專(zhuān)利名稱(chēng)：輻射源和/或探測(cè)器定位系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
以下內(nèi)容涉及到在成像程序中對(duì)輻射源和/或輻射敏感探測(cè)器陣列在縱向上進(jìn) 行定位，還涉及到計(jì)算機(jī)X線斷層掃描攝影(CT)的一種專(zhuān)門(mén)應(yīng)用。但是，其也可用于 其它醫(yī)學(xué)成像應(yīng)用以及非醫(yī)學(xué)成像的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
計(jì)算機(jī)X線斷層掃描攝影(CT)掃描儀一般包括X射線管和探測(cè)X射線管放射 出的輻射的探測(cè)器陣列。該X射線管和探測(cè)器陣列連接在檢查區(qū)域的相反側(cè)的轉(zhuǎn)子上。 該轉(zhuǎn)子通過(guò)固定的框架可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐并且圍繞環(huán)繞檢查區(qū)域的縱向軸轉(zhuǎn)動(dòng)?；颊咧窝b 置支撐檢查區(qū)域上的對(duì)象。固定框架固定方式是在掃描過(guò)程中保持在垂直位置。但是，傳統(tǒng)系統(tǒng)包括配置 為在縱向軸的方向上傾斜起不超過(guò)士30度的傾斜角度的固定框架。該傾斜的固定支架傾 斜起X射線管和探測(cè)器陣列，使得X射線束以銳角穿過(guò)檢查區(qū)域。固定支架基于不同的 原因傾斜起來(lái)，例如為了獲得特有的輻射源軌跡，如橢圓軌跡，或者是為了避免暴露對(duì) 輻射敏感的解剖體，例如當(dāng)掃描內(nèi)耳時(shí)的視神經(jīng)。但是，為了傾斜起支架，掃描儀需要傾斜支撐和控制系統(tǒng)，其能夠精確地定位 質(zhì)量重的支架。這樣的系統(tǒng)會(huì)提高整個(gè)系統(tǒng)的成本和/或掃描儀的占地面積，占用該固 定支架內(nèi)相對(duì)有限的空間，并且使掃描儀增加相當(dāng)大的重量。還地，為了減少固定框架 和患者之間發(fā)生擠壓或者潛在的接觸擠壓，需要有傾斜膨脹規(guī)避算法。此外，傾斜固定 支架減小了檢查區(qū)域的有效的孔徑尺寸，這可能會(huì)要求臨床醫(yī)生在檢查區(qū)域中重新調(diào)節(jié) 患者的位置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明致力于解決上述問(wèn)題和/或其它問(wèn)題。一方面，一種醫(yī)療成像系統(tǒng)包括大體固定的支架和由所述大體固定的支架可轉(zhuǎn) 動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架，所述旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)。醫(yī)療成像系統(tǒng) 還包括放射穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束的輻射源，所述輻射源可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn) 支架上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí)沿所述縱向軸的方向相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)支架平 移。醫(yī)療成像系統(tǒng)還包括探測(cè)穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束并產(chǎn)生表示它的信號(hào)的探測(cè)器 陣列。探測(cè)器陣列可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn)支架上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí) 與所述輻射源配合地移動(dòng)。另一方面，一種方法包括使可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到固定支架的旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸在 檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)；以及掃描期間沿著縱向軸的方向相對(duì)于所述固定支架平移輻射源 和探測(cè)器陣列，所述輻射源和探測(cè)器陣列連接到所述旋轉(zhuǎn)支架并且隨著所述旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn) 動(dòng)。另一方面，一種醫(yī)療成像系統(tǒng)包括用于使由固定支架可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)支架發(fā)出穿過(guò)檢查區(qū)域的輻 射；用于在掃描期間沿著縱向軸的方向相對(duì)于所述固定支架移動(dòng)輻射源的裝置，使得所 述輻射束以?xún)A斜角度穿過(guò)所述檢查區(qū)域，所述輻射源連接到所述旋轉(zhuǎn)支架并且隨著所述 旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn)動(dòng)；通過(guò)探測(cè)器陣列探測(cè)所發(fā)出的輻射的裝置，所述探測(cè)器陣列連接到所述 旋轉(zhuǎn)支架并且隨著所述旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn)動(dòng)；以及產(chǎn)生表示探測(cè)到的輻射的圖像數(shù)據(jù)的裝置。另一方面，一種計(jì)算機(jī)X線斷層掃描攝影(CT)掃描儀包括大體固定的支架；由大體固定的支架可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架，所述旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸在檢查 區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)；發(fā)出輻射束的輻射源；帶有至少一個(gè)可移動(dòng)輻射校準(zhǔn)板的輻射源準(zhǔn)直 器，其對(duì)輻射源發(fā)出的輻射進(jìn)行校準(zhǔn)以產(chǎn)生穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射束；探測(cè)器陣列，其探 測(cè)穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射束并產(chǎn)生代表它的信號(hào)；設(shè)置在檢查區(qū)域和探測(cè)器陣列之間的防 散射光柵；重構(gòu)器，其對(duì)來(lái)自探測(cè)器陣列的信號(hào)進(jìn)行重構(gòu)以產(chǎn)生表示檢查區(qū)域的體積圖 像數(shù)據(jù)；其中，輻射源和探測(cè)器陣列沿著縱向軸協(xié)調(diào)地平移，從而在不需要傾斜固定支 架的情況下產(chǎn)生有效傾斜。另一方面，一種成像裝置包括繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)支架。輻 射源包括焦點(diǎn)，所述焦點(diǎn)發(fā)出穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射。輻射源可移動(dòng)地固定到旋轉(zhuǎn)支架上 并且在縱向軸的方向上平移。探測(cè)器陣列被聚焦在焦點(diǎn)處。探測(cè)器陣列與輻射源的平移 相配合地滾轉(zhuǎn)，從而保持探測(cè)器陣列與焦點(diǎn)之間的聚焦。另一方面，一種方法包括在z軸方向上平移輻射源的焦點(diǎn)；與所述焦點(diǎn)的平移 相配合地同時(shí)滾轉(zhuǎn)在所述焦點(diǎn)處聚焦的探測(cè)器陣列，從而在焦點(diǎn)平移時(shí)保持探測(cè)器陣列 和焦點(diǎn)之間的聚焦。本發(fā)明中，可以采用不同的部件和部件的組合，也可采用不同的步驟和步驟的 組合。附圖只用于展示優(yōu)選的實(shí)施例的目的而不對(duì)本發(fā)明進(jìn)行限制。


圖1示出了成像裝置，其包括源/準(zhǔn)直器和探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)。圖2和圖3示出了示例性的源/準(zhǔn)直器定位系統(tǒng)。圖4示出了示例性的探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)。圖5示出了一個(gè)示例，其中成像裝置包括雙片式轉(zhuǎn)子，其用來(lái)支撐源/準(zhǔn)直器和 探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)。圖6示出了一個(gè)示例，其中源/準(zhǔn)直器和探測(cè)器陣列物理連接在一起。圖7a、7b、8a、8b、9a和9b示出了一個(gè)示例，其中源/準(zhǔn)直器和探測(cè)器陣列在 縱向軸線方向上平移和轉(zhuǎn)動(dòng)。圖10示出了一個(gè)示例，其中探測(cè)器陣列可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于轉(zhuǎn)子。圖11和圖12示出了一個(gè)示例，其中通過(guò)平移源和調(diào)節(jié)準(zhǔn)直器寬度獲得傾斜角度 軌跡。圖13示出了一個(gè)示例，其中采用獨(dú)立的基準(zhǔn)框架來(lái)確定源/準(zhǔn)直器和探測(cè)器陣 列的位置。圖14示出了一種方法。圖15-19示出了一個(gè)實(shí)施例，其中輻射源平移，探測(cè)器陣列配合輻射源滾動(dòng)。
