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獨(dú)立切割模型的下模座的制作方法

文檔序號:2341096閱讀:298來源:國知局
專利名稱:獨(dú)立切割模型的下模座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種獨(dú)立切割模型的下模座,用于方型扁平式封裝技術(shù)的后段切
割分離成型。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)的生產(chǎn)過程中,都采用整版產(chǎn)品上標(biāo)記點(diǎn)定位,由于該種定位結(jié)構(gòu)的定 位點(diǎn)少,從而導(dǎo)致切割出的產(chǎn)品的優(yōu)良率低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種獨(dú)立切割模型的下模座,利用該獨(dú)
立切割模型的下模座進(jìn)行產(chǎn)品定位,大大提高了所切割分離出來的產(chǎn)品的優(yōu)良率。 本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種獨(dú)立切割模型的下模
座,其特征在于所述獨(dú)立切割模型的下模座包括本體,設(shè)置于所述本體上的復(fù)數(shù)個模樣,
所述模樣對待切割整版上的每個產(chǎn)品提供四邊定位。 優(yōu)選的,所述模樣具有四邊凸起,所述四邊凸起對待切割產(chǎn)品提供四邊定位。
優(yōu)選的,所述本體上設(shè)置有操作手柄。 優(yōu)選的,所述操作手柄為兩個。 本實(shí)用新型的有益效果是,獨(dú)立切割模型的下模座包括本體,設(shè)置于所述本體上 的復(fù)數(shù)個模樣,所述模樣對待切割整版上的每個產(chǎn)品提供四邊定位。由于該下模座采用四 邊定位,且對每一個產(chǎn)品進(jìn)行分別定位,從而大大提高了被切割分離后產(chǎn)品的優(yōu)良率。

以上所述的本發(fā)明的目的、技術(shù)方案以及有益效果可以通過下面的能夠?qū)崿F(xiàn)本發(fā) 明的具體實(shí)施例的詳細(xì)描述,同時結(jié)合附圖描述而清楚地獲得。 附圖以及說明書中的相同的標(biāo)號和符號用于代表相同的或者等同的元件。
圖1顯示了本實(shí)用新型獨(dú)立切割模型的下模座的主視圖。
其中 1.本體 11.凹槽 2.模樣 3.操作手柄
具體實(shí)施方式如圖1所示為本實(shí)用新型的整體透視圖,獨(dú)立切割模型的下模座包括本體l,本優(yōu) 選實(shí)施例中,本體1為大致矩形結(jié)構(gòu),下模座還包括復(fù)數(shù)個模樣2,模樣2對待切割整版上的 每個產(chǎn)品提供四邊定位,由于采用四邊定位,且對每一個產(chǎn)品進(jìn)行分別定位,從而大大提高 了被切割分離后產(chǎn)品的優(yōu)良率。 本優(yōu)選實(shí)施例中,本體1在延伸方向上設(shè)置有凹槽11,模樣2設(shè)置在凹槽11上,模樣2具有四邊凸起,四邊凸起用于對產(chǎn)品提供四邊定位,該定位結(jié)構(gòu)不但簡單,而且對產(chǎn)品 提供了多了定位點(diǎn),從而大大提高了被切割分離后產(chǎn)品的優(yōu)良率。 另外,為方便操作,下模座還包括操作手柄3,本優(yōu)選實(shí)施例中,操作手柄3設(shè)置于 本體1的側(cè)邊。 本優(yōu)選實(shí)施例中,操作手柄3設(shè)置為兩個,且把操作手柄3設(shè)置在本體1的同一側(cè) 邊上。 以上實(shí)施例僅為本實(shí)用新型其中的一種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并 不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員來說,在不脫離本實(shí)用新型發(fā)明構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬 于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此,本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求一種獨(dú)立切割模型的下模座,其特征在于所述獨(dú)立切割模型的下模座包括本體,設(shè)置于所述本體上的復(fù)數(shù)個模樣,所述模樣對待切割整版上的每個產(chǎn)品提供四邊定位。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的獨(dú)立切割模型的下模座,其特征在于所述模樣具有四邊凸起,所述四邊凸起對待切割產(chǎn)品提供四邊定位。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的獨(dú)立切割模型的下模座,其特征在于所述本體上設(shè)置有操作手柄。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的獨(dú)立切割模型的下模座,其特征在于所述操作手柄為兩個。
專利摘要一種獨(dú)立切割模型的下模座,其特征在于所述獨(dú)立切割模型的下模座包括本體,設(shè)置于所述本體上的復(fù)數(shù)個模樣,所述模樣對待切割整版上的每個產(chǎn)品提供四邊定位。由于該下模座采用四邊定位,且對每一個產(chǎn)品進(jìn)行分別定位,從而大大提高了被切割分離后產(chǎn)品的優(yōu)良率。
文檔編號B26D7/00GK201537941SQ20092025661
公開日2010年8月4日 申請日期2009年11月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月16日
發(fā)明者金度亨 申請人:正文電子(蘇州)有限公司
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