專利名稱：一種抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及建筑和裝飾材料結(jié)構(gòu)，尤其涉及一種改進(jìn)型的陶瓷結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
陶瓷是指所有以粘土等無機(jī)非金屬礦物為原料的人工工業(yè)產(chǎn)品。它包括由粘土或 含有粘土的混合物經(jīng)混煉，成形，煅燒而制成的各種制品。由最粗糙的土器到最精細(xì)的精陶 和瓷器都屬于它的范圍。對于它的主要原料是取之于自然界的硅酸鹽礦物(如粘土、石英 等)，因此與玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工業(yè)。陶瓷材料大多是氧化物、氮化物、硼化物和 碳化物等。因此，陶瓷作為一種建筑和裝飾材料廣泛應(yīng)用于建筑、室內(nèi)外裝飾、廚衛(wèi)潔具和 家庭日常生活中。但是在使用過程中，經(jīng)過一段時(shí)間后，陶瓷表面往往都會(huì)受到不同程度的 污染，可能會(huì)堆積粉塵、沾上污水、污垢，或者廚房的油污等，往往需要耗費(fèi)大量人力去清洗 陶瓷器具或陶瓷磚面。受污染的陶瓷面部不僅影響美觀，而且容易滋生細(xì)菌病毒，污染環(huán) 境，影響人們的身心健康與生活環(huán)境。

實(shí)用新型內(nèi)容因此，針對上述問題，本實(shí)用新型提出一種改型的陶瓷結(jié)構(gòu)，是利用納米技術(shù)與傳 統(tǒng)陶瓷工藝的結(jié)合，而開發(fā)出的一種具有抗污自潔功能的陶瓷結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是本實(shí)用新型的抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)， 所述的釉料層(20)的外表面是經(jīng)化學(xué)蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面 (201)上沉積一層復(fù)合納米材料薄膜層(30)，所述的復(fù)合納米材料薄膜層(30)的外表面 (301)為光滑表面。進(jìn)一步的，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)的粗糙度Ra是100 μ m-500 μ m。本實(shí)用新型采用如上技術(shù)方案，利用納米技術(shù)與傳統(tǒng)陶瓷工藝的結(jié)合，而開發(fā)出 的一種具有抗污自潔功能的陶瓷結(jié)構(gòu)，解決了已有陶瓷易于堆積粉塵、污漬和滋生細(xì)菌病 毒的缺點(diǎn)。

圖1是已有的陶瓷的剖面圖；圖2是陶瓷的釉料層經(jīng)化學(xué)蝕刻后的剖面圖；圖3是本實(shí)用新型的剖面圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。參閱圖1所示，已有的陶瓷是陶瓷基體10上覆蓋一層釉料層20，并且釉料層20 — 般是相對光滑的，但是其微觀看來，也是不平整的表面，因此普通的陶瓷容易沾上灰塵和污漬。參閱圖2所示，將所述的釉料層20的外表面是經(jīng)化學(xué)蝕刻成一個(gè)粗糙面201。優(yōu) 選的，所述的釉料層20蝕刻的粗糙面201的粗糙度Ra是100 μ m-500 μ m。一般的，可以采 用已有技術(shù)中的釉料層化學(xué)蝕刻，于此不再贅述。參閱圖3所示，在所述的釉料層20的粗糙面201上沉積一層復(fù)合納米材料薄膜層 30，所述的復(fù)合納米材料薄膜層30的外表面301為光滑表面?？梢圆捎脟娡?、浸漬、涂抹、 離心或者壓合等方式，將復(fù)合納米材料薄膜層30附著于所述的釉料層20上方，并所述的復(fù) 合納米材料薄膜層30的外表面盡可能的打磨光滑。本實(shí)用新型的抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)由于在釉料層20進(jìn)行蝕刻處理成粗糙面，更利 于復(fù)合納米材料薄膜層30的附著，并且由于復(fù)合納米材料薄膜層30具有微觀相對光滑的 表面，因此不易沾上灰塵、污漬和滋生細(xì)菌病毒，具有抗污自潔的功效，可以廣泛應(yīng)用于建 筑、室內(nèi)外裝飾、廚衛(wèi)潔具和家庭日常生活中。盡管結(jié)合優(yōu)選實(shí)施方案具體展示和介紹了本實(shí)用新型，但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng) 該明白，在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，在形式上和細(xì)節(jié) 上可以對本實(shí)用新型做出各種變化，均為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求一種抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)，其特征在是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)，所述的釉料層(20)的外表面是經(jīng)化學(xué)蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)上沉積一層復(fù)合納米材料薄膜層(30)，所述的復(fù)合納米材料薄膜層(30)的外表面(301)為光滑表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)，其特征在是所述的釉料層(20)的粗糙 面(201)的粗糙度 Ra 是 100 μ m-500 μ m。
專利摘要本實(shí)用新型涉及建筑和裝飾材料結(jié)構(gòu)，尤其涉及一種改進(jìn)型的陶瓷結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型的抗污自潔陶瓷結(jié)構(gòu)是在陶瓷基體(10)上覆蓋一層釉料層(20)，所述的釉料層(20)的外表面是經(jīng)化學(xué)蝕刻的粗糙面(201)，所述的釉料層(20)的粗糙面(201)上沉積一層復(fù)合納米材料薄膜層(30)，所述的復(fù)合納米材料薄膜層(30)的外表面(301)為光滑表面。本實(shí)用新型采用如上技術(shù)方案，利用納米技術(shù)與傳統(tǒng)陶瓷工藝的結(jié)合，而開發(fā)出的一種具有抗污自潔功能的陶瓷結(jié)構(gòu)，解決了已有陶瓷易于堆積粉塵、污漬和滋生細(xì)菌病毒的缺點(diǎn)。
文檔編號C04B41/89GK201634589SQ20102002632
公開日2010年11月17日 申請日期2010年1月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月7日
發(fā)明者蔡榮法 申請人:泉州榮達(dá)陶瓷有限公司