屬氧化物薄膜或金屬硫化物薄膜的方法。作為方法(a)中的導(dǎo)電油墨，可以使用含有炭黑或黑色顏料的導(dǎo)電油墨。方法(b)中的黑化的金屬箔指在一面或兩面已進(jìn)行表面粗糙化的金屬箔或具有包括黑色顏料或銅或鉻的氧化物或硫化物例如三氧化鉻或硫化鎳的黑色層的金屬箔，但本發(fā)明不限于此。金屬箔的表面可以具有防銹層，或防銹層可以呈黑色。還優(yōu)選的是，使設(shè)置在金屬箔表面上的黑色層中的可視不規(guī)則性最小。不希望使用具有嚴(yán)重不規(guī)則性的金屬箔形成導(dǎo)電層(B)，因為這樣構(gòu)造的顯示過濾器在過濾器表面上表現(xiàn)出不規(guī)則反射。在層合金屬薄膜的方法(c)中，在最上層上或者最下層和最上層上層合各自呈黑色并包括鉻等的金屬薄膜、金屬氧化物薄膜、金屬硫化物薄膜或其混合物，形成單層或多層。在每一方法中，重要的是，即使在黑化表面之后，導(dǎo)電層(B)具有實用時可接受的屏蔽電磁波的能力。在本發(fā)明中優(yōu)選的是，通過將具有在聚合物薄膜(A)的一面上形成的導(dǎo)電層(B)的電磁波屏蔽材料(C)通過透明壓敏粘合劑層(D1)粘合到透明支持層(F)上，或?qū)⑵渫ㄟ^透明壓敏粘合劑層(D1)直接粘合到顯示面板上，而不使用透明支持層(F)，從而制造顯示過濾器。從機械強度、輕量和不易碎的觀點來看，優(yōu)選使用在可見光區(qū)透明的塑料板作為透明支持層(F)。其具體例子包括丙烯酸酯樹脂如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯樹脂和透明ABS樹脂。另一方面，從高熱穩(wěn)定性即受熱變形較小的觀點來看，玻璃板也適用。在使用玻璃板的情況下，優(yōu)選的是使用已經(jīng)進(jìn)行過化學(xué)硬化處理或風(fēng)冷硬化處理從而賦予機械強度的硬化玻璃板，或熱處理的玻璃板。還可以在用作濾光器邊緣的部分中進(jìn)行有色(例如，黑色)框架印刷。另一種功能薄膜(E)可以粘合到這樣得到的顯示過濾器上。通過粘合功能薄膜(E)，可以賦予顯示過濾器以功能薄膜(E)具有的功能，如硬涂布性能、抗反射性能、防眩性能、抗靜電性能、防污性、紫外線阻斷性能、近紅外線阻斷性能等。功能薄膜(E)可以通過透明壓敏粘合劑層(D2)粘合在電磁波屏蔽材料(C)的導(dǎo)電層(B)側(cè)?？蛇x擇地，還可以將透明支持層(F)通過透明壓敏粘合劑層(D1)粘合在電磁波屏蔽材料(C)的聚合物薄膜(A)側(cè)，然后將功能薄膜(E)通過透明壓敏粘合劑層(D3)粘合到透明支持層(F)與電磁波屏蔽材料(C)相對的面上。本發(fā)明顯示過濾器的結(jié)構(gòu)的例子如下(E)/(D2)/(B)/(A)/(D1)/(F)，(B)/(A)/(D)/(F)/(D3)/(E)，(E)/(D2)/(B)/(A)/(D1)/(F)/(D3)/(E)等。功能薄膜(E)是具有選自硬涂布性能、抗反射性能、防眩性能、抗靜電性能、防污性、紫外線阻斷性能、近紅外線阻斷性能等中的一種或多種功能的透明聚合物薄膜。其可以是由具有上述功能的一層或多層構(gòu)成的薄膜或含有具有各功能的物質(zhì)的薄膜。在一個顯示器中使用多種功能薄膜(E)的情況下，可以使用具有不同功能的薄膜。當(dāng)安裝在顯示器上時，例如，顯示過濾器觀察者側(cè)的面中所用的功能薄膜(E)可以不同于顯示側(cè)的面中所用的另一種功能薄膜(E)。功能薄膜(E)中所用的聚合物薄膜可以是任意的，只要其在可見波長區(qū)是透明的。其具體例子包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯等，但本發(fā)明不限于此。在顯示器中，照明裝置等反射產(chǎn)生的外來圖像會干擾對顯示屏幕的觀察。因此，優(yōu)選的是，功能薄膜(E)應(yīng)具有防止外部光反射的抗反射(AR)性能、防止鏡面反射的防眩(AG)性能或同時滿足這兩個要求的抗反射和防眩(ARAG)性能。顯示過濾器表面的低可見光反射率不僅有助于防止外部光反射，而且有助于改進(jìn)對比度等。為賦予顯示過濾器足夠的耐擦傷性，優(yōu)選的是功能薄膜(E)具有硬涂性能。此外，由于靜電荷的原因，灰塵和碎片經(jīng)常會附著到顯示過濾器上。當(dāng)與人體接觸時，顯示過濾器有時會因為放電造成電擊。因此，優(yōu)選的是功能薄膜(E)具有賦予抗靜電性能的導(dǎo)電性。優(yōu)選的是硬涂薄膜、抗反射薄膜或防眩薄膜設(shè)有導(dǎo)電膜或含有導(dǎo)電微粒子。優(yōu)選的是功能薄膜(E)的表面具有防污性，因為可以防止指紋等污垢，并且在冇污垢時，也可以容易地除去。在抗反射薄膜中優(yōu)選使用這種防污層，這樣可以得到防污抗反射薄膜。在本發(fā)明中，可以使用任意透明壓敏粘合劑或粘合劑將功能薄膜(E)粘合到顯示過濾器上。在本發(fā)明中，可見光透過性壓敏粘合劑或粘合劑被稱作透明壓敏粘合劑。作為透明壓敏粘合劑，可以優(yōu)選使用片狀的壓敏粘合劑。