泵吸除晶箱的制作方法
泵吸除晶箱的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種泵吸除晶箱，包括相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，主腔室與次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使主腔室及次腔室相互連通與否的主電磁閥，主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，次腔室的上方設(shè)置有出氣口，次腔室的底端設(shè)置有使次腔室與外圍泵相互連接與否的次電磁閥。本實(shí)用新型的泵吸除晶箱，不僅能夠改變氣體流向，提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量，還能夠減少飽和蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶膜的形成，進(jìn)而提高維修成功率。
【專利說明】栗吸除晶箱
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種除晶箱，尤其涉及一種泵吸除晶箱。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有除晶箱的鎢粉腔體是由加熱裝置、圓筒形箱體、O形密封圈、管路、出氣孔、進(jìn)氣孔、熱感應(yīng)器元件等構(gòu)成，通過加熱裝置的加熱使得鎢粉升華為氣體，經(jīng)由氣體管路送至氣窗，進(jìn)而使鎢粉沉積到需要維修的玻璃表面。
[0003]在現(xiàn)有除晶箱的圓筒形鎢粉腔體中，由于吹起方式流向性較單一，對于某點(diǎn)氣流量較大且集中，容易產(chǎn)生粉塵附著到出氣孔進(jìn)而堵塞出氣孔的問題，出氣孔長時間堆積會降低氬氣(自入氣口進(jìn)入的保護(hù)氣體)中鎢粉的含量，降低維修成功率。
[0004]此外，在除晶箱暫停工作時，現(xiàn)有的鎢粉腔體仍在持續(xù)的加溫，容易產(chǎn)生飽和蒸汽，由于飽和蒸汽下容易結(jié)晶的緣故，鎢粉腔體內(nèi)部的鎢粉表面會形成一層結(jié)晶膜附著在其上，長時間的氣體的單一流向會使吹氣較弱或無吹氣的地方的結(jié)晶膜越來越厚，這部分的鎢粉會因?yàn)榻Y(jié)晶膜而不被使用，造成鎢粉的大量浪費(fèi)，而在氬氣中含量的減少也會對維修成功率造成一定的影響。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種泵吸除晶箱，不僅能夠改變氣體流向，提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量，還能夠減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶膜的形成，進(jìn)而提高了維修成功率。
[0006]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種泵吸除晶箱，包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，所述主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥；所述主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，所述主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，所述次腔室的上方設(shè)置有出氣口，所述次腔室的底端設(shè)置有使所述次腔室與外圍泵相互連接或不連接的次電磁閥。
[0007]優(yōu)選地，所述主腔室的內(nèi)部設(shè)置有可移動的平臺。
[0008]優(yōu)選地，所述主腔室的所述內(nèi)表面上設(shè)置有滑軌，所述平臺上設(shè)置有與所述滑軌相配合的滑塊。
[0009]優(yōu)選地，所述主腔室上設(shè)置有用于使所述平臺停止移動的卡塊；和/或
[0010]所述主腔室上設(shè)置有用于提示所述平臺已停止移動的傳感器。
[0011]優(yōu)選地，所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括用于提供動力的驅(qū)動器及用于控制所述驅(qū)動器啟停的控制器，所述平臺、所述驅(qū)動器及所述控制器相互連接。
[0012]優(yōu)選地，所述平臺的外周邊緣的尺寸小于所述主腔室與在所述平臺停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸。
[0013]優(yōu)選地，所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為氣動式，所述主腔室的下端設(shè)置有供壓縮空氣進(jìn)入的壓縮空氣入口，
[0014]所述平臺將所述主腔室的內(nèi)部空間分隔為兩部分，所述主腔室位于所述平臺下方的空間為密閉空間。