圖20和21示出了一個(gè)實(shí)施例，其中陽(yáng)極包括曲面。
具體實(shí)施例方式以下內(nèi)容一般性地涉及到一種計(jì)算機(jī)X線斷層掃描攝影(CT)掃描儀，其中x射 線管、源準(zhǔn)直器和/或探測(cè)器陣列沿著z軸平移，和/或彼此獨(dú)立地和/或相結(jié)合地和/ 或與固定支架/框架彼此獨(dú)立地和/或相結(jié)合地沿著與z軸方向傾斜。應(yīng)該理解為這種 移動(dòng)可以在掃描之前、過(guò)程中以及之后進(jìn)行。在一個(gè)示例中，通過(guò)在掃描過(guò)程中動(dòng)態(tài)地 移動(dòng)X射線管、輻射源準(zhǔn)直器或探測(cè)器陣列中的一或多個(gè)，在不傾斜固定支架/框架的情 況下就可以實(shí)現(xiàn)獲得傾斜角，盡管該固定支架/框架也可以?xún)A斜。首先基準(zhǔn)圖1，CT掃描儀100包括固定支架部或框架102，其采用的固定方式是 在掃描過(guò)程中保持靜止。但是，該固定支架102可以配置為繞著傾斜軸104傾斜和/或 者移動(dòng)。掃描儀100還包括旋轉(zhuǎn)支架部或轉(zhuǎn)子106，其由固定支架102可旋轉(zhuǎn)地支撐。 旋轉(zhuǎn)支架106圍繞縱向軸或z軸110在檢查區(qū)域108周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)。輻射源112，例如筒管或其它x射線管，放射出穿過(guò)檢查區(qū)域108的輻射。輻 射源準(zhǔn)直器114校準(zhǔn)放射出的輻射從而使大致為圓錐形、扇形、楔形或其它形態(tài)的輻射 束穿過(guò)檢查區(qū)域108。輻射源112和/或輻射源準(zhǔn)直器114由圍繞檢查區(qū)域108的旋轉(zhuǎn) 支架106支撐并隨之轉(zhuǎn)動(dòng)。輻射源112和輻射源準(zhǔn)直器114通過(guò)支承或類(lèi)似部件可移動(dòng) 地連接于旋轉(zhuǎn)支架106上，下文將對(duì)此進(jìn)行詳述。在示出的例子中，輻射源112和輻射 源準(zhǔn)直器114機(jī)械地連接在一起。這樣，本文中輻射源112和輻射源準(zhǔn)直器114稱(chēng)作源 /準(zhǔn)直器112/114。輻射源定位系統(tǒng)116可選擇地移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114以在掃描前、掃描中和/ 或之后將源/準(zhǔn)直器112/114定位到適當(dāng)?shù)奈恢谩Ｈ鐖D所示，掃描儀100包括兩個(gè)輻射 源定位系統(tǒng)116，分別在源/準(zhǔn)直器112/114—側(cè)。但是，在另外一個(gè)實(shí)施例中，掃描儀 100包括一個(gè)或者超過(guò)兩個(gè)的輻射源定位系統(tǒng)116。輻射源位置控制器118與輻射源定位 系統(tǒng)116進(jìn)行通訊并發(fā)出表示源/準(zhǔn)直器112/114的所需移動(dòng)的信號(hào)。如下文將進(jìn)行詳 細(xì)描述的，這種移動(dòng)可以包括源/準(zhǔn)直器112/114在縱向軸110方向上的平移移動(dòng)和/或 源/準(zhǔn)直器112/114在縱向軸110方向上的轉(zhuǎn)動(dòng)。探測(cè)器陣列120設(shè)置在輻射源112的對(duì)面，在檢查區(qū)域108相反側(cè)。探測(cè)器陣 列120包括一或多行沿橫向方向延伸的輻射敏感像素。這些輻射敏感像素檢測(cè)穿過(guò)檢查 區(qū)域108的輻射并且分別發(fā)出代表它們的信號(hào)。與輻射源112和準(zhǔn)直器114類(lèi)似，所顯示 的探測(cè)器陣列120由圍繞檢查區(qū)域108的旋轉(zhuǎn)支架106支撐并隨之轉(zhuǎn)動(dòng)。該探測(cè)器陣列 120可移動(dòng)地通過(guò)支承和/或樞軸可移動(dòng)地連接于旋轉(zhuǎn)支架106，下文將進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。當(dāng)探測(cè)器陣列120配置為平移和/或旋轉(zhuǎn)時(shí)，探測(cè)器定位系統(tǒng)122可選擇地移 動(dòng)探測(cè)器陣列120，從而在掃描前、掃描中和/或之后將探測(cè)器陣列120定位到適當(dāng)?shù)奈?置。如圖所示，掃描器100包括兩個(gè)探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)122，分別置于探測(cè)器陣列120 的每側(cè)。但是，與輻射源定位系統(tǒng)116類(lèi)似，在另一個(gè)實(shí)施例中具有一或多于兩個(gè)的探 測(cè)器定位系統(tǒng)122。探測(cè)器位置控制器124與探測(cè)器定位系統(tǒng)122進(jìn)行通訊并產(chǎn)生表示 探測(cè)器陣列120移動(dòng)的信號(hào)。需要理解的是，這種移動(dòng)可以與源/準(zhǔn)直器112/114的移 動(dòng)相配合地或者獨(dú)立于源/準(zhǔn)直器112/114的移動(dòng)，包括在相同方向或者相反方向移動(dòng)。在探測(cè)器陣列120配置為樞轉(zhuǎn)的情況下，當(dāng)源/準(zhǔn)直器112/114平移時(shí)，探測(cè)器陣列120 樞轉(zhuǎn)?？梢杂梅瓷⑸涔鈻?未示出)與探測(cè)器陣列120相連接。重構(gòu)器126對(duì)探測(cè)器陣列120產(chǎn)生的信號(hào)進(jìn)行重構(gòu)并產(chǎn)生表示檢查區(qū)域108的體 積圖像數(shù)據(jù)。患者支撐裝置(未示出)，如躺椅，支撐在診斷區(qū)域108著的患者。該患 者支撐裝置配合旋轉(zhuǎn)支架106的轉(zhuǎn)動(dòng)可沿著x、y和/或z軸方向上移動(dòng)，從而利于獲得 橢圓、螺旋、軸向和/或其它期望的掃描軌跡。一般用途的計(jì)算系統(tǒng)用作操作員控制臺(tái) 128，其包括輸入和人工可讀輸出設(shè)備，例如鍵盤(pán)和/或鼠標(biāo)以及顯示器和/或打印機(jī)。 該計(jì)算系統(tǒng)中的軟件通過(guò)基于操作者選擇的掃描協(xié)議和/或其它方案發(fā)送用于源/準(zhǔn)直器 112/114和/或探測(cè)器陣列120的定位指令，從而控制系統(tǒng)100的運(yùn)行。通過(guò)如上所述相對(duì)彼此可選擇地移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114和/或探測(cè)器陣列 120，可以在不需要傾斜固定支架102的情況下獲得例如橢圓軌跡等不同的傾斜軌跡。這 樣，掃描儀100可以配置為固定支架102不傾斜。在一個(gè)實(shí)例中，該特點(diǎn)消除了傾斜固 定支架102所帶來(lái)的前述的一或多個(gè)缺點(diǎn)。作為示例，如上述移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114 和/或探測(cè)器陣列120而非傾斜固定支架102可以消除在固定支架102與一或多個(gè)對(duì)象， 如檢查空間中的醫(yī)療設(shè)備和/或正在被掃描的病患之間潛在的碰撞。另外，節(jié)省掉用來(lái) 傾斜固定支架102的機(jī)構(gòu)也可以減小整個(gè)掃描儀重量、尺寸和/或成本。當(dāng)然，當(dāng)固定 支架102配置為可以?xún)A斜時(shí)，無(wú)論是否傾斜固定支架102都可以獲得傾斜的軌跡。應(yīng)該 理解的是，一個(gè)專(zhuān)門(mén)的掃描協(xié)議可能需要移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114、探測(cè)器陣列120或固 定支架102中的一個(gè)，或者源/準(zhǔn)直器112/114、探測(cè)器陣列120或固定支架102中的兩 個(gè)或多個(gè)。圖2和圖3展示了示例性的輻射源定位系統(tǒng)116。在示出的例子中，輻射源定 位系統(tǒng)116包括細(xì)長(zhǎng)的框架部202，其沿著橫向軸線緊鄰源/準(zhǔn)直器112/114定位并沿著 縱向軸110的方向延伸?？蚣懿?02包括第一主側(cè)部或內(nèi)側(cè)部204，其面向源/準(zhǔn)直器 112/114，還包括相反的第二主側(cè)部或外側(cè)部206，其背向朝源/準(zhǔn)直器112/114。該細(xì) 長(zhǎng)的框架部202還包括相反的第一和第二端部208和210。端部208通過(guò)類(lèi)似于螺栓、 螺釘、鉚釘、膠水、粘著劑等的固定機(jī)構(gòu)固定于旋轉(zhuǎn)支架106上，從而將框架部202連接 在旋轉(zhuǎn)支架106上。在另一個(gè)實(shí)施例中，框架部202與旋轉(zhuǎn)支架106通過(guò)磁力連接在一 起。另一個(gè)實(shí)施例中，框架部202與旋轉(zhuǎn)支架206是單一整體結(jié)構(gòu)。輻射源定位系統(tǒng)116還包括連接于框架部202的第一支承212。所顯示的第一 支承212是齒條和小齒輪型支承。但是，諸如矛齒輪(speargear)、鏈條、皮帶等的其它 支承在此作為可選手段也可使用。第一支承212包括小齒輪216、218和220。小齒輪 216—般是包括多個(gè)齒的環(huán)形齒輪，齒條218和220都是包括了多個(gè)齒的平面齒輪，其與 小齒輪216的齒相嚙合。齒條218和220置于框架部202相對(duì)的兩側(cè)，齒條218在內(nèi)側(cè) 部204，齒條220在外側(cè)部206。齒輪216-220相對(duì)彼此設(shè)置成齒輪216-220中的任何一個(gè)的移動(dòng)會(huì)使齒輪216和 218的齒嚙合以及使齒輪216和220的齒嚙合，從而使三個(gè)齒輪216-220都動(dòng)起來(lái)。在示 出的例子中，其中一個(gè)齒條218 (或者220)在一個(gè)方向上的平移使小齒輪216轉(zhuǎn)動(dòng)，從而 使另一齒條220 (或218)在相對(duì)于齒條218 (或220)相反方向上平移。第一支承212連 接于框架上從而使齒輪218和220在縱向軸110方向上平移。
