本發(fā)明涉及一種休息辦公兩用工作臺。

背景技術(shù)：

辦公桌基本解釋為人履行職務(wù)用的桌子。辦公桌消費主要集中在兩類人群：一是企業(yè)的購買；二是政府的采購。企業(yè)購買后辦公人員通常都是直接使用，而在如休息時間時通常都是直接趴在桌面上，而桌面本身較硬，舒適度欠佳。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種通過翻折板翻折設(shè)置，可作為辦公休息兩用，增加辦公人員的休息舒適度的休息辦公兩用工作臺。

本發(fā)明的技術(shù)方案是，一種休息辦公兩用工作臺，包括辦公臺本體，所述辦公臺本體一側(cè)邊沿設(shè)置有一個凹槽，所述凹槽內(nèi)壁兩相對側(cè)上分別凸出設(shè)置有一個圓形轉(zhuǎn)軸，所述凹槽內(nèi)還設(shè)置有一塊翻折板，所述翻折板一側(cè)表面設(shè)置有一塊襯墊，所述翻折板的兩端分別設(shè)置有一個圓形槽孔，所述圓形槽孔內(nèi)設(shè)置有與所述圓形轉(zhuǎn)軸對應(yīng)的轉(zhuǎn)軸套，所述辦公臺本體在所述翻折板下端兩側(cè)分別設(shè)置有擋片。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述凹槽邊沿設(shè)置有防護條。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述翻折板的邊沿同樣設(shè)置有防護條。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述擋片設(shè)置有多個分別位于所述圓形轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述擋片的一端通過圓軸固定于辦公臺本體下表面。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述襯墊的厚度為1-2cm。

本發(fā)明所述為一種休息辦公兩用工作臺，本發(fā)明通過翻折板翻折設(shè)置，可作為辦公休息兩用，增加辦公人員的休息舒適度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一種休息辦公兩用工作臺一較佳實施例中的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

本發(fā)明所述為一種休息辦公兩用工作臺，如圖1所示，包括辦公臺本體1，所述辦公臺本體一側(cè)邊沿設(shè)置有一個凹槽，所述凹槽內(nèi)壁兩相對側(cè)上分別凸出設(shè)置有一個圓形轉(zhuǎn)軸2，所述凹槽內(nèi)還設(shè)置有一塊翻折板3，所述翻折板3一側(cè)表面設(shè)置有一塊襯墊4，所述翻折板3的兩端分別設(shè)置有一個圓形槽孔，所述圓形槽孔內(nèi)設(shè)置有與所述圓形轉(zhuǎn)軸2對應(yīng)的轉(zhuǎn)軸套5，所述辦公臺本體1在所述翻折板3下端兩側(cè)分別設(shè)置有擋片6，所述凹槽邊沿設(shè)置有防護條7，所述翻折板3的邊沿同樣設(shè)置有防護條7，所述擋片6設(shè)置有多個分別位于所述圓形轉(zhuǎn)軸2的兩側(cè)，所述擋片6的一端通過圓軸8固定于辦公臺本體1下表面，所述襯墊4的厚度為1-2cm。

本發(fā)明所述為一種休息辦公兩用工作臺，本發(fā)明通過翻折板翻折設(shè)置，可作為辦公休息兩用，增加辦公人員的休息舒適度。

以上所述僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限定的保護范圍為準。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明揭示了一種休息辦公兩用工作臺，包括辦公臺本體，所述辦公臺本體一側(cè)邊沿設(shè)置有一個凹槽，所述凹槽內(nèi)壁兩相對側(cè)上分別凸出設(shè)置有一個圓形轉(zhuǎn)軸，所述凹槽內(nèi)還設(shè)置有一塊翻折板，所述翻折板一側(cè)表面設(shè)置有一塊襯墊，所述翻折板的兩端分別設(shè)置有一個圓形槽孔，所述圓形槽孔內(nèi)設(shè)置有與所述圓形轉(zhuǎn)軸對應(yīng)的轉(zhuǎn)軸套，所述辦公臺本體在所述翻折板下端兩側(cè)分別設(shè)置有擋片。本發(fā)明通過翻折板翻折設(shè)置，可作為辦公休息兩用，增加辦公人員的休息舒適度。

技術(shù)研發(fā)人員：袁云
受保護的技術(shù)使用者：蘇州佳風網(wǎng)絡(luò)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.08.03
技術(shù)公布日：2017.10.10