還可以使用進(jìn)行涂布的液體型。此外，可以使用通過在室溫下放置或加熱而硬化的液體型粘合劑。優(yōu)選的是，在形成壓敏粘合劑層的功能薄膜(E)的面上預(yù)先進(jìn)行粘合促進(jìn)處理，如用粘合加速劑涂布或電暈放電，從而提高潤濕特性。由于等離子體顯示器產(chǎn)生強的近紅外線，因此應(yīng)將這些近紅外線減到在實用上沒有問題的程度。因此，等離子體顯示器中使用的顯示過濾器應(yīng)具有中性灰色或藍(lán)灰色的透過色。這是因為必須保持或提高等離子體顯示器的發(fā)光特性和對比度，并且在一些情況下比標(biāo)準(zhǔn)白色略高一些色溫的白色是優(yōu)選的。據(jù)認(rèn)為，彩色等離子體顯示器的色彩再現(xiàn)性不充分。因此，優(yōu)選的是，選擇性地降低顯示過濾器引起上述問題的熒光體或排放氣體的不需要的發(fā)光?？梢栽陲@示過濾器中使用染料控制這些光學(xué)特性。即，可以使用近紅外吸收劑切斷近紅外線，同時可以使用能夠選擇性地吸收不需要的發(fā)光的染料減小不需要的發(fā)光，從而獲得所需光學(xué)特性。使用在可見區(qū)內(nèi)具有適當(dāng)吸收的染料，可以使顯示過濾器的色調(diào)良好?？梢允褂靡环N或多種選自以下的方法在顯示過濾器中含有染料(a)使用通過捏合一種或多種染料與透明樹脂制造的聚合物薄膜或樹脂板；(b)使用通過在包括樹脂單體/有機溶劑的濃樹脂溶液中分散或溶解一種或多種染料經(jīng)澆鑄方法制造的聚合物薄膜或樹脂板；(c)使用通過將一種或多種染料和樹脂粘結(jié)劑加到有機溶劑中得到的涂料涂布的聚合物薄膜或樹脂板；和(d)使用含有一種或多種染料的壓敏粘合劑；但是本發(fā)明不限于此。本說明書中，術(shù)語"含有"不僅指包含于基材、層如涂膜或壓敏粘合劑中，而且也涂布在基材或?qū)拥谋砻嫔?。可以含有多種染料。本發(fā)明中，具有不同吸收波長的兩種或多種染料可以含在單一介質(zhì)或涂膜中。也可以提供含有兩種或多種染料的介質(zhì)或涂膜。染料可以含在聚合物薄膜(A)、粘合層、壓敏粘合劑層、功能薄膜(E)或透明支持層(F)的任一種中。在需要防止從其產(chǎn)生的電磁波泄漏的儀器中，需要通過在儀器的殼體中形成金屬層或使用導(dǎo)電材料作為殼體來阻斷電磁波。當(dāng)需要透明顯示部作為顯示器時，設(shè)置具有透光性導(dǎo)電層的窗戶形狀的電磁波屏蔽過濾器，如本發(fā)明的濾光器。電磁波被導(dǎo)電層吸收，然后產(chǎn)生電荷。這樣產(chǎn)生的電荷使用導(dǎo)電物質(zhì)作為天線，使電磁波振蕩。因此，除非電荷經(jīng)接地線逸出，會有泄漏電磁波危險。因此，濾光器應(yīng)與顯示主體的接地部電接觸。在電磁波屏蔽材料的導(dǎo)電層(B)上形成另一層的情況下，導(dǎo)電層(B)沒有被其它層完全覆蓋，而是留出導(dǎo)通外部的導(dǎo)電連接部。上述通過透明壓敏粘合劑層(D2)將功能薄膜(E)粘合到導(dǎo)電層(B)的結(jié)構(gòu)相應(yīng)于這種情況。盡管導(dǎo)電連接部的形狀沒有特別限制，但是在顯示過濾器和顯示主體之間必須沒有使電磁波泄漏的間隙。因此，優(yōu)選的是導(dǎo)電連接部在導(dǎo)電層(B)的周圍連續(xù)形成。SP，優(yōu)選的是在中心部分之外設(shè)置用作顯示器顯示部的框架狀導(dǎo)電連接部。然而，本發(fā)明沒有特別限制于此，可以使用不連續(xù)的導(dǎo)電連接部，只要可以防止電磁波泄漏。例如，可以使用顯示過濾器兩相對邊的端部作為導(dǎo)電連接部。導(dǎo)電連接部可以是導(dǎo)電層(B)中的幾何圖案的導(dǎo)電部。然而，為改進(jìn)與顯示器接地部的電接觸，有時優(yōu)選的是在導(dǎo)電層(B)上形成用作導(dǎo)電連接部的電極。盡管電極的形狀沒有特別限制，但完全覆蓋導(dǎo)電連接部的電極是優(yōu)選的。從導(dǎo)電性、耐腐蝕性和與導(dǎo)電層(B)粘合性的觀點來看，電極用的材料的例子包括可以單獨地使用或以兩種或多種的合金使用的金屬如銀、銅、鎳、鋁、鉻、鐵、鋅和碳，這些金屬(單獨地或合金)與合成樹脂的混合物，和包括硼硅酸鹽玻璃與這些金屬(單獨地或合金)的混合物的糊狀物。為印刷和涂布這種糊狀物，可以使用公知方法。優(yōu)選的是使用的涂料或糊狀物呈黑色。在這樣形成的電極呈黑色的情況下，可以用作用于區(qū)別顯示器中的顯示部與非顯示部的黑色框架印刷，從而可以低成本地制造過濾器。作為這種情況下使用的涂料或糊狀物，可以使用上述合金與樹脂的組合。優(yōu)選使用僅包括碳與樹脂的涂料或糊狀物，或通過將碳微粒子加到包括銀、銅等的高導(dǎo)電金屬涂料或糊狀物中制備的黑色涂料或糊狀物。此外，市售導(dǎo)電帶可適當(dāng)?shù)厥褂谩Ｗ鳛閷?dǎo)電帶，可以使用在兩面具有導(dǎo)電性的帶，或使用碳分散體型導(dǎo)電粘合劑的單側(cè)粘合劑型。