輻射源定位系統(tǒng)116的第二支承222包括線性支承。但是，該第二支承222可以 替代地包括鏈條、皮帶、導(dǎo)螺桿、滾珠絲桿等。第二支承222包括滑塊224和導(dǎo)軌226。 滑塊224包括凹槽228。導(dǎo)軌226延伸框架部202的大體長(zhǎng)度，與框架部202的內(nèi)側(cè)部 204相連接，并且置于凹槽228中?；瑝K224可以沿著導(dǎo)軌226自由滑動(dòng)或平移。支承 222連接于框架并配置成滑塊224在縱向方向平移。輻射源定位系統(tǒng)116的第三支承230也包括線性支承，并且可以是上面提到的其 它支承類(lèi)型。第三支承230包括滑塊232和導(dǎo)軌234?；瑝K232包括凹槽236。滑塊234 延伸框架部202的大體長(zhǎng)度，與框架部202的外側(cè)部206相連接，并且置于凹槽236中。 滑塊232可以沿著導(dǎo)軌234自由滑動(dòng)或平移。支承230連接于框架并配置成滑塊232在 縱向方向平移。致動(dòng)器238，例如是線性或其它類(lèi)型的馬達(dá)，連接于齒條218和輻射源112。致 動(dòng)器238通過(guò)連接于框架部202的內(nèi)側(cè)部204并在內(nèi)側(cè)部204與致動(dòng)器238之間的磁性板 240磁性地被致動(dòng)?；瑝K224連接于準(zhǔn)直器114。質(zhì)量平衡塊242連接于第一支承的齒 條220和第三支承的滑塊232，后文將進(jìn)行詳述。因此，源/準(zhǔn)直器112/114與齒條220 和滑塊224 —起在同一方向移動(dòng)，質(zhì)量平衡塊242與齒條220和滑塊232 —起相對(duì)于框架 部202沿著縱向方向在相反方向上移動(dòng)。位置測(cè)量裝置244，例如編碼器或類(lèi)似裝置，連接于致動(dòng)器238、滑塊224和/ 或源/準(zhǔn)直器112/114，并且確定源/準(zhǔn)直器112/114相對(duì)于框架部202的絕對(duì)和/或相 對(duì)位置。可移動(dòng)的線纜臂246用來(lái)引導(dǎo)所有線纜、連接器和/或類(lèi)似部件到輻射源112和 /或準(zhǔn)直器114。線纜臂246具有彈性，因此可以在源/準(zhǔn)直器112/114移動(dòng)時(shí)根據(jù)需要 彎曲?？蛇x地采用支撐結(jié)構(gòu)以便利于支撐框架部202、源/準(zhǔn)直器112/114、致動(dòng)器238 和/或其它部件。輻射源定位系統(tǒng)116—起沿著縱向移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114，源/準(zhǔn)直器112/114 通過(guò)第一支承212沿縱向方向在相反方向移動(dòng)質(zhì)量平衡塊242。與不使用質(zhì)量平衡塊242 的系統(tǒng)相比，使用上述的質(zhì)量平衡塊可以減小旋轉(zhuǎn)支架106受到的力。致動(dòng)器238配置 為通過(guò)共同的重心移動(dòng)源/準(zhǔn)直器112/114。每個(gè)質(zhì)量平衡塊242配置為相對(duì)于源/準(zhǔn)直 器112/114移動(dòng)而共同重心248保持不變。支承230放置于質(zhì)量平衡塊242的重心250 處，并且齒條220與支承230和重心250對(duì)齊放置。這樣，就使支承230上的負(fù)載最小 化。圖4示出了示例性的探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)122，其與前文討論的輻射源定位系統(tǒng) 116相類(lèi)似。探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)122包括細(xì)長(zhǎng)的框架部402，其置于探測(cè)器陣列120下 方從而使得探測(cè)器陣列120位于細(xì)長(zhǎng)的框架部402和檢查區(qū)域108之間?？蛇x地，框架 部402可以鄰接探測(cè)器陣列120的端部設(shè)置。框架部402包括面向探測(cè)器陣列120的第 一主側(cè)部或內(nèi)側(cè)部404、背向探測(cè)器陣列120的相對(duì)的第二主側(cè)部或外側(cè)部406、通過(guò)前 述的緊固機(jī)構(gòu)固定在旋轉(zhuǎn)支架106上的第一端(未示出)、和可以或者不可以固定到結(jié)構(gòu) 支撐上的第二端408。與框架部202類(lèi)似，在另一個(gè)實(shí)施例中框架部402可以是旋轉(zhuǎn)支架 106的一部分。探測(cè)器陣列定位系統(tǒng)122還包括連接于框架部402的第一支承410。第一支承 410是類(lèi)似于第一支承212的齒條和小齒輪型支承，其包括小齒輪412、齒條414和416。齒條414和416分別置于框架部402的相反側(cè)，齒條414與第一內(nèi)側(cè)部404相鄰，齒條 416與外側(cè)部406相鄰。如源定位系統(tǒng)116所討論的，齒輪412-416彼此設(shè)置成移動(dòng)齒輪 412-416中的任何一個(gè)就會(huì)導(dǎo)致齒輪412-416的其它兩個(gè)移動(dòng)。支承410與框架402相連 接從而使齒條414和416沿著縱向方向以相反方向來(lái)回移動(dòng)。第二和第三支承418和428與支承220和230相類(lèi)似。第二支承418包括帶有 凹槽424的滑塊422和連接于內(nèi)側(cè)部424的導(dǎo)軌426，導(dǎo)軌延伸框架部402的大體長(zhǎng)度并 且置于凹槽424中，使滑塊422能沿著導(dǎo)軌426自由滑動(dòng)或平移。第三支承428包括具 有凹槽432的滑塊430和連接于內(nèi)側(cè)部404的導(dǎo)軌434，導(dǎo)軌延伸框架部402的大體長(zhǎng)度 并且置于凹槽432中，使滑塊430沿著導(dǎo)軌434自由滑動(dòng)或平移。支承418和428連接 于框架上并配置為滑塊422和430在縱向軸110的方向上平移。致動(dòng)器436，例如是線性或其它類(lèi)型的馬達(dá)，連接于齒條414和探測(cè)器陣列 120。致動(dòng)器436通過(guò)連接于框架部402的第一滑塊404并位于框架部402和致動(dòng)器436 之間的磁性板438磁性地致動(dòng)?；瑝K422也連接于探測(cè)器陣列120。質(zhì)量平衡塊440連 接于軌跡414和第二滑塊430上。因此，探測(cè)器陣列120與齒條416和滑塊422在一個(gè)方 向上平移而質(zhì)量平衡塊440與齒條416和滑塊430相對(duì)于框架部402在相反方向上平移。 位置測(cè)量裝置442，例如是解碼器或其它類(lèi)似裝置，測(cè)定探測(cè)器陣列120相對(duì)框架部402 的絕對(duì)或相對(duì)位置。采用可移動(dòng)的線纜臂444來(lái)引導(dǎo)所有線纜、連接器和/或類(lèi)似部件 到探測(cè)器陣列120。探測(cè)器定位系統(tǒng)122沿著縱向方向移動(dòng)探測(cè)器陣列120，探測(cè)器陣列通過(guò)第一支 承410沿著縱向方向在相反方向移動(dòng)質(zhì)量平衡塊440。相對(duì)于沒(méi)有質(zhì)量平衡塊440的系 統(tǒng)，這樣做減少了旋轉(zhuǎn)支架106受到的力。通過(guò)將致動(dòng)器436放置在探測(cè)器陣列120的 下面，致動(dòng)器吸力可以有助于探測(cè)器陣列120經(jīng)受住離心力?？梢灶A(yù)料到各種變化。作為舉例的目的，上文提到的有關(guān)配置中輻射源112和準(zhǔn)直器114是一起移動(dòng) 的。但在其它實(shí)施例中，輻射源112可以獨(dú)立于準(zhǔn)直器114傾斜。在該示例中，輻射源 112和準(zhǔn)直器114可以一起傾斜或者輻射源112傾斜而準(zhǔn)直器114相對(duì)于輻射源112保持 相對(duì)靜止。應(yīng)該理解到，質(zhì)量平衡塊242和440可被直接驅(qū)動(dòng)，例如在平衡塊上安裝線性馬 達(dá)。在一個(gè)例子中，這樣可以減小支撐框架的力和齒輪負(fù)載。在另一個(gè)實(shí)施例中，質(zhì)量平衡塊242和440被省掉了。在另一個(gè)實(shí)施例中，探測(cè)器定位系統(tǒng)122被省掉了。在該實(shí)施例中，源/準(zhǔn)直 器112/114可以如前文所述一樣通過(guò)輻射源定位系統(tǒng)116移動(dòng)。在所描述的示例中，定位裝置116和122的框架202和402的端部之一與旋轉(zhuǎn)支 架106相連。在另一個(gè)實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)支架106包括第一板或背板，例如環(huán)形板502，以 及第二板或前板，例如環(huán)形板504，如圖5所示。在該實(shí)施例中，框架部202和402的 端部506固定于背板502，而框架部202和402的端部508固定于前板504。在另一個(gè)實(shí) 施例中，前板可以?xún)H僅從框架部202延伸到框架部202和/或從框架部402延伸到框架部 402，或者延伸小于整個(gè)環(huán)的距離。