[0015]優(yōu)選地，所述平臺的外周邊緣的尺寸小于或者等于所述主腔室與在所述平臺移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。
[0016]優(yōu)選地，所述平臺由彈性材料或柔性材料制成。
[0017]優(yōu)選地，所述主腔室的數(shù)量為兩個，所述兩個主腔室均與所述次腔室緊鄰設(shè)置，所述兩個主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥。
[0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱采用圓錐式的腔室和泵吸除晶方式，利用錐形氣流全面均勻覆蓋鎢粉，從而提高鎢粉原材的利用率；另外，利用主腔室和次腔室的溫度差，將使用過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室，避免了結(jié)晶顆粒形成在主腔室中進(jìn)而覆蓋鎢粉所造成的利用率不充分；并且，對次腔室形成的結(jié)晶顆粒使用泵吸方式抽走，能減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶顆粒對出口的堵塞，進(jìn)而提高維修成功率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的使用狀態(tài)示意圖；
[0021]圖3為本實(shí)用新 型的泵吸除晶箱的另一使用狀態(tài)示意圖；
[0022]圖4為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的平臺的使用狀態(tài)示意圖；
[0023]圖5為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的平臺的另一使用狀態(tài)示意圖。
[0024]附圖標(biāo)記說明:
[0025]1、進(jìn)氣口2、傳感器
[0026]3、主電磁閥4、平臺
[0027]5、鎢粉6、壓縮空氣入口
[0028]7、次電磁閥8、外圍泵
[0029]9、出氣口A、B主腔室
[0030]C、次腔室
【具體實(shí)施方式】
[0031]有關(guān)本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及詳細(xì)說明，現(xiàn)結(jié)合【專利附圖】
【附圖說明】如下。
[0032]如圖1所示，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室A及倒錐形次腔室C，主腔室A與次腔室C相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使主腔室A及次腔室C相互連通或不連通的主電磁閥3，主腔室A的上方設(shè)置有進(jìn)氣口 I，次腔室C的上方設(shè)置有出氣口 9，主腔室A的下方設(shè)置有加熱裝置，次腔室C的底端設(shè)置有使所述次腔室C與外圍泵8相互連接或不連接的次電磁閥7。
[0033]本實(shí)用新型的泵吸除晶箱在使用時，主腔室A的填充有鎢粉5，通過主電磁閥3使主腔室A和次腔室C之間相互連通，主腔室A的進(jìn)氣口 I中通入保護(hù)氣體例如可為氬氣，保護(hù)氣體沿主腔室A的內(nèi)壁和中心氣流方向全面均勻地吹到鎢粉5表面，由于氣流的分散，會使現(xiàn)有設(shè)計中氣流較弱或無氣流的地方形成一定的氣流量，增大了鎢粉5表面氣流的覆蓋面積，不僅提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量達(dá)到提高鎢粉利用率的目的，還能夠克服現(xiàn)有技術(shù)中由于圓筒形箱體中氣流方向的單一性而造成的堵塞出氣孔的問題；隨后，鎢粉5隨同保護(hù)氣體進(jìn)入次腔室C，再由次腔室C的出氣口 9導(dǎo)出到進(jìn)行作業(yè)的沉積裝置中。此外，由于主腔室A和次腔室C的溫度差，會將使用過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室C，避免了結(jié)晶顆粒形成在主腔室A中進(jìn)而覆蓋鎢粉所造成的利用率不充分。
[0034]再者，次腔室C作為儲藏容器，用于使主腔室A中形成的帶有鎢粉5的氣流被導(dǎo)入次腔室C中，由于具有加熱裝置的主腔室A的溫度高于次腔室C的溫度，使得生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室C中，避免了在主腔室A中的鎢粉5的表面產(chǎn)生結(jié)晶膜，進(jìn)一步提聞了鶴粉的利用率。
[0035]當(dāng)需要清理次腔室C中的結(jié)晶時，主腔室A (以及主腔室B)停止工作，關(guān)閉主電磁閥3，打開次電磁閥7，用外圍泵8抽取殘留在次腔室C的內(nèi)壁上的結(jié)晶，能夠減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶顆粒對出口的堵塞，進(jìn)而提高維修成功率。