電極的厚度為幾pm-幾mm，但本發(fā)明不限于此。優(yōu)選的是顯示過濾器的可見光透過率為30-85%，更優(yōu)選35-70%。當(dāng)可見光透過率小于30%吋，顯示屏幕的亮度過低，可見性惡化。在顯示過濾器的可見光透過率過高的情況下，不能提高顯示器對比度。本發(fā)明中的可見光透過率基于可見光區(qū)的透過率波長相關(guān)性根據(jù)JIS(R-3106)計算。實施例下面通過以下實施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。在以下實施例中，所用的材料、用量和比例以及處理內(nèi)容和處理順序可以在本發(fā)明的范圍內(nèi)任選地改變。即，本發(fā)明的范圍不限于下述實施例。(實施例1-1)(鹵化銀感光材料)制備乳液，其在水性介質(zhì)中含有相對于60g的Ag為10.0g明膠和含有相應(yīng)球的平均直徑為0.1pm的碘溴化銀顆粒(1=0.2摩爾％，Br=40摩爾％)。在該乳液中，加入K3Rh2Br9和K2lrCl6，得到濃度l(T7mol/mo1的Ag，從而用Rh離子和Ir離子摻雜溴化銀顆粒。向該乳液中，加入Na2PdCl4，使用氯金酸和硫代硫酸鈉進(jìn)行金硫增感。接下來，與明膠薄膜硬化劑一起將乳液涂布在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)上，使得銀涂布量為g/m2。在此步驟中，將Ag/明膠體積比調(diào)節(jié)到1/2。將乳液涂布在寬度30cm的PET支持體的一部分上(寬度25cm,長度20iti)。切下支持體的兩端(3cm),同時保持涂布的中央部(24cm)，得到巻狀的鹵化銀感光材料。使用在JP-A-2004-1244的具體實施方式中記載的連續(xù)曝光裝置使鹵化銀感光材料曝光，其中使用DMD(數(shù)字鏡像裝置)的曝光頭在寬度25cm對齊，曝光頭和曝光臺設(shè)置成彎曲狀態(tài)，以使激光束的圖像聚焦在感光層上，連接感光材料供給單元和巻取單元，給定具有起緩沖作用的偏差，以防止巻取和供給單元速度的變化對曝光部分速度的影響。曝光波長400nm，光束圖案接近12的正方形，激光器光源輸出100(曝光)進(jìn)行曝光得到12nm象素的45。格子圖案，間隔300pm，寬度24cm，連續(xù)長度10m。上述曝光頭是一種曝光面用多光束曝光的曝光頭，其包括發(fā)射光束的照射單元；空間調(diào)制元件，用于調(diào)制照射單元發(fā)射的光束，包括根據(jù)各個控制信號改變光調(diào)制狀態(tài)的多個象素部，所述象素部在支持體上排列成二維圖案；光學(xué)系統(tǒng)，用于使已被各象素部調(diào)制的光朿的圖像作為光斑聚焦在曝光面上；以及孔陣列，其位于光學(xué)系統(tǒng)的光路上，具有不同開口面積和開口形狀并用于使光斑成形的多個孔，通過具有不同開口面積和開口形狀的孔的光斑引起多次曝光或重疊曝光，其特征在于，改變和控制通過具有不同開口面積和開口形狀的孔并聚焦在曝光面上的各光斑的曝光比。由于上述結(jié)構(gòu)，在空間調(diào)制元件的各象素部中調(diào)制從照射單元發(fā)射的光束。然后，已經(jīng)被各象素部調(diào)制曝光狀態(tài)的各光束通過各孔，并通過部分屏蔽光束、然后照射在曝光面上使光斑成形。在該曝光處理中，改變具有不同開口面積和開口形狀的各孔的各光斑的曝光比。因此，可以在已經(jīng)通過具有不同開口面積和開口形狀的各孔的光斑中改變曝光比，使得可以改變當(dāng)以多次或重疊曝光聚焦在曝光面時具有不同的面積和開口形狀的各光斑的曝光量，從而獲得與改變各孔的開口面積和開口形狀相同的作用和效果。其結(jié)果是，可以近似根據(jù)曝光面上的光斑的適當(dāng)光斑尺寸(光斑面積)和光斑形狀，來進(jìn)行曝光處理(曝光記錄)，其中光斑隨各種條件變化，如曝光圖案的形狀和線圖以及感光材料的性能。因此，通過使用這種曝光頭，可以適當(dāng)?shù)匦纬善毓鈭D案的形狀和線圖。還可以在沒有更換孔陣列的情況下，改變孔的幵口面積和開口形狀，并且不需要移動孔陣列等。由于這些特性，可以簡化結(jié)構(gòu)，并可以立即改變光斑形狀，從而獲得適當(dāng)?shù)墓獍咝螤?，其中光斑隨各種條件變化，如曝光圖案的形狀和線圖以及感光材料的性能。由于避免取出孔陣列并更換另一個的復(fù)雜麻煩操作，因而提高了工作效率。(顯影處理)顯影溶液的組成(lL)對苯二酚20g亞硫酸鈉50g碳酸鉀40g乙二胺四乙酸鹽2g溴化鉀3g聚乙二醇2000lg氫氧化鉀4gpH調(diào)節(jié)到10.3定影溶液組成(lL)硫代硫酸銨(75%溶液)300ml亞硫酸銨一水合物25g1，3-二氨基丙垸四乙酸酯8g乙酸5g氨水(27%)1gpH調(diào)節(jié)到6.2使用上述溶液，使用自動顯影機FG-710PTS(FujiFilmCo.制造)在以下顯影條件下進(jìn)行顯影處理；顯影35°C30秒，定影34°C23秒，水洗流動的水(5L/min)20秒。