在另一個(gè)實(shí)施例中，前板可以包括一或多個(gè)其它形 狀的結(jié)構(gòu)部件。在另一個(gè)實(shí)施例中，結(jié)構(gòu)部件可以連接于框架部202的側(cè)部204、側(cè)部206、頂部和/或底部。在所描述的示例中，源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120是獨(dú)立和單獨(dú)的子 系統(tǒng)，它們?cè)诓煌目刂破?18和124的控制下移動(dòng)。圖6示出了一個(gè)實(shí)施例，其中源 /準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120通過(guò)結(jié)構(gòu)性連接部602物理連接在一起。該連接部 602的第一端604物理連接于輻射源112和/或準(zhǔn)直器114。第二端606物理連接于探測(cè) 器陣列120。在該示例中，第二端606是支架608的一部分，該支架沿著探測(cè)器陣列120 的底部延伸。此外，可以采用單一位置控制器610來(lái)驅(qū)動(dòng)輻射源和探測(cè)器陣列定位系統(tǒng) 116 和 122。在上文中，定位裝置116和122平移源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120。應(yīng) 該理解到，在其它實(shí)施例中源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列可附加地或可選地配置為相 對(duì)于固定支架102傾斜。這有利于在掃描解剖體的期望區(qū)域時(shí)避免掃描解剖體的其它區(qū) 域。圖7a、7b、8a、8b、9a和9b中示出了在掃描內(nèi)耳時(shí)為了避免輻射到視神經(jīng)，在三 個(gè)旋轉(zhuǎn)位置下源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120之間的旋轉(zhuǎn)和平移的關(guān)系。當(dāng)然， 傾斜源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120 (平移或不平移源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器 陣列120)也能用于避免輻射到其它組織。圖7a示出了掃描儀100的側(cè)視圖。在該示例中，旋轉(zhuǎn)支架106成一個(gè)角度，在 該角度，源/準(zhǔn)直器112/114處于大概12點(diǎn)位置而探測(cè)器陣列120處于大概6點(diǎn)位置。 當(dāng)朝著該角度方向移動(dòng)時(shí)，源/準(zhǔn)直器112/114沿著縱向方向平移離開(kāi)患者，而探測(cè)器陣 列120沿著縱向方向朝向患者平移。如此，在該角度位置上輻射束成銳角從輻射源112 引導(dǎo)到探測(cè)器陣列120，從而使穿過(guò)內(nèi)耳的輻射束避開(kāi)視神經(jīng)。圖7b示出了在朝向檢查 區(qū)域108的方向上輻射源112(作為成像系統(tǒng)710的一部分)的內(nèi)視圖。定位系統(tǒng)702平 移并旋轉(zhuǎn)源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120。如圖所示，定位系統(tǒng)702包括致動(dòng)器 701*704，如活塞或其它流體致動(dòng)器，其用來(lái)驅(qū)動(dòng)可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到樞軸708:和7082的 引導(dǎo)臂7061和7062，所述樞軸連接于成像系統(tǒng)710的相對(duì)側(cè)上，該成像系統(tǒng)共同地包括 源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120。在該示例中，引導(dǎo)臂706i和7062相類(lèi)似地被驅(qū) 動(dòng)以平移源/準(zhǔn)直器112/114。在圖8a中，旋轉(zhuǎn)支架106轉(zhuǎn)動(dòng)到一個(gè)角度，在此角度源/準(zhǔn)直器112/114置于 大概3點(diǎn)位置，探測(cè)器陣列120置于大概9點(diǎn)位置，而輻射束被導(dǎo)入紙頁(yè)。在該角度位 置，源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120彼此之間沿著橫向相互對(duì)齊。此外，傾斜旋轉(zhuǎn) 支架106，從而傾斜源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120，導(dǎo)致輻射束以某個(gè)角度穿過(guò) 檢查區(qū)域，該角度下輻射束輻射到內(nèi)耳而避開(kāi)視神經(jīng)。圖8b示出了輻射源112的視圖， 其中通過(guò)移動(dòng)引導(dǎo)臂7062比引導(dǎo)臂706:更大的程度使成像系統(tǒng)710傾斜。在圖9a中，旋轉(zhuǎn)支架106旋轉(zhuǎn)到使源/準(zhǔn)直器112/114位于大概6點(diǎn)位置，探測(cè) 器陣列120位于大概12點(diǎn)位置。當(dāng)朝向該角度位置移動(dòng)時(shí)，源/準(zhǔn)直器112/114沿著縱 向軸的方向朝患者平移，而探測(cè)器陣列120沿著縱向軸的方向平移遠(yuǎn)離患者。如此，輻 射束成角度從輻射源112引導(dǎo)到探測(cè)器陣列120，從而使穿過(guò)內(nèi)耳的輻射束避開(kāi)視神經(jīng)。 圖9b示出了輻射源112的視圖，其中引導(dǎo)臂TOei* 。^還是以類(lèi)似的方式驅(qū)動(dòng)，從而使 成像系統(tǒng)710不發(fā)生傾斜。應(yīng)該理解到，上文描述的是三個(gè)不同的角度位置下的急射(snap shot)，當(dāng)旋轉(zhuǎn)支架106轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，運(yùn)動(dòng)可以是連續(xù)的。還要注意到，旋轉(zhuǎn)和線性致動(dòng)器可以替代樞軸和 第二線性致動(dòng)器。還地，源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120可以為了軸向自由度放 置在線性支承上，隨后可通過(guò)采用具有支承的平面進(jìn)行引導(dǎo)。在另一個(gè)實(shí)施例中，探測(cè)器陣列120配置為圍繞樞軸旋轉(zhuǎn)而非如前文所述的平 移或旋轉(zhuǎn)。如圖10中所示，其中探測(cè)器陣列120可圍繞樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于旋轉(zhuǎn)支架106 上。如圖所示，源/準(zhǔn)直器112/114和探測(cè)器陣列120通過(guò)例如在圖6中說(shuō)明的連接部 件602連接在一起。旋轉(zhuǎn)支架106包括突出部1000，其從旋轉(zhuǎn)支架106沿著平行于縱向 軸110的軸延伸。樞軸1002連接于突出部1000上。探測(cè)器陣列120可樞轉(zhuǎn)地連接于樞 軸1002。當(dāng)源/準(zhǔn)直器112/114沿著所述的縱軸在方向1004上平移時(shí)，探測(cè)器陣列120 繞樞軸1002樞轉(zhuǎn)。在另一個(gè)示例中，連接部602被去掉，采用單個(gè)的致動(dòng)器來(lái)平移輻射 源112和轉(zhuǎn)動(dòng)探測(cè)器陣列120。在另一個(gè)實(shí)施例中，在不傾斜源/準(zhǔn)直器112/114，并且不傾斜、樞轉(zhuǎn)或平移探 測(cè)器陣列120的情況下，通過(guò)平移源/準(zhǔn)直器112/114電子地獲得傾斜束幾何形狀。如 此，通過(guò)平移源/準(zhǔn)直器112/114可以獲得處于期望傾斜角度的橢圓軌跡。在一個(gè)示例 中，通過(guò)沿著縱向軸的方向平移源/準(zhǔn)直器112/114超過(guò)40厘米(cm)獲得了 士30度的 傾斜角度。該幾何形狀在圖11和圖12中示出。參見(jiàn)圖11，假設(shè)具有傾斜輻射束覆蓋范圍C的傾斜輻射束的中線與在半徑R’ 處將要避免的寬度為D的未暴露對(duì)象在垂直方向上對(duì)齊的情況下(寬度C等于D)，下 面的約等式描述了傾斜束的幾何形狀D&R，.3=R，.(a-n) =OW.S/(S_R)以及 x^^-(W/2)/(S-R),其中D是在半徑R’處未暴露對(duì)象的寬度，C是束覆蓋范圍，3 是圓錐角度，a是陽(yáng)極角，n是橫傾斜角，W是在半徑R處傾斜體積寬度，S是輻射源 半徑，t 是傾斜角。當(dāng) a = 8°，n = 4°，R= 12.5cm，R，= 10cm，S = 57cm 時(shí)，3=4°，D = C。0.7cm， t。3.6°，W。0.55cm，當(dāng) a = 12°， n = 4°，R = 12.5cm，R，= 10cm, S = 57cm 時(shí)3=8°，D = 01.4cm，t。7.3°，W-l.lcm?；鶞?zhǔn)圖12，假設(shè)寬度.S的傾斜束的遠(yuǎn)邊緣與寬度為D的未暴露對(duì)象的遠(yuǎn) 邊緣垂直對(duì)齊，下面的約等式描述了傾斜束的幾何形狀D&R’ j=R’ .(a-n), W。C.(S_R)/S 以及 t。3/2。當(dāng) a = 8°，n = 4°，R = 12.5cm，R，= 10cm，S =57cm 時(shí)，3=4°，C&4cm，D^0.7cm, t。2°，Wa3.1cm，當(dāng) a = 12°， n = 4°，R= 12.5cm，R，= 10cm, S = 57cm 時(shí)3=8°，C&8cm，D^ 1.4cm ； t。4°， W^6.2cmo電子傾斜對(duì)于更大的圓錐角更加有用，在此情況下可以避免較大對(duì)象的暴露 (對(duì)于12°陽(yáng)極角大于1.4cm)。