[0036]此外，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱中的主腔室A及次腔室C的數(shù)量并不進(jìn)行限定，如圖1所示，主腔室的數(shù)量為兩個:主腔室A及主腔室B，而次腔室C為一個。同樣地，主腔室A、B均與次腔室C緊鄰設(shè)置，主腔室A、B與次腔室C相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使主腔室A、B及次腔室C相互連通或不連通的主電磁閥3。事實(shí)上，根據(jù)使用的需要，還可以設(shè)置更多數(shù)量的主腔室及次腔室，只要各個腔室為錐形結(jié)構(gòu)并且能夠相互連通即可。并且，不同數(shù)量的主腔室或次腔室的結(jié)構(gòu)基本相同，相互之間的連接可以參照上述結(jié)構(gòu)進(jìn)行設(shè)置，或進(jìn)行本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的改進(jìn)。此外，在工作時，主腔室A和主腔室B可輪流使用，以節(jié)省時間、提聞效率。
[0037]優(yōu)選地，為了使鎢粉5充分被氣流帶到次腔室C中，可以在主腔室A的內(nèi)部設(shè)置有用于承載鎢粉5的可移動的平臺4，通過平臺4的移動，即使在鎢粉5的量很少時，也能保證少量的鎢粉5能夠順利地被氣流帶走，而不會在主腔室A的內(nèi)部底端積存。
[0038]進(jìn)一步地，平臺4可以通過移動機(jī)構(gòu)設(shè)置在主腔室A的內(nèi)部。所述移動機(jī)構(gòu)可以包括設(shè)置在主腔室A的內(nèi)表面上的滑軌以及設(shè)置在平臺4上的滑塊，所述滑塊與滑軌相互配合，實(shí)現(xiàn)了平臺4沿著主腔室A的內(nèi)表面的滑動。
[0039]此外，平臺4在滑軌上移動的停止，可以通過設(shè)定滑軌的長度來實(shí)現(xiàn)，也可以在設(shè)定的最高點(diǎn)(低于主電磁閥3的位置)處設(shè)定卡塊，當(dāng)滑動至與卡塊抵接時，平臺4停止滑動。
[0040]此外，主腔室A上還設(shè)置有傳感器2，用于向外部設(shè)備發(fā)出平臺4已停止移動的信號，此時，可以對鎢粉5進(jìn)行更換或者補(bǔ)充。這樣，可以使主腔室A內(nèi)的鎢粉5的得到最大利用。
[0041]進(jìn)一步地，該除晶箱還包括與移動機(jī)構(gòu)(或平臺4)相連接的用于控制平臺4移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，在驅(qū)動機(jī)構(gòu)的作用下，所述移動機(jī)構(gòu)能夠進(jìn)行移動。
[0042]其中，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)可以包括與所述移動機(jī)構(gòu)(或平臺4)相互連接的控制器及驅(qū)動器，所述驅(qū)動器用于為移動機(jī)構(gòu)的動作提供動力，而所述控制器用于控制所述驅(qū)動器的啟停。所述控制器及所述驅(qū)動器可以設(shè)置在主腔室A的外部，也可以設(shè)置在主腔室A的內(nèi)部。[0043]此外，所述控制器及所述驅(qū)動器均為市售成熟產(chǎn)品，其結(jié)構(gòu)以及與移動機(jī)構(gòu)的連接方式均為現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。在實(shí)際使用時，可以根據(jù)鎢粉5和氣流的參數(shù)，所述控制器設(shè)置所述移動機(jī)構(gòu)的移動時間和/或移動速度等。
[0044]此外，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還可以為氣動式，具體為通過壓縮空氣來提供動力，此時，平臺4將主腔室A的內(nèi)部空間分隔為兩部分，主腔室A位于平臺4下方的空間為密閉空間，壓縮空氣通過設(shè)置在主腔室A下端的壓縮空氣入口 6進(jìn)入主腔室A的內(nèi)部，從而為平臺4提供動力。
[0045]如圖2至圖3所示，由于鎢粉5的量隨著使用會慢慢減少，鎢粉5和平臺4的總體重量逐漸減小，而平臺4下方的壓縮氣體的氣壓保持恒定，因此，平臺4會沿著軌道慢慢向上滑行。當(dāng)平臺4與卡塊抵接時，平臺4停止移動。
[0046]平臺4的形狀并不進(jìn)行限定，具有能夠承載鎢粉5的上表面即可。而平臺4的大小(表面積)可以根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定，詳情如下:
[0047]在一實(shí)例中，平臺4的外周邊緣的尺寸可以小于主腔室A與在平臺4停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸(平臺4的表面積小于主腔室A的截面面積)，則在平臺4向上移動過程中，平臺4通過滑塊(還可以設(shè)置有例如連接件等來輔助進(jìn)行)與主腔室A的內(nèi)表面上的滑軌相配合，由于平臺4的外周邊緣與主腔室A的內(nèi)周邊緣存在差值，即，平臺4的外表面與主腔室A的內(nèi)表面之間存在有間距，該間距保證了平臺4在主腔室A內(nèi)的上下移動能夠順利進(jìn)行；