作為連續(xù)處理，100mV天的感光材料顯影3天，同時供應(yīng)500ml/m2顯影補充劑和640ml/n^定影溶液。此外，使用電鍍?nèi)芤?無電解銅鍍?nèi)芤汉?.06mol/L硫酸銅、0.22mol/L福爾馬林、0.12mol/L三乙醇胺、100ppm聚乙二醇、50ppm鐵氰化鉀和20ppmoc,a-聯(lián)吡啶，pH=12.5)，在45'C下進(jìn)行無電解銅鍍，然后用含有l(wèi)OppmFe(III)離子的水溶液進(jìn)行氧化處理。因此，得到本發(fā)明的樣品A。(比較例1-1)為比較，使用Fresnel印刷機(ModelFL-S;UshioLightingInc.制造)以及寬度24cm和長度1m的掩模，對1m部分進(jìn)行10次曝光處理。在重復(fù)10次的曝光處理中，通過以1m間隔標(biāo)記鹵化銀感光材料精確定位。曝光完成后，按樣品A使感光材料顯影和電鍍，得到比較用樣品B。在此步驟中，證實電鍍處理后的銅圖案線寬為12pm和300nm間隔。[評價](表面電阻率測量)為評價表面電阻率的均勻性，使用LORESTAGP(ModelMCP-T610;DIAINSTRUMENTSCo.，Ltd.制造)直列4探針型(ASP)，在任意200個位置測量樣品A和B的表面電阻率。(評價結(jié)果)如表1所示，本發(fā)明的樣品A表現(xiàn)出均勻表面電阻率，而在樣品B中在7個位置不能進(jìn)行測量，表明均勻度很低。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage79</column></row><table>(實施例1-2)作為
背景技術(shù)：
部分中引用的"(3)使用照相平版印刷術(shù)通過蝕刻法得到的網(wǎng)"的例子，制造JP-A-2003-46293中公幵的金屬網(wǎng)。與實施例1-1相比，證實通過形成本發(fā)明的連續(xù)圖案得到均勻表面電阻率，表明本發(fā)明的有效性。(實施例1-3)按實施例1-1的樣品A制造樣品C，但使用旋轉(zhuǎn)多邊形鏡面掃描激光曝光進(jìn)行曝光，以相對于鹵化銀感光材料輸送方向45°和-45°的角度進(jìn)行掃描，形成連續(xù)圖案。當(dāng)將樣品C與樣品B作比較時，得到與實施例1-1相同結(jié)果。(實施例1-4)將上面實施例中制造的電磁波屏蔽膜置于雙軸拉伸的聚對苯二甲酸乙二醇酯(卩面稱作PET)薄膜(厚度100jim)上，然后用銅黑化溶液處理，使銅面黑化。作為黑化溶液，可以使用市售產(chǎn)品COPPERBLACK(ISOLATEKAGAKUKENKYUSHO制造)。在PET面?zhèn)龋褂脤雍陷佌澈峡偤穸?8的保護(hù)薄膜(HT-25;PANACKOGYOK.K.制造)。在電磁波屏蔽膜(金屬網(wǎng))側(cè)，使用層合輥粘合在聚乙烯薄膜上包括丙烯酸酯壓敏粘合劑層并且總厚度65|am的保護(hù)薄膜(商品名SANITECTY-26F;SUNAKAKENCo.制造)。使用PET面作為粘合面，通過透明丙烯酸酯壓敏粘合劑材料粘合到玻璃板(厚度2.5mm,外部尺寸950mmx550mm)上。在切下外緣部(20mm)之后，通過丙烯酸酯透光性壓敏粘合劑材料，將厚度100pm的抗反射吸收近紅外線的薄斷商品名CLEARASAR/NIR;SUMITOMOOSAKACEMENT,Co.,Ltd.制造)與內(nèi)部的導(dǎo)電網(wǎng)狀層粘合，上述薄膜包括PET薄膜、抗反射層和含有近紅外線吸收劑的層。所述丙烯酸酯透光性壓敏粘合劑層含有調(diào)色染料(PS-Red-G禾口PS-Violet-RC;MITSUICHEMICALS,Inc.制造)，用于控制顯示過濾器的透過特性。在相對的玻璃板主面上，通過壓敏粘合劑粘合抗反射薄膜(商品名REALOOK8201;NOFCo.制造)，得到顯示過濾器。由于使用帶有保護(hù)薄膜的電磁波屏蔽膜制造，因此這樣得到的顯示過濾器具有小的磨損標(biāo)記或金屬網(wǎng)中的缺陷。由于金屬網(wǎng)呈黑色，因此顯示圖像沒有表現(xiàn)出金屬色。顯示過濾器具有這種電磁波屏蔽性能和具有阻斷近紅外線的能力(300-800nm透過率15%或更小)，因而實用上沒有問題。由于兩面上設(shè)置的抗反射層，因此表現(xiàn)出優(yōu)異的可見性。此外，由于含有染料，因而具有顏色調(diào)節(jié)功能，這使得適于用作等離子體顯示器等的顯示過濾器。(實施例1-5)作為
背景技術(shù)：