不需要移動(dòng)探測(cè)器并且仍然可以使用二維防散射光柵。 需要將準(zhǔn)直器沿著與輻射源相反的方向移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)，以保持輻射束與傾斜面對(duì)齊。如果 輻射源和探測(cè)器在相反方向上移動(dòng)時(shí)都被傾斜，就可以獲得更大的傾斜角(例如對(duì)于輻 射源移動(dòng)32cm可獲得15.7度的角度)。但是，仍然必須轉(zhuǎn)動(dòng)準(zhǔn)直器以保持輻射束與成 90°的傾斜平面對(duì)齊。在上述示例中，旋轉(zhuǎn)支架106用作位置測(cè)量系統(tǒng)的基準(zhǔn)物。因此，測(cè)量過(guò)程會(huì) 有各種不同的誤差。例如，由于不平衡或者反作用力引起的轉(zhuǎn)子的震動(dòng)導(dǎo)致轉(zhuǎn)子扭曲、 例如重力或離心力引起的機(jī)械應(yīng)力、還有轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的有限準(zhǔn)確度(自由度的疊加)都會(huì)引起誤差。在圖13示出的實(shí)施例中，掃描儀100包括單獨(dú)的基準(zhǔn)框架或測(cè)量框架 1302，該框架與掃描儀100的旋轉(zhuǎn)支架106隔離但是與其接近。在該實(shí)施例中，總測(cè)量 環(huán)路每個(gè)階段包括兩個(gè)傳感器一套第一或本地傳感器1304，其用來(lái)測(cè)量輻射源112和 探測(cè)器陣列120相對(duì)于旋轉(zhuǎn)支架106的位移，以及第二或基準(zhǔn)傳感器1306，其用來(lái)測(cè)量旋 轉(zhuǎn)支架106相對(duì)于測(cè)量框架1302的位移。在一個(gè)示例中，該套傳感器1304包括成不同 角度設(shè)置在圓上的一組三個(gè)傳感器。為了設(shè)備內(nèi)校準(zhǔn)，基準(zhǔn)傳感器中的一個(gè)需要由成不 同角度(具有具體間隔)設(shè)置在圓上的一組三個(gè)傳感器替代。如此處所描述的，x射線管112、輻射源準(zhǔn)直器114和/或探測(cè)器陣列120以彼 此獨(dú)立地和/或彼此相連的方式、和/或與固定支架/框架彼此獨(dú)立地和/或彼此相連的 方式沿z軸平移和/或在z軸方向上傾斜。應(yīng)該理解到，這些部件中的每個(gè)可以與其它一 或多個(gè)部件獨(dú)立地移動(dòng)和/或相配合移動(dòng)。如此，在一個(gè)示例中，在無(wú)需傾斜固定支架 102的情況下，輻射源112和探測(cè)器陣列120平移，準(zhǔn)直器葉片配合移動(dòng)以實(shí)現(xiàn)有效的傾 斜。在另一個(gè)示例中，由于在無(wú)需傾斜固定支架102的情況下探測(cè)器陣列120完成了有 效的傾斜，因此當(dāng)輻射源112和準(zhǔn)直器114在相反方向平移時(shí)，輻射源112能夠具有較大 的圓錐角。在該示例中，可以使用一維的防散射光柵。準(zhǔn)直器114也可以隨輻射源112 傾斜。通過(guò)適當(dāng)?shù)貎A斜探測(cè)器陣列120，可以使用二維防散射光柵。在另一個(gè)示例中，輻射源112傾斜并平移，準(zhǔn)直器114與輻射源112—起平移， 探測(cè)器陣列120在相反方向上平移以實(shí)現(xiàn)有效的傾斜而無(wú)需傾斜固定支架102。在該示例 中，可以使用一維的防散射光柵。通過(guò)適當(dāng)?shù)貎A斜探測(cè)器陣列120，可以使用二維防散射 光柵。準(zhǔn)直器114也可以隨輻射源112—起傾斜。在另一個(gè)示例中，輻射源112、準(zhǔn)直 器114和探測(cè)器陣列120都在一個(gè)共同框架上沿著中軸線相配合地傾斜，從而在無(wú)需傾斜 固定支架102的情況下實(shí)現(xiàn)有效的傾斜。在該示例中，可以使用二維防散射光柵。還可 以考慮將輻射源112、準(zhǔn)直器114和/或探測(cè)器陣列120的其他移動(dòng)組合。運(yùn)行過(guò)程結(jié)合 圖14進(jìn)行說(shuō)明。應(yīng)該理解到下述動(dòng)作的順序僅作示例作用而不作為限制。在1402，選擇包括傾斜角軌跡的掃描協(xié)議。在1404，如此處所描述的，在不傾斜固定支架102的情況下，源/準(zhǔn)直器 112/114和/或探測(cè)器陣列120沿著縱向軸平移和/或旋轉(zhuǎn)。與此同時(shí)，在1406，開(kāi)始執(zhí)行掃描。參見(jiàn)圖15和16，輻射源支架1502通過(guò)一或多個(gè)支承1506可移動(dòng)地連接于旋 轉(zhuǎn)支架1504，所述支承可以包括線性滑塊、球和/或其它前面提及到的支承以及其它支 承。輻射源支架1502通過(guò)支承1506沿著旋轉(zhuǎn)軸1544在z方向上平移。輻射源1508連 接于輻射源支架1502并且隨之一起平移。輻射源支架驅(qū)動(dòng)設(shè)備1510在z方向上驅(qū)動(dòng)輻 射源支架1502。該驅(qū)動(dòng)設(shè)備1510可以包括驅(qū)動(dòng)導(dǎo)螺桿、滾珠絲杠、鏈條、矛齒輪、皮帶 等的馬達(dá)或類(lèi)似裝置，它驅(qū)動(dòng)輻射源支架1502。控制器1512根據(jù)掃描協(xié)議或其它協(xié)議控 制驅(qū)動(dòng)設(shè)備1510。機(jī)械連接部件或框架1516連接輻射源1508和探測(cè)器陣列1536?？蚣?516的第 一端1514可樞轉(zhuǎn)地連接于輻射源1508。在示出的實(shí)施例中，輻射源1508包括兩個(gè)連接 部件1526，框架1516的第一端1514包括穿過(guò)連接部件1526延伸的兩個(gè)樞軸1522。兩 個(gè)樞軸1522配置為圍繞假想樞軸線1524轉(zhuǎn)動(dòng)，該假想樞軸線穿過(guò)連接部件1526的中心區(qū)域延伸并與x軸平行，與z軸相垂直，并與輻射源1508的焦點(diǎn)1528相交。在其它實(shí) 施例中，該系統(tǒng)可以包括更少或更多的樞軸1522和/或連接部件1526?？蚣?516的第二端1518在檢查區(qū)域1520相對(duì)側(cè)輻射源1508的對(duì)面可移動(dòng)地 連接于旋轉(zhuǎn)支架1504?？蚣?516的第二端1518通過(guò)支承連接于旋轉(zhuǎn)支架1504。支承 1530的第一部分1540連接于旋轉(zhuǎn)支架1504并在z方向上延伸。所示出的位于探測(cè)器陣 列1536下方的第一部分1540的位置僅作為示例，其可以放置在其它位置，例如在探測(cè)器 陣列1536的側(cè)面或者上面，以及在視場(chǎng)1534之外。此外，在其它實(shí)施例中該系統(tǒng)可以 包括更少或更多的支承1530。支承1530的第二部分1542連接于框架1516的第二端1518或者作為它的一部 分，該第二部分所處位置與第一部分1540在旋轉(zhuǎn)支架1504上的位置相一致。如圖16所 示，第二部分1524呈弧形并可以在支承1530的第一部分1540上滾轉(zhuǎn)(或滾動(dòng))。由于 框架1516連接于輻射源1508，第二部分1542與輻射源支架1502沿旋轉(zhuǎn)軸線1544的平 移移動(dòng)相配合滾轉(zhuǎn)。在一個(gè)示例中，部分1540和1542中的至少一個(gè)包括與部分1540和 1542中的另一個(gè)的配合部位相嚙合的齒輪或輪圈。該配合部位可以包括齒并且在齒之間 具有凹槽，或者替代地包括具有能容納齒輪的齒的凹部。位于檢查區(qū)域1520的相對(duì)側(cè)上輻射源1508對(duì)面的探測(cè)器陣列1536連接于框架 1616的第二端1518。探測(cè)器陣列1536包括用來(lái)探測(cè)穿過(guò)檢查區(qū)域1520的輻射并產(chǎn)生表 示檢測(cè)到的輻射的信號(hào)的的至少一個(gè)探測(cè)器像素。防散射光柵1538減弱和基本上阻止散 射輻射入射到探測(cè)器陣列1536。該防散射光柵1538可以是一維或二維防散射光柵。該 防散射光柵1538可以被省掉。將輻射源1504發(fā)出的輻射沿z軸校準(zhǔn)的輻射源準(zhǔn)直器1532在輻射源1508與視 場(chǎng)1534之間固定到框架1516上。如在本文所描述的，可采用一或多個(gè)平衡重(為清楚目 的未示出)來(lái)平衡輻射源支架1502、輻射源1508、框架1516、準(zhǔn)直器1532、探測(cè)器1536 和/或一個(gè)或多個(gè)其它移動(dòng)部件的質(zhì)量變化。下面結(jié)合圖17-19對(duì)運(yùn)行過(guò)程進(jìn)行說(shuō)明。圖17中，輻射源支架1502位于行程 的大體中心位置1702。在該位置，框架1516從輻射源1508沿假想線1704延伸，該假想 線垂直于旋轉(zhuǎn)軸1602的中心區(qū)域。準(zhǔn)直器1532處于其孔徑相對(duì)于假想線1704大體對(duì)稱(chēng) 的位置，支承1530的第二部分1542的中心區(qū)域1706位于支承的第一部分1540上并與假 想線1704對(duì)齊，探測(cè)器陣列1536的中心區(qū)域1708被聚焦在焦點(diǎn)1528處。圖18中，輻射源支架1502位于行程的一端1802。當(dāng)輻射源支架1502平移到該 位置，輻射源1508與其一起平移。與上述平移相配合，框架1516的樞軸1522圍繞樞轉(zhuǎn) 軸線1524樞轉(zhuǎn)，支承1530的第二部分1542在第一部分1540上滾轉(zhuǎn)，并且框架1516從焦 點(diǎn)1528處以相對(duì)于假想線1704成一個(gè)角度延伸，該角度幅值從0度增加到大約a度。 準(zhǔn)直器1532同樣也平移，探測(cè)器陣列1536的中心區(qū)域1708保持聚焦在焦點(diǎn)1528處。圖19中，輻射源支架1502位于行程的另一端1902。當(dāng)輻射源支架1502平移到 該位置時(shí)，樞軸1522圍繞樞轉(zhuǎn)軸線1524樞轉(zhuǎn)，支承1530的第二部分1542沿與圖18中 相反方向滾轉(zhuǎn)。類(lèi)似地，框架1516從焦點(diǎn)1528以相對(duì)于假想線1704成一個(gè)角度延伸， 該角度幅值從0度增加到大約a度。同樣，準(zhǔn)直器1532也平移，探測(cè)器陣列1536的中 心區(qū)域保持聚焦在焦點(diǎn)1528處。