[0048]在另一實(shí)例中，平臺4的外周邊緣的尺寸可以小于或者等于主腔室A與在平臺4移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。由于主腔室A的截面面積自下而上逐漸減少，故而平臺4對應(yīng)的半徑也作相應(yīng)變化，因此，對于平臺4的形狀或者材料提出了要求，即，平臺4可以由彈性材料、柔性材料如軟質(zhì)薄膜等制成，隨著主腔室A的截面面積變化，平臺4也相應(yīng)展開或收縮。此外，在該實(shí)例的情況下，平臺4還可以被設(shè)置為具有棱形結(jié)構(gòu)(楔形結(jié)構(gòu))，當(dāng)主腔室A的截面面積較大時，棱形結(jié)構(gòu)展開，平臺4近似為一平面；當(dāng)主腔室A的截面面積較小時，棱形結(jié)構(gòu)收縮，平臺4近似為棱形面或波形面。
[0049]此外，圖4至圖5示出了作為軟質(zhì)薄膜的平臺的實(shí)施例，如圖4至圖5所示，在未使用時，由于薄膜的伸縮性，會形成凹槽，由于中心點(diǎn)風(fēng)速最大，將順著內(nèi)壁和中心氣流吹下來的氣流匯聚到一點(diǎn)，無飽和蒸汽不會產(chǎn)生結(jié)晶膜，隨著鎢粉5的減少，平臺下表面的氣壓一定，平臺向上運(yùn)動，仍保持凹槽的存在，氣體向凹槽底部匯集，同樣達(dá)到鎢粉高質(zhì)量利用，提聞維修效果。
[0050]以上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種泵吸除晶箱，其特征在于，所述除晶箱包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，所述主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥；所述主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，所述主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，所述次腔室的上方設(shè)置有出氣口，所述次腔室的底端設(shè)置有使所述次腔室與外圍泵相互連接或不連接的次電磁閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室內(nèi)部設(shè)置有可移動的T D O
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室的所述內(nèi)表面上設(shè)置有滑軌，所述平臺上設(shè)置有與所述滑軌相配合的滑塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室上設(shè)置有用于使所述平臺停止移動的卡塊；和/或 所述主腔室上設(shè)置有用于提示所述平臺已停止移動的傳感器。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括用于提供動力的驅(qū)動器及用于控制所述驅(qū)動器啟停的控制器，所述平臺、所述驅(qū)動器及所述控制器相互連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺的外周邊緣的尺寸小于所述主腔室與在所述平臺停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為氣動式，所述主腔室的下端設(shè)置有供壓縮空氣進(jìn)入的壓縮空氣入口， 所述平臺將所述主腔室的內(nèi)部空間分隔為兩部分，所述主腔室位于所述平臺下方的空間為密閉空間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺的外周邊緣的尺寸小于或者等于所述主腔室與在所述平臺移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺由彈性材料或柔性材料制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室的數(shù)量為兩個，所述兩個主腔室均與所述次腔室緊鄰設(shè)置，所述兩個主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥。
【文檔編號】C03C17/09GK203429064SQ201320229533
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年4月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月28日