部分中引用的"(3)使用照相平版印刷術(shù)通過蝕刻法得到的網(wǎng)"的例子，根據(jù)JP-A-2001-53488中公開的制造電磁波屏蔽材料實施例1制造金屬網(wǎng)，但沒有形成框架部，而是繪制相對于電磁波屏蔽材料的長邊傾斜45。的細(xì)線格子圖案作為框架的一部分。使用這樣得到的具有寬度25cm和長度10m網(wǎng)狀圖案的樣品用于評價，按實施例l-l進(jìn)行評價。其結(jié)果是，證實通過形成本發(fā)明的連續(xù)圖案得到均勻表面電阻率，表明本發(fā)明的有效性。(實施例2-l)用包括鹵化銀和明膠的乳液涂布寬度600mm、長度200m和厚度100pm的雙軸拉伸的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(A4300;TOYOBOCo.，Ltd.制造)，以得到銀涂布量1g/m2。然后，通過半導(dǎo)體激光掃描以輥-輥方式形成連續(xù)網(wǎng)狀圖案，然后使用顯影溶液(CN-16;FUJIFILMCo.制造)禾卩定影溶液(商品名SUPERFIJIX;FUJIFILMCo.制造)顯影處理。除去未曝光部之后，用純水洗滌，然后使用含有硫酸銅和三乙醇胺的電鍍?nèi)芤哼M(jìn)行無電解銅鍍。因此，得到具有導(dǎo)電層的薄膜(下面稱作網(wǎng)狀薄膜)，其中形成厚度10|am、線寬10pm、間隔300Hm和偏移角45。的導(dǎo)電格子圖案。隨后，用含有硫酸鎳的溶液電鍍導(dǎo)電層上的網(wǎng)狀薄膜，得到導(dǎo)電層表面己被黑化的網(wǎng)狀薄膜。使用直列4探針型電阻計(LORESTAEP(MITSUBISHICHEMICALCo.制造)測量導(dǎo)電層的表面電阻率，為0.3Q/「]。接下來，將用于控制顯示過濾器的透過特性并含有調(diào)色染料(PS-Red-G和PS-Violet-RC;MITSUICHEMICALS,Inc.制造)的丙烯酸酯透光性壓敏粘合劑連續(xù)涂布在PE薄膜和聚硅氧烷剝離層構(gòu)成的剝離薄膜的剝離層上，得到含有染料的壓敏粘合劑。將這樣得到的含有剝離薄膜的染料的壓敏粘合劑與網(wǎng)狀薄膜沒有導(dǎo)電層的面粘合。此外，沿寬度方向切下薄膜的兩端，得到寬度580mm并具有含有染料的壓敏粘合劑的網(wǎng)狀薄膜。在100(imPET薄膜(TEIJINTETRONFILMHBTYPE;TEIJINDUPONTFILMS制造)的一面上，通過濕涂布法連續(xù)形成丙烯酸酯硬涂層、和由包括氟樹脂層和含氧化銦樹脂層的兩層構(gòu)成的并具有防污和抗靜電性能的抗反射層。在薄膜的另一面上，形成包括dimonium-和酞菁-基近紅外吸收劑和丙烯酸酯粘結(jié)劑樹脂的近紅外吸收劑層。因此，制造具有抗反射層的近紅外吸收薄膜，其具有UV阻斷性能、防污性、抗靜電性能和硬涂層性能(下面稱作AR/NIRA薄膜)。將丙烯酸酯透光性壓敏粘合劑層連續(xù)涂布在剝離薄膜的剝離層上，并連續(xù)粘合到AR/NIRA薄膜的近紅外吸收層上。此外，沿寬度方向切下薄膜的兩端，得到寬度570mm并具有壓敏粘合劑的AR/NIRA薄膜。通過含有染料的壓敏粘合劑將網(wǎng)狀薄膜粘合到通過風(fēng)冷硬化方法增強強度的玻璃板(厚度2.5mm，外部尺寸長度984mmx寬度58mm)上，同時剝離剝離薄膜，使得薄膜寬度方向的中心與玻璃的中心一致。切下網(wǎng)狀薄膜的網(wǎng)狀部，以符合玻璃尺寸。通過壓敏粘合劑將寬度570mm并具有壓敏粘合劑的AR/NIRA薄膜從端部內(nèi)側(cè)的7mm部分開始粘合到已粘合有網(wǎng)狀薄膜的玻璃板面上，同時剝離剝離薄膜，然后切下AR/NIRA薄膜。粘合AR/NIRA薄膜，使得沒有AR/NIRA薄膜的寬度7mm的部分留在玻璃周緣。在上述沒有AR/NIRA薄膜的寬度7mm的部分中，網(wǎng)狀薄膜和玻璃板露出，用銀漿(MSP-600F;MITSUICHEMICALS,Inc.制造)進(jìn)行絲網(wǎng)印刷。在此步驟中，可以使用通過丁基溶纖劑乙酸酯稀釋將粘度調(diào)節(jié)到約200泊(約200(Pa.s))的銀漿。印刷后，在室溫下干燥，從而形成厚度lOiim的電極。將這樣得到的層合物置于高壓釜容器中，并加壓，條件如下初始溫度40°C、初始壓力0.8MPa、壓力上升時間30分鐘和保持時間30分鐘。因此，制得本發(fā)明的顯示過濾器。圖4是顯示這種顯示過濾器結(jié)構(gòu)的截面示意圖。(實施例2-2)除以下各點外按實施例2-1制造顯示過濾器。具有壓敏粘合劑的AR/NIRA薄膜的寬度為580mm,AR/NIRA薄膜沒有粘合到網(wǎng)狀薄膜上，而是粘合到?jīng)]有網(wǎng)薄膜的玻璃面上，然后切下以符合玻璃尺寸。將電極印刷在具有網(wǎng)狀薄膜一側(cè)的玻璃面上，使網(wǎng)狀薄膜和玻璃板露出的部分沿四邊位于寬度12mm的周圍。圖5是顯示這種顯示過濾器結(jié)構(gòu)的截面示意圖。(實施例2-3)將在實施例2-1中記載的具有壓敏粘合劑的寬度570mm的AR/NIRA薄膜切成長度970mm。將實施例2-1中制造的具有含有染料的壓敏粘合劑的網(wǎng)狀薄膜的網(wǎng)狀部切成長度980mm。剝離具有壓敏粘合劑的AR/NIRA薄膜的剝離薄膜，并將AR/NIRA薄膜粘合到網(wǎng)狀薄膜的導(dǎo)電層側(cè)上，使得在網(wǎng)狀薄膜的導(dǎo)電部周緣中沒有AR/NIRA薄膜的部分的寬度為5mm。