在另外一個(gè)實(shí)施例中，框架1516被去掉，探測(cè)器支架驅(qū)動(dòng)設(shè)備以與支承的第二 部分1542的滾轉(zhuǎn)類(lèi)似的方式與輻射源支架驅(qū)動(dòng)設(shè)備1510相配合地驅(qū)動(dòng)或滾轉(zhuǎn)保持探測(cè)器 陣列1536的探測(cè)器支架。圖20和圖21描述了圖15-19的實(shí)施例的變形。在該變形中，輻射源支架1502 傾斜/向下地平移。圖20示出了輻射源支架1502在兩個(gè)端部1802和1902的疊加圖。與圖17_19 — 樣，當(dāng)輻射源支架1502位于行程中間位置時(shí)，框架1516沿著垂直于旋轉(zhuǎn)軸線1602的中 心區(qū)域的假想線延伸，準(zhǔn)直器1532處于其孔徑相對(duì)于假想線大體對(duì)稱(chēng)的位置，支承1530 的第二部分1542的中心區(qū)域位于支承的第一部分1540上并與假想線對(duì)齊，探測(cè)器陣列 1536的中心區(qū)域被聚焦在焦點(diǎn)1528處。當(dāng)輻射源支架1502平移到位置1802和1902時(shí)，輻射源1508沿著傾斜向下方向 平移，樞軸1522圍繞樞轉(zhuǎn)軸線1524樞轉(zhuǎn)，第二部分1542配合平移滾轉(zhuǎn)，框架1516從焦 點(diǎn)1528相對(duì)于假想線成角度延伸，準(zhǔn)直器1532平移，探測(cè)器陣列1536的中心區(qū)域保持 聚焦在焦點(diǎn)1528處。這種實(shí)施例適于與具有可變陽(yáng)極角的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極型輻射源配合使用，所述可變陽(yáng) 極角指輻射束與陽(yáng)極表面之間的角度，當(dāng)輻射源支架1502平移時(shí)，輻射源1508傾斜和向 下的平移移動(dòng)可以用來(lái)補(bǔ)償χ射線源內(nèi)焦點(diǎn)1528位置的變化，從而保持移動(dòng)焦點(diǎn)1528與 旋轉(zhuǎn)軸線1544之間的距離恒定。相對(duì)于陽(yáng)極角不可變的配置，這種輻射源可以用來(lái)提供 更小的陽(yáng)極角、增大的分辨率和增大的最大功率。圖21示出了具有可變陽(yáng)極角的示例性 輻射陽(yáng)極2102。圖21中，旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極2102的截面具有例如具有適當(dāng)曲率半徑的凸形的彎曲部分 2104，所述曲率半徑例如是在一(1)到二十(20)厘米(cm)的數(shù)量級(jí)。電子束2106在陽(yáng) 極2102上對(duì)應(yīng)于探測(cè)器陣列1536的焦點(diǎn)位置的位置被導(dǎo)引(靜電或電磁地)，從而在與 探測(cè)器陣列1536的焦點(diǎn)位置相對(duì)應(yīng)的位置產(chǎn)生焦點(diǎn)1528。在圖21中，輻射源1508位 于行程的中間位置1702，探測(cè)器陣列1536位于輻射源1528下方的中間位置，圓錐輻射 束2106的范圍2104相對(duì)于垂直于探測(cè)器陣列1536從焦點(diǎn)1528延伸的中心線對(duì)稱(chēng)。在 行程的其它位置處，電子束2106在陽(yáng)極2102上更高或更低(可選地)但仍然對(duì)應(yīng)于探測(cè) 器陣列1536的焦點(diǎn)位置的位置被導(dǎo)引，從而在其它位置處產(chǎn)生焦點(diǎn)1528。框架1516的樞軸1522在與焦點(diǎn)1528偏移并與曲線中點(diǎn)重合的位置2108處可樞 轉(zhuǎn)地連接到輻射源1508。因此，焦點(diǎn)1528與位置2108之間的距離與曲率的半徑重合或 者大約相等。(可選地，此句可以刪掉)焦點(diǎn)1528和點(diǎn)2112之間的距離限定了角度β， 該角度是有效陽(yáng)極角，或者是從焦點(diǎn)1528處垂直延伸的假想線2102和在陽(yáng)極表面經(jīng)過(guò)焦 點(diǎn)1528相切地延伸的假想線2104之間的角度。該角度代表圓錐輻射束的平均出射角并 與圓錐形陽(yáng)極表面的陽(yáng)極角相對(duì)應(yīng)?；氐綀D20，當(dāng)支架1502沿著傾斜向下方向2102平移時(shí)，輻射源1508沿著傾斜 向下方向2102平移并且電子束2106重新聚焦在陽(yáng)極2102上，焦點(diǎn)1528沿著平行于旋轉(zhuǎn) 軸線1524的直線2104平移。這樣，在一個(gè)示例中，當(dāng)輻射源支架1502平移時(shí)，輻射源 1508沿著傾斜向下方向的平移可以用來(lái)補(bǔ)償移動(dòng)的焦點(diǎn)1528和旋轉(zhuǎn)軸線1524之間距離的 任何變化。這樣，可以提供焦點(diǎn)1528和在需要時(shí)對(duì)所有或部分的輻射源位置都保持基本恒定的有效陽(yáng)極角β。 本發(fā)明參照不同的實(shí)施例在文中進(jìn)行了描述。通過(guò)閱讀本文可以知曉還可以作 出其它的修改和改變。本發(fā)明應(yīng)包括后附的權(quán)利要求或者等效的主題所覆蓋的范圍內(nèi)所 有修改或變化。
權(quán)利要求
1.一種醫(yī)療成像系統(tǒng)，包括大體固定的支架(102)；由所述大體固定的支架(102)可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架(106)，所述旋轉(zhuǎn)支架繞著縱 向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)；放射穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束的輻射源(112)，所述輻射源(112)可移動(dòng)地安裝到 所述旋轉(zhuǎn)支架(106)上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí)沿所述縱向軸的方向相對(duì)于 所述旋轉(zhuǎn)支架(106)平移；以及探測(cè)穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束并產(chǎn)生表示它的信號(hào)的探測(cè)器陣列(120)，所述探測(cè) 器陣列(120)可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn)支架(106)上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí) 與所述輻射源(112)配合地移動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，在掃描期間所述輻射源(112)沿 縱向軸的方向平移，使得在不需要傾斜所述大體固定的支架(102)的情況下所述輻射束 以?xún)A斜角度穿過(guò)所述檢查區(qū)域。
3.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，在掃描期間所述輻射源(112)沿 縱向軸的方向平移，從而在不需要傾斜所述大體固定的支架(102)的情況下沿著橢圓形 軌跡移動(dòng)所述輻射束。
4.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，所述探測(cè)器陣列(120)沿著與所 述輻射源(112)相同的方向平移，并且所述醫(yī)療成像系統(tǒng)還包括設(shè)置在所述檢查區(qū)域與 所述探測(cè)器陣列(112)之間的二維防散射光柵。
5.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn) 支架(106)上以便沿著縱向軸的方向相對(duì)所述旋轉(zhuǎn)支架(106)平移的質(zhì)量平衡塊(242)， 其中，所述質(zhì)量平衡塊(242)與輻射源(112)沿著相反方向同時(shí)移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括可移動(dòng)地將所述輻射源(112)連接于所述旋轉(zhuǎn)支架(106)的輻射源定位系統(tǒng)(116)， 所述輻射源定位系統(tǒng)(116)包括安裝到所述旋轉(zhuǎn)支架(106)并且沿著縱向方向延伸的細(xì)長(zhǎng)結(jié)構(gòu)部件(202)；安裝到所述輻射源(112)的致動(dòng)器(238)；以及包括第一平移部分(218)和非平移部分(216)的第一支承(212)，其中，所述第一支 承(212)設(shè)置所述細(xì)長(zhǎng)結(jié)構(gòu)部件(202)和致動(dòng)器(238)之間，所述第一平移部分(218)安 裝到所述輻射源(112)并且所述非滑動(dòng)部分(216)安裝到所述細(xì)長(zhǎng)結(jié)構(gòu)部件(202)；其中，所述致動(dòng)器(238)相對(duì)所述非平移部分(216)平移所述第一平移部分(218)， 從而在縱向軸的方向移動(dòng)所述輻射源(112)。