【發(fā)明者】許猛, 魏廣偉, 劉國全, 解威 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種泵吸除晶箱，包括相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，主腔室與次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使主腔室及次腔室相互連通與否的主電磁閥，主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，次腔室的上方設(shè)置有出氣口，次腔室的底端設(shè)置有使次腔室與外圍泵相互連接與否的次電磁閥。本實(shí)用新型的泵吸除晶箱，不僅能夠改變氣體流向，提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量，還能夠減少飽和蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶膜的形成，進(jìn)而提高維修成功率。
【專利說明】栗吸除晶箱
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種除晶箱，尤其涉及一種泵吸除晶箱。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有除晶箱的鎢粉腔體是由加熱裝置、圓筒形箱體、O形密封圈、管路、出氣孔、進(jìn)氣孔、熱感應(yīng)器元件等構(gòu)成，通過加熱裝置的加熱使得鎢粉升華為氣體，經(jīng)由氣體管路送至氣窗，進(jìn)而使鎢粉沉積到需要維修的玻璃表面。
[0003]在現(xiàn)有除晶箱的圓筒形鎢粉腔體中，由于吹起方式流向性較單一，對于某點(diǎn)氣流量較大且集中，容易產(chǎn)生粉塵附著到出氣孔進(jìn)而堵塞出氣孔的問題，出氣孔長時間堆積會降低氬氣(自入氣口進(jìn)入的保護(hù)氣體)中鎢粉的含量，降低維修成功率。
[0004]此外，在除晶箱暫停工作時，現(xiàn)有的鎢粉腔體仍在持續(xù)的加溫，容易產(chǎn)生飽和蒸汽，由于飽和蒸汽下容易結(jié)晶的緣故，鎢粉腔體內(nèi)部的鎢粉表面會形成一層結(jié)晶膜附著在其上，長時間的氣體的單一流向會使吹氣較弱或無吹氣的地方的結(jié)晶膜越來越厚，這部分的鎢粉會因?yàn)榻Y(jié)晶膜而不被使用，造成鎢粉的大量浪費(fèi)，而在氬氣中含量的減少也會對維修成功率造成一定的影響。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]有鑒于此，本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種泵吸除晶箱，不僅能夠改變氣體流向，提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量，還能夠減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶膜的形成，進(jìn)而提高了維修成功率。
[0006]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種泵吸除晶箱，包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，所述主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥；所述主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，所述主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，所述次腔室的上方設(shè)置有出氣口，所述次腔室的底端設(shè)置有使所述次腔室與外圍泵相互連接或不連接的次電磁閥。
[0007]優(yōu)選地，所述主腔室的內(nèi)部設(shè)置有可移動的平臺。
[0008]優(yōu)選地，所述主腔室的所述內(nèi)表面上設(shè)置有滑軌，所述平臺上設(shè)置有與所述滑軌相配合的滑塊。
[0009]優(yōu)選地，所述主腔室上設(shè)置有用于使所述平臺停止移動的卡塊；和/或
[0010]所述主腔室上設(shè)置有用于提示所述平臺已停止移動的傳感器。
[0011]優(yōu)選地，所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括用于提供動力的驅(qū)動器及用于控制所述驅(qū)動器啟停的控制器，所述平臺、所述驅(qū)動器及所述控制器相互連接。
[0012]優(yōu)選地，所述平臺的外周邊緣的尺寸小于所述主腔室與在所述平臺停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸。
[0013]優(yōu)選地，所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為氣動式，所述主腔室的下端設(shè)置有供壓縮空氣進(jìn)入的壓縮空氣入口，
[0014]所述平臺將所述主腔室的內(nèi)部空間分隔為兩部分，所述主腔室位于所述平臺下方的空間為密閉空間。