按實施例2-1用銀漿絲網(wǎng)印刷在網(wǎng)狀薄膜的周緣中沒有AR/NIRA薄膜的導(dǎo)電層部分，置于高壓釜容器中，并按實施例2-1的相同條件加壓。剝離具有含有染料的壓敏粘合劑的網(wǎng)狀薄膜的剝離薄膜之后，將這樣得到的層合物粘合到等離子體顯示面板上，得到集成有過濾器的等離子體顯示面板。圖6是顯示這種集成有過濾器的顯示過濾器結(jié)構(gòu)的截面示意圖。(實施例2-4)使用雙組分(two-pack)硬化型聚氨酯基透明粘合劑(TAKELACA310(主成分)/TAKENATE10(硬化齊U);TAKEDAPHARMACEUTICALCo.，Ltd.制造)，經(jīng)干燥粘合方法，將寬度600mm、長度200m和厚度100jim的雙軸拉伸的PET薄膜(A4300;TOYOBOCo.，Ltd.制造)和黑化的厚度IO,的銅箔連續(xù)粘合到一起，使得黑化的面用作粘合面。因此，得到總厚度115pm的層合薄膜巻。在上述層合薄膜巻的銅箔側(cè)，通過凹輥印刷方法連續(xù)涂布酪蛋白，作為感光抗蝕劑的圖案。干燥后，用UV燈硬化。硬化抗蝕劑薄膜并在10(TC下烘焙后，用氯化亞鐵溶液蝕刻非抗蝕劑部分，用水洗滌。然后，剝離抗蝕劑，得到具有導(dǎo)電層的薄膜，其上形成厚度10pm、線寬10pm、間隔300pm和偏移角45。的導(dǎo)電格子圖案。隨后，用含有硫酸鎳的溶液電鍍導(dǎo)電層上的網(wǎng)狀薄膜，得到導(dǎo)電層表面已被黑化的網(wǎng)狀薄膜。使用直列4探針型電阻計(LORESTAEPMITSUBISHICHEMICALCo.制造)測量導(dǎo)電層的表面電阻率，為0.1Q/口。按實施例2-1制造顯示過濾器，但用上述網(wǎng)狀薄膜代替實施例2-1中的網(wǎng)狀薄膜。圖7是顯示這種顯示過濾器結(jié)構(gòu)的截面示意圖。在上述實施例2-l、2-2、2-3和2-4中得到的顯示過濾器表現(xiàn)出實際上可接受的電磁波屏蔽性能和近紅外阻斷能力，由于具有防污和抗靜電效果的抗反射層和硬涂層而對灰塵和碎片的靜電粘附小，并且防污性、耐擦傷性和可見性優(yōu)異。此外，由于紫外線阻斷層，這些顯示過濾器不會因陽光使染料劣化，因而表現(xiàn)出優(yōu)異的耐氣候性。盡管已經(jīng)結(jié)合特定實施方案詳細(xì)說明了本發(fā)明，但顯然本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不背離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)作出各種修改和變化。本申請以2005年2月15日提交的日本專利申請(日本專利申請No.2005-038194)和2005年2月22日提交的日本專利申請(日本專利申請No.2005-046247)為基礎(chǔ)，在這里以引用的方式將其內(nèi)容加入本文。工業(yè)實用性本發(fā)明適于用作透光性導(dǎo)電膜。特別地，適于用作電磁波屏蔽材料，其能夠屏蔽從諸如陰極射線管(CRT)、等離子體顯示面板(PDP)、液晶顯示裝置、電致發(fā)光(EL)顯示裝置或場發(fā)射顯示裝置(FED)的顯示器正面、微波爐、電子器件、印刷線路板等產(chǎn)生的電磁波，并具有透光性。權(quán)利要求1.一種透光性導(dǎo)電膜，其通過在透明支持體上圖案化導(dǎo)電金屬部和可見光透過部而形成，其中所述導(dǎo)電金屬部由尺寸1μm-40μm的形成網(wǎng)狀的細(xì)線構(gòu)成，所述網(wǎng)狀圖案連續(xù)3m或更長。2.—種透光性導(dǎo)電膜，其通過在透明支持體上圖案化顯影的銀部和可見光透過部而形成，并使所述B影的銀部在其上帶有導(dǎo)電金屬以形成導(dǎo)電金屬部，其中所述導(dǎo)電金屬部是由尺寸1|im-30pm的細(xì)線形成的網(wǎng)狀，所述網(wǎng)狀圖案連續(xù)3m或更長。3.如權(quán)利要求1所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述透明支持體是具有柔韌性、寬度為2cm或更大、長度為3m或更大和厚度為200pim或更小的薄膜。4.如權(quán)利要求1所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述網(wǎng)狀圖案是由基本上平行的直細(xì)線相互交叉構(gòu)成的圖案。5.如權(quán)利要求1所述的透光性導(dǎo)電膜，其中在彎曲的曝光臺上輸送所述透明支持體的同時通過用激光束掃描曝光所述透明支持體進(jìn)行所述圖案化。6.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的主掃描方向垂直于支持體輸送方向。7.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的光強度具有包括基本上0狀態(tài)的兩個或更多個值。