7.如權(quán)利要求6所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括磁性地致動(dòng)所述致動(dòng)器 (238)的磁性板(240)，其中，所述磁性板(240)設(shè)置在所述細(xì)長(zhǎng)結(jié)構(gòu)部件(202)與致動(dòng) 器(238)之間。
8.如權(quán)利要求7所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，所述第一支承(212)還包括安 裝到質(zhì)量平衡塊(242)的第二平移部分(220)，并且在一個(gè)方向移動(dòng)所述第一平移部分 (218)使第二平移部分(220)在相反方向移動(dòng)，從而使輻射源(112)和質(zhì)量平衡塊(242) 在相反方向移動(dòng)。
9.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括確定所述輻射源(112)相 對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)支架(106)的位置的位置測(cè)量裝置(244)。
10.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(120)或探測(cè)器陣 列(120)中的至少一個(gè)相對(duì)所述固定支架(102)傾斜。
11.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(112)和探測(cè)器陣 列(12)沿著縱向軸在相反方向平移。
12.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括可移動(dòng)地安裝到探測(cè)器 陣列(120)以便相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)支架在縱向軸的方向上平移的質(zhì)量平衡塊(440)，其中， 質(zhì)量平衡塊(440)和探測(cè)器陣列(120)在相反方向同時(shí)移動(dòng)。
13.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括輻射源位置控制器 (118)和探測(cè)器陣列位置控制器(124)，其中，輻射源位置控制器(118)控制輻射源(112) 的位置，探測(cè)器陣列位置控制器(124)控制探測(cè)器陣列(120)的位置，并且輻射源(112) 和探測(cè)器陣列(120)獨(dú)立地沿著縱向軸的方向平移。
14.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括將輻射源(112)和探測(cè) 器陣列(120)物理連接的機(jī)械連接裝置(602)，其中輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)沿 著縱向軸一起平移。
15.如權(quán)利要求14所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，單獨(dú)的位置控制器(610)控制 輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)的移動(dòng)。
16.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，旋轉(zhuǎn)支架(106)在縱向軸的方 向上傾斜，從而使輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)在縱向軸的方向上傾斜。
17.如權(quán)利要求16所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)旋轉(zhuǎn)支架(106)在檢查區(qū)域 周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)在縱向軸的方向上同時(shí)平移和傾斜。
18.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，探測(cè)器陣列(120)機(jī)械地安裝 到輻射源(112)并且可樞轉(zhuǎn)地安裝到旋轉(zhuǎn)支架(106)，其中，平移輻射源(112)使探測(cè)器 陣列(120)繞樞軸樞轉(zhuǎn)。
19.如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括基準(zhǔn)框架(1302)，其與旋轉(zhuǎn)支架(106)隔離但接近旋轉(zhuǎn)支架；第一傳感器(1304)，其測(cè)量輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)相對(duì)旋轉(zhuǎn)支架(106)的 位移；以及第二傳感器(1306)，其測(cè)量旋轉(zhuǎn)支架(106)相對(duì)于基準(zhǔn)框架(1302)的位移；其中，輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)的位置基于第一和第二傳感器(304，306) 的測(cè)量值來(lái)確定。
20.—種方法，包括使可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接到固定支架(102)的旋轉(zhuǎn)支架(106)繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn) 動(dòng)；以及掃描期間沿著縱向軸的方向相對(duì)于所述固定支架(102)平移輻射源(112)和探測(cè)器陣 列(120)，所述輻射源和探測(cè)器陣列連接到所述旋轉(zhuǎn)支架(106)并且隨著所述旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn)動(dòng)。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，平移輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)導(dǎo)致輻射束以相對(duì)于垂直于縱向軸的平面成銳角穿過(guò)所述檢查區(qū)域。
22.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括平移輻射源(112)和探測(cè)器陣列 (120)以便在不需要傾斜所述大體固定的支架(102)的情況下形成橢圓形輻射束軌跡。
23.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括在平移輻射源(112)和探測(cè)器陣 列(120)中的至少一個(gè)時(shí)平移至少一個(gè)質(zhì)量平衡塊(242)。
24.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括在掃描期間使探測(cè)器陣列(120) 相對(duì)于固定支架(102)傾斜。
25.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括在掃描期間使輻射源(112)相對(duì) 于固定支架(102)傾斜。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于，還包括在掃描期間使輻射源準(zhǔn)直器 (14)和輻射源(112) 一起傾斜。
27.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括使輻射源(112)和探測(cè)器陣列 (120)在相反方向平移。
28.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，還包括在掃描期間使輻射源(112)和探 測(cè)器陣列(120)在縱向軸的方向上相對(duì)于固定支架(102)傾斜。
29.如權(quán)利要求20所述的方法，其特征在于，平移輻射源(112)導(dǎo)致探測(cè)器陣列 (120)繞樞軸區(qū)域(1002)樞轉(zhuǎn)。
30.—種醫(yī)療成像系統(tǒng)，其包括用于使由固定支架(102)可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架(106)繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)?轉(zhuǎn)動(dòng)的裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)支架(106)發(fā)出穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射；用于在掃描期間沿著縱向軸的方向相對(duì)于所述固定支架(102)移動(dòng)輻射源(112)的 裝置，使得所述輻射束以?xún)A斜角度穿過(guò)所述檢查區(qū)域，所述輻射源連接到所述旋轉(zhuǎn)支架 (106)并且隨著所述旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn)動(dòng)；通過(guò)探測(cè)器陣列(120)探測(cè)所發(fā)出的輻射的裝置，所述探測(cè)器陣列(120)連接到所述 旋轉(zhuǎn)支架(106)并且隨著所述旋轉(zhuǎn)支架轉(zhuǎn)動(dòng)；以及 產(chǎn)生表示探測(cè)到的輻射的圖像數(shù)據(jù)的裝置。