[0015]優(yōu)選地，所述平臺的外周邊緣的尺寸小于或者等于所述主腔室與在所述平臺移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。
[0016]優(yōu)選地，所述平臺由彈性材料或柔性材料制成。
[0017]優(yōu)選地，所述主腔室的數(shù)量為兩個，所述兩個主腔室均與所述次腔室緊鄰設(shè)置，所述兩個主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥。
[0018]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱采用圓錐式的腔室和泵吸除晶方式，利用錐形氣流全面均勻覆蓋鎢粉，從而提高鎢粉原材的利用率；另外，利用主腔室和次腔室的溫度差，將使用過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室，避免了結(jié)晶顆粒形成在主腔室中進(jìn)而覆蓋鎢粉所造成的利用率不充分；并且，對次腔室形成的結(jié)晶顆粒使用泵吸方式抽走，能減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶顆粒對出口的堵塞，進(jìn)而提高維修成功率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0019]圖1為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的使用狀態(tài)示意圖；
[0021]圖3為本實(shí)用新 型的泵吸除晶箱的另一使用狀態(tài)示意圖；
[0022]圖4為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的平臺的使用狀態(tài)示意圖；
[0023]圖5為本實(shí)用新型的泵吸除晶箱的平臺的另一使用狀態(tài)示意圖。
[0024]附圖標(biāo)記說明:
[0025]1、進(jìn)氣口2、傳感器
[0026]3、主電磁閥4、平臺
[0027]5、鎢粉6、壓縮空氣入口
[0028]7、次電磁閥8、外圍泵
[0029]9、出氣口A、B主腔室
[0030]C、次腔室
【具體實(shí)施方式】
[0031]有關(guān)本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及詳細(xì)說明，現(xiàn)結(jié)合【專利附圖】
【附圖說明】如下。
[0032]如圖1所示，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室A及倒錐形次腔室C，主腔室A與次腔室C相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使主腔室A及次腔室C相互連通或不連通的主電磁閥3，主腔室A的上方設(shè)置有進(jìn)氣口 I，次腔室C的上方設(shè)置有出氣口 9，主腔室A的下方設(shè)置有加熱裝置，次腔室C的底端設(shè)置有使所述次腔室C與外圍泵8相互連接或不連接的次電磁閥7。
[0033]本實(shí)用新型的泵吸除晶箱在使用時，主腔室A的填充有鎢粉5，通過主電磁閥3使主腔室A和次腔室C之間相互連通，主腔室A的進(jìn)氣口 I中通入保護(hù)氣體例如可為氬氣，保護(hù)氣體沿主腔室A的內(nèi)壁和中心氣流方向全面均勻地吹到鎢粉5表面，由于氣流的分散，會使現(xiàn)有設(shè)計中氣流較弱或無氣流的地方形成一定的氣流量，增大了鎢粉5表面氣流的覆蓋面積，不僅提高保護(hù)氣體中鎢粉的含量達(dá)到提高鎢粉利用率的目的，還能夠克服現(xiàn)有技術(shù)中由于圓筒形箱體中氣流方向的單一性而造成的堵塞出氣孔的問題；隨后，鎢粉5隨同保護(hù)氣體進(jìn)入次腔室C，再由次腔室C的出氣口 9導(dǎo)出到進(jìn)行作業(yè)的沉積裝置中。此外，由于主腔室A和次腔室C的溫度差，會將使用過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室C，避免了結(jié)晶顆粒形成在主腔室A中進(jìn)而覆蓋鎢粉所造成的利用率不充分。
[0034]再者，次腔室C作為儲藏容器，用于使主腔室A中形成的帶有鎢粉5的氣流被導(dǎo)入次腔室C中，由于具有加熱裝置的主腔室A的溫度高于次腔室C的溫度，使得生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的結(jié)晶顆粒定向形成在次腔室C中，避免了在主腔室A中的鎢粉5的表面產(chǎn)生結(jié)晶膜，進(jìn)一步提聞了鶴粉的利用率。
[0035]當(dāng)需要清理次腔室C中的結(jié)晶時，主腔室A (以及主腔室B)停止工作，關(guān)閉主電磁閥3，打開次電磁閥7，用外圍泵8抽取殘留在次腔室C的內(nèi)壁上的結(jié)晶，能夠減少保護(hù)蒸汽的產(chǎn)生，降低結(jié)晶顆粒對出口的堵塞，進(jìn)而提高維修成功率。