8.如權(quán)利要求l所述的透光性導(dǎo)電膜，其中使用與支持體輸送方向交叉的曝光頭進(jìn)行所述圖案化，和所述曝光頭包括發(fā)射光束的照射單元；空間調(diào)制元件，其用于調(diào)制所述照射單元發(fā)射的光束，其包括根據(jù)各控制信號改變光調(diào)制狀態(tài)的多個象素部，所述象素部在所述支持體上排列成二維圖案；控制器，其用于根據(jù)基于曝光數(shù)據(jù)形成的控制信號控制各象素部，所述象素部的數(shù)量比所述支持體上配置的象素部總數(shù)少；以及光學(xué)系統(tǒng)，其用于將已被各象素部調(diào)制的光束的圖像聚焦在曝光面上。9.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中在使所述光束相對于輸送方向傾斜角度30。-60。時進(jìn)行掃描。10.如權(quán)利要求9所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的光強度在所述圖案化過程中僅有1個值。11.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的波長為420nm或更小。12.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的波長為600nm或更大。13.如權(quán)利要求5所述的透光性導(dǎo)電膜，其中所述光束的能量為lmJ/cn^或更小。14.如權(quán)利要求2所述的透光性導(dǎo)電膜，其中通過使鹵化銀顯影形成所述顯影的銀部。15.如權(quán)利要求l所述的透光性導(dǎo)電膜，其中通過蝕刻銅箔形成所述導(dǎo)電金屬部。16.—種透光性電磁波屏蔽膜，其包括如權(quán)利要求1所述的透光性導(dǎo)電膜。17.如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其具有粘合層。18.如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其具有可剝離的保護(hù)薄膜。19.如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其中黑色部分占導(dǎo)電圖案化面的總表面積的20%或更大。20.如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其包括具有選自以下一種或多種功能的功能透明層紅外線-屏蔽性能、硬涂布性能、抗反射性能、防眩性能、抗靜電性能、防污性、紫外線保護(hù)性能、氣體阻擋性能和顯示而板-防破損性能。21.如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜，其具有紅外線-屏蔽性能。22.—種濾光器，其具有如權(quán)利要求16所述的透光性電磁波屏蔽膜。23.—種顯示過濾器，其使用如權(quán)利要求l所述的透光性導(dǎo)電膜。24.如權(quán)利要求23所述的顯示過濾器，其中彼此相對的至少兩個面的端部用作幾何圖案的導(dǎo)電部。25.如權(quán)利要求24所述的顯示過濾器，其中使用黑色導(dǎo)電涂料形成電極。26.—種使用如權(quán)利要求1所述的透光性3電膜制造顯示過濾器的方法，所述方法包括粘合至寬度比所述透光性導(dǎo)電膜窄的具有壓敏粘合劑層的薄膜的步驟。27.如權(quán)利要求26所述的制造顯示過濾器的方法，所述方法包括將已經(jīng)粘合到具有壓敏粘合劑層的薄膜上的所述透光性導(dǎo)電膜粘合到寬度比所述透光性導(dǎo)電膜寬的基材上的步驟。28.如權(quán)利要求26所述的制造顯示過濾器的方法，所述方法包括將已經(jīng)粘合到具有壓敏粘合劑層的薄膜上的所述透光性導(dǎo)電膜粘合到基材上的步驟，其中進(jìn)行所述粘合，使所述透光性導(dǎo)電膜寬度方向的中心與所述基材的寬度方向的中心一致。29.如權(quán)利要求27或28所述的制造顯示過濾器的方法，其中將功能薄膜粘合至所述基材的與具有所述透光性導(dǎo)電膜一側(cè)相對的一側(cè)上。30.如權(quán)利要求29所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述功能薄膜具有比所述透光性導(dǎo)電膜窄的寬度。31.—種制造透光性導(dǎo)電膜的方法，所述方法包括在彎曲的曝光臺上輸送所述透明支持體的同時用激光束掃描曝光透明支持體；以及形成網(wǎng)狀圖案，其包括由尺寸1pm-40^im的形成網(wǎng)狀的細(xì)線構(gòu)成的導(dǎo)電金屬部和可見光透過部，并連續(xù)3m或更長。32.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)'li脫的方汰-，其11—'所述導(dǎo)電金屬部是顯影的銀部。