31.—種計(jì)算機(jī)X線斷層掃描攝影(CT)掃描儀，包括 大體固定的支架(102)；由大體固定的支架(102)可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架(106)，所述旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸 在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)；發(fā)出輻射束的輻射源(112)；帶有至少一個(gè)可移動(dòng)輻射校準(zhǔn)板的輻射源準(zhǔn)直器(114)，其對(duì)輻射源(112)發(fā)出的輻 射進(jìn)行校準(zhǔn)以產(chǎn)生穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射束；探測(cè)器陣列(120)，其探測(cè)穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射束并產(chǎn)生代表它的信號(hào)； 設(shè)置在檢查區(qū)域和探測(cè)器陣列(120)之間的防散射光柵；重構(gòu)器(126)，其對(duì)來(lái)自探測(cè)器陣列(120)的信號(hào)進(jìn)行重構(gòu)以產(chǎn)生表示檢查區(qū)域的體 積圖像數(shù)據(jù)；其中，輻射源(112)和探測(cè)器陣列(120)沿著縱向軸協(xié)調(diào)地平移，從而在不需要傾斜 固定支架(102)的情況下產(chǎn)生有效傾斜。
32.如權(quán)利要求31所述的CT掃描儀，其特征在于，所述防散射光柵是二維防散射光柵。
33.如權(quán)利要求31所述的CT掃描儀，其特征在于，所述輻射源(112)和探測(cè)器陣列 (120)在相反方向平移。
34.如權(quán)利要求33所述的CT掃描儀，其特征在于，所述準(zhǔn)直器(114)與輻射源(112)一起平移。
35.如權(quán)利要求34所述的CT掃描儀，其特征在于，所述探測(cè)器陣列(120)相對(duì)于掃 描儀(100)傾斜。
36.如權(quán)利要求31所述的CT掃描儀，其特征在于，所述輻射源(112)相對(duì)于掃描儀 (100)傾斜并且平移，探測(cè)器陣列(120)在相反方向平移。
37.如權(quán)利要求36所述的CT掃描儀，其特征在于，所述準(zhǔn)直器(114)與輻射源(112) 一起傾斜。
38.如權(quán)利要求36所述的CT掃描儀，其特征在于，所述探測(cè)器陣列(120)相對(duì)掃描 儀(100)傾斜。
39.如權(quán)利要求38所述的CT掃描儀，其特征在于，所述準(zhǔn)直器(114)與輻射源(112) 一起傾斜。
40.如權(quán)利要求38所述的CT掃描儀，其特征在于，所述輻射源(112)、準(zhǔn)直器(114) 和探測(cè)器陣列(120)沿著中心軸線在共同框架上相配合地傾斜。
41.如權(quán)利要求31所述的CT掃描儀，其特征在于，所述輻射源(112)是圓柱形χ射線管。
42.—種成像系統(tǒng)，包括繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)支架(1504)；具有焦點(diǎn)(1528)的輻射源(1508)，所述輻射源(1508)發(fā)出穿過(guò)檢查區(qū)域的輻射，其 中，輻射源(1508)可移動(dòng)地固定到旋轉(zhuǎn)支架(1504)上并且在縱向軸的方向上平移；被聚焦在焦點(diǎn)(1528)處的探測(cè)器陣列(1536)，所述探測(cè)器陣列(1536)與輻射源 (1508)的平移相配合地滾轉(zhuǎn)，從而保持探測(cè)器陣列(1536)與焦點(diǎn)(1528)之間的聚焦。
43.如權(quán)利要求42所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(1508)沿著平行于縱 向軸的軸線平移。
44.如權(quán)利要求42所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(1508)沿著相對(duì)于縱 向軸傾斜/下降的軸線平移。
45.如權(quán)利要求44所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(1508)包括陽(yáng)極 (2102)，所述焦點(diǎn)(1528)對(duì)應(yīng)于陽(yáng)極(2102)上接收電子束(2106)的位置，陽(yáng)極(2102) 上接收電子束(2106)的位置隨著輻射源(1508)沿著縱向軸的位置變化而改變。
46.如權(quán)利要求45所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，當(dāng)輻射源(1508)沿著縱向軸平移 時(shí)，焦點(diǎn)(1528)和縱向軸之間的距離被保持。
47.如權(quán)利要求42-46中任一所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括可移動(dòng)地安裝到 旋轉(zhuǎn)支架(1504)的輻射源支架(1502)，輻射源(1508)被安裝到輻射源支架(1502)并且 當(dāng)輻射源支架(1502)沿縱向軸平移時(shí)沿著縱向軸平移。
48.如權(quán)利要求47所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括連接輻射源(1508)和探測(cè)器陣列(1536)的框架(1516)，其中，所述框架(1516)包括可樞轉(zhuǎn)地安裝到輻射源(1508)的至少一個(gè)樞軸(1522)；以及可樞轉(zhuǎn)地安裝到旋轉(zhuǎn)支架(1504)以相對(duì)旋轉(zhuǎn)支架(1504)滾轉(zhuǎn)的至少一個(gè)部件 (1542)，其中，所述至少一個(gè)樞軸(1522)樞轉(zhuǎn)并且所述彎曲的部件(1542)與輻射源 (1508)沿著縱向軸的平移配合地滾轉(zhuǎn)。
49.如權(quán)利要求48所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述探測(cè)器陣列(1536)被安裝到 部件(1542)上并隨之滾轉(zhuǎn)，所述部件是弧形的。
50.如權(quán)利要求42-49中任一所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(1508)包括 具有可變陽(yáng)極角的陽(yáng)極(2102)。
51.如權(quán)利要求42-50中任一所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，所述輻射源(1508)是旋 轉(zhuǎn)陽(yáng)極型χ射線源，所述旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極型χ射線源包括具有凸橫截面形狀的陽(yáng)極(2102)。
52.如權(quán)利要求42-50中任一所述的成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括布置在探測(cè)器陣 列(1536)接收輻射的一側(cè)上的防散射光柵(1538)。
53.—種方法，包括在ζ軸方向上平移輻射源(1508)的焦點(diǎn)(1528)；與所述焦點(diǎn)(1528)的平移相配合地同時(shí)滾轉(zhuǎn)在所述焦點(diǎn)(1528)處聚焦的探測(cè)器陣列 (1536)，從而在焦點(diǎn)(1528)平移時(shí)保持探測(cè)器陣列(1536)和焦點(diǎn)(1528)之間的聚焦。
54.如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，還包括沿著平行于ζ軸的路徑平移焦點(diǎn) (1528)。
55.如權(quán)利要求53-54中任一所述的方法，其特征在于，還包括沿著相對(duì)于ζ軸傾斜 /向下的路徑平移輻射源(1508)。
56.如權(quán)利要求55所述的方法，其特征在于，還包括當(dāng)輻射源(1508)平移時(shí)在ζ軸 方向上移動(dòng)焦點(diǎn)(1528)的位置。
57.如權(quán)利要求53所述的方法，其特征在于，還包括沿著平行于ζ軸的路徑平移焦點(diǎn) (1528)和輻射源(1508)。
全文摘要
一種醫(yī)療成像系統(tǒng)包括大體固定的支架(102)和由所述大體固定的支架(102)可轉(zhuǎn)動(dòng)地支撐的旋轉(zhuǎn)支架(106)，所述旋轉(zhuǎn)支架繞著縱向軸在檢查區(qū)域周?chē)D(zhuǎn)動(dòng)。所述醫(yī)療成像系統(tǒng)還包括放射穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束的輻射源(112)，所述輻射源(112)可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn)支架(106)上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí)沿所述縱向軸的方向相對(duì)于所述旋轉(zhuǎn)支架(106)平移。所述醫(yī)療成像系統(tǒng)還包括探測(cè)穿過(guò)所述檢查區(qū)域的輻射束并產(chǎn)生表示它的信號(hào)的探測(cè)器陣列(120)，所述探測(cè)器陣列(120)可移動(dòng)地安裝到所述旋轉(zhuǎn)支架(106)上，以便在掃描位于檢查區(qū)域的對(duì)象時(shí)與所述輻射源(112)配合地移動(dòng)。
文檔編號(hào)A61B6/03GK102014755SQ200980115183
公開(kāi)日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2009年4月30日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月1日
發(fā)明者A·特倫, C·邦圖斯, D·J·霍伊施爾, F·皮特斯, J·B·M·索滕斯, P·福斯曼, R·B·夏普萊斯, R·普羅克紹 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司