[0036]此外，本實(shí)用新型的泵吸除晶箱中的主腔室A及次腔室C的數(shù)量并不進(jìn)行限定，如圖1所示，主腔室的數(shù)量為兩個:主腔室A及主腔室B，而次腔室C為一個。同樣地，主腔室A、B均與次腔室C緊鄰設(shè)置，主腔室A、B與次腔室C相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使主腔室A、B及次腔室C相互連通或不連通的主電磁閥3。事實(shí)上，根據(jù)使用的需要，還可以設(shè)置更多數(shù)量的主腔室及次腔室，只要各個腔室為錐形結(jié)構(gòu)并且能夠相互連通即可。并且，不同數(shù)量的主腔室或次腔室的結(jié)構(gòu)基本相同，相互之間的連接可以參照上述結(jié)構(gòu)進(jìn)行設(shè)置，或進(jìn)行本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解的改進(jìn)。此外，在工作時，主腔室A和主腔室B可輪流使用，以節(jié)省時間、提聞效率。
[0037]優(yōu)選地，為了使鎢粉5充分被氣流帶到次腔室C中，可以在主腔室A的內(nèi)部設(shè)置有用于承載鎢粉5的可移動的平臺4，通過平臺4的移動，即使在鎢粉5的量很少時，也能保證少量的鎢粉5能夠順利地被氣流帶走，而不會在主腔室A的內(nèi)部底端積存。
[0038]進(jìn)一步地，平臺4可以通過移動機(jī)構(gòu)設(shè)置在主腔室A的內(nèi)部。所述移動機(jī)構(gòu)可以包括設(shè)置在主腔室A的內(nèi)表面上的滑軌以及設(shè)置在平臺4上的滑塊，所述滑塊與滑軌相互配合，實(shí)現(xiàn)了平臺4沿著主腔室A的內(nèi)表面的滑動。
[0039]此外，平臺4在滑軌上移動的停止，可以通過設(shè)定滑軌的長度來實(shí)現(xiàn)，也可以在設(shè)定的最高點(diǎn)(低于主電磁閥3的位置)處設(shè)定卡塊，當(dāng)滑動至與卡塊抵接時，平臺4停止滑動。
[0040]此外，主腔室A上還設(shè)置有傳感器2，用于向外部設(shè)備發(fā)出平臺4已停止移動的信號，此時，可以對鎢粉5進(jìn)行更換或者補(bǔ)充。這樣，可以使主腔室A內(nèi)的鎢粉5的得到最大利用。
[0041]進(jìn)一步地，該除晶箱還包括與移動機(jī)構(gòu)(或平臺4)相連接的用于控制平臺4移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，在驅(qū)動機(jī)構(gòu)的作用下，所述移動機(jī)構(gòu)能夠進(jìn)行移動。
[0042]其中，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)可以包括與所述移動機(jī)構(gòu)(或平臺4)相互連接的控制器及驅(qū)動器，所述驅(qū)動器用于為移動機(jī)構(gòu)的動作提供動力，而所述控制器用于控制所述驅(qū)動器的啟停。所述控制器及所述驅(qū)動器可以設(shè)置在主腔室A的外部，也可以設(shè)置在主腔室A的內(nèi)部。[0043]此外，所述控制器及所述驅(qū)動器均為市售成熟產(chǎn)品，其結(jié)構(gòu)以及與移動機(jī)構(gòu)的連接方式均為現(xiàn)有技術(shù)，在此不再贅述。在實(shí)際使用時，可以根據(jù)鎢粉5和氣流的參數(shù)，所述控制器設(shè)置所述移動機(jī)構(gòu)的移動時間和/或移動速度等。
[0044]此外，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還可以為氣動式，具體為通過壓縮空氣來提供動力，此時，平臺4將主腔室A的內(nèi)部空間分隔為兩部分，主腔室A位于平臺4下方的空間為密閉空間，壓縮空氣通過設(shè)置在主腔室A下端的壓縮空氣入口 6進(jìn)入主腔室A的內(nèi)部，從而為平臺4提供動力。
[0045]如圖2至圖3所示，由于鎢粉5的量隨著使用會慢慢減少，鎢粉5和平臺4的總體重量逐漸減小，而平臺4下方的壓縮氣體的氣壓保持恒定，因此，平臺4會沿著軌道慢慢向上滑行。當(dāng)平臺4與卡塊抵接時，平臺4停止移動。
[0046]平臺4的形狀并不進(jìn)行限定，具有能夠承載鎢粉5的上表面即可。而平臺4的大小(表面積)可以根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定，詳情如下:
[0047]在一實(shí)例中，平臺4的外周邊緣的尺寸可以小于主腔室A與在平臺4停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸(平臺4的表面積小于主腔室A的截面面積)，則在平臺4向上移動過程中，平臺4通過滑塊(還可以設(shè)置有例如連接件等來輔助進(jìn)行)與主腔室A的內(nèi)表面上的滑軌相配合，由于平臺4的外周邊緣與主腔室A的內(nèi)周邊緣存在差值，即，平臺4的外表面與主腔室A的內(nèi)表面之間存在有間距，該間距保證了平臺4在主腔室A內(nèi)的上下移動能夠順利進(jìn)行；