33.如權(quán)利要求32所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中使所述顯影的銀部上帶有導(dǎo)電金屬形成所述導(dǎo)電金屬部。34.如權(quán)利要求32所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中通過使鹵化銀顯影形成所述顯影的銀部。35.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中通過蝕刻銅箔形成所述導(dǎo)電金屬部。36.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中使用光束的主掃描方向與支持體輸送方向交叉的曝光頭進(jìn)行曝光。37.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電股的方法，其中在使所述光束相對于輸送方向傾斜角度30。-60。時進(jìn)行所述掃描。38.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的光強度在所述圖案化過程中僅有1個值。39.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的波長為420nm或更小。40.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的波長為600nm或更大。41.如權(quán)利要求31所述的制造透光性導(dǎo)電膜的方法，其中所述光束的能量為1mJ/ciT^或更小。42.—種制造顯示過濾器的方法，其中彼此相對的至少兩個面的端部用作幾何圖案的導(dǎo)電部，使用電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成具有幾何圖案的導(dǎo)電部的導(dǎo)電層(B)，其中所述幾何圖案的導(dǎo)電部在所述聚合物薄膜(A)的機械加工方向連續(xù)形成，所述幾何圖案的導(dǎo)電部是線寬1-50iam和間隔30-500pm的網(wǎng)狀，所述導(dǎo)電層(B)的表面電阻率為0.01-1Q/[)，以及其屮所述方法至少包括切割所述兒何圖案的導(dǎo)電部的步驟。43.如權(quán)利要求42所述的制造￥./];'過濾器的方法，其中所述電磁波屏蔽材料(C)包括導(dǎo)電層(B)，其中通過在所述聚合物薄膜(A)的一面上使用導(dǎo)電物質(zhì)(B1)形成幾何圖案并將導(dǎo)電物質(zhì)(B2)附著在所述幾何圖案上來形成所述導(dǎo)電部。44.如權(quán)利要求42所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述電磁波屏蔽材料(C)包括導(dǎo)電層(B)，其中通過粘合層(B3)使所述聚合物薄膜(A)粘合到金屬箔(B4)上，然后處理所述金屬箔(B4)，形成所述幾何圖案的導(dǎo)電部。45.如權(quán)利要求42所述的制造顯示過濾器的方法，其中所述導(dǎo)電層(B)的至少一面呈黑色或黑棕色。46.—種顯示過濾器，其通過權(quán)利耍求42所述的制造方法獲得。47.如權(quán)利要求46所述的顯示過濾器，其月J于等離子體顯示面板中。48.—種在如權(quán)利要求42所述的制造顯示過濾器的方法中所用的電磁波屏蔽材料，其是電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上形成具有幾何圖案的導(dǎo)電部的導(dǎo)電層(B)，其中所述幾何圖案的導(dǎo)電部在所述聚合物薄膜(A)的機械加工方向連續(xù)形成，所述幾何圖案的導(dǎo)電部是線寬1-50pm和間隔30-500的網(wǎng)狀，所述導(dǎo)電層(B)的表面電阻率為0.01-1Q/口。全文摘要一種透光性導(dǎo)電膜，其通過在透明支持體上圖案化導(dǎo)電金屬部和可見光透過部而形成，其中所述導(dǎo)電金屬部由尺寸1μm-40μm的形成網(wǎng)狀的細(xì)線構(gòu)成，所述網(wǎng)狀圖案連續(xù)3m或更長。一種制造顯示過濾器的方法，其中彼此相對的至少兩個面的端部是網(wǎng)狀，所述方法包括使用電磁波屏蔽材料(C)，其中在聚合物薄膜(A)的一面上沿聚合物薄膜(A)的機械加工方向連續(xù)形成具有幾何圖案的網(wǎng)狀導(dǎo)電部的導(dǎo)電層(B)，和切割所述網(wǎng)狀導(dǎo)電部。文檔編號B32B15/08GK101120626SQ2006800050公開日2008年2月6日申請日期2006年2月15日優(yōu)先權(quán)日2005年2月15日發(fā)明者伊藤智章,岡崎賢太郎,岡村友之,北河敏久,南裕巳,森本哲光,諸橋慎申請人:富士膠片株式會社;三井化學(xué)株式會社