[0048]在另一實(shí)例中，平臺4的外周邊緣的尺寸可以小于或者等于主腔室A與在平臺4移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。由于主腔室A的截面面積自下而上逐漸減少，故而平臺4對應(yīng)的半徑也作相應(yīng)變化，因此，對于平臺4的形狀或者材料提出了要求，即，平臺4可以由彈性材料、柔性材料如軟質(zhì)薄膜等制成，隨著主腔室A的截面面積變化，平臺4也相應(yīng)展開或收縮。此外，在該實(shí)例的情況下，平臺4還可以被設(shè)置為具有棱形結(jié)構(gòu)(楔形結(jié)構(gòu))，當(dāng)主腔室A的截面面積較大時，棱形結(jié)構(gòu)展開，平臺4近似為一平面；當(dāng)主腔室A的截面面積較小時，棱形結(jié)構(gòu)收縮，平臺4近似為棱形面或波形面。
[0049]此外，圖4至圖5示出了作為軟質(zhì)薄膜的平臺的實(shí)施例，如圖4至圖5所示，在未使用時，由于薄膜的伸縮性，會形成凹槽，由于中心點(diǎn)風(fēng)速最大，將順著內(nèi)壁和中心氣流吹下來的氣流匯聚到一點(diǎn)，無飽和蒸汽不會產(chǎn)生結(jié)晶膜，隨著鎢粉5的減少，平臺下表面的氣壓一定，平臺向上運(yùn)動，仍保持凹槽的存在，氣體向凹槽底部匯集，同樣達(dá)到鎢粉高質(zhì)量利用，提聞維修效果。
[0050]以上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種泵吸除晶箱，其特征在于，所述除晶箱包括:相互緊鄰設(shè)置的錐形主腔室及倒錐形次腔室，所述主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥；所述主腔室的上方設(shè)置有進(jìn)氣口，所述主腔室的下方設(shè)置有加熱裝置，所述次腔室的上方設(shè)置有出氣口，所述次腔室的底端設(shè)置有使所述次腔室與外圍泵相互連接或不連接的次電磁閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室內(nèi)部設(shè)置有可移動的T D O
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室的所述內(nèi)表面上設(shè)置有滑軌，所述平臺上設(shè)置有與所述滑軌相配合的滑塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室上設(shè)置有用于使所述平臺停止移動的卡塊；和/或 所述主腔室上設(shè)置有用于提示所述平臺已停止移動的傳感器。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括用于提供動力的驅(qū)動器及用于控制所述驅(qū)動器啟停的控制器，所述平臺、所述驅(qū)動器及所述控制器相互連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺的外周邊緣的尺寸小于所述主腔室與在所述平臺停止向上移動時的位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣處的尺寸。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述除晶箱還包括控制所述平臺移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為氣動式，所述主腔室的下端設(shè)置有供壓縮空氣進(jìn)入的壓縮空氣入口， 所述平臺將所述主腔室的內(nèi)部空間分隔為兩部分，所述主腔室位于所述平臺下方的空間為密閉空間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺的外周邊緣的尺寸小于或者等于所述主腔室與在所述平臺移動過程中的任一位置相對應(yīng)的內(nèi)周邊緣的尺寸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述平臺由彈性材料或柔性材料制成。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的泵吸除晶箱，其特征在于:所述主腔室的數(shù)量為兩個，所述兩個主腔室均與所述次腔室緊鄰設(shè)置，所述兩個主腔室與所述次腔室相鄰接的側(cè)壁上均設(shè)置有使所述主腔室及所述次腔室相互連通或不連通的主電磁閥。
【文檔編號】C03C17/09GK203429064SQ201320229533
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年4月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月28日
【發(fā)明者】許猛, 魏廣偉, 劉國全, 解威 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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