專利名稱：一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，尤其是涉及以文秋里閥為空氧混合裝置的氧濃度調(diào)節(jié)裝置。屬于醫(yī)療設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：
呼吸機(jī)在臨床上主要用于治療呼吸衰竭病人，其工作原理是利用高壓氣體強(qiáng)行輔助病人呼吸，病人吸入的氣體氧濃度高低對治療效果有直接影響，能夠調(diào)節(jié)病人吸入氣體的氧濃度意義重大。目前的技術(shù)是利用氧氣和空氣兩種高壓氣體通過一個(gè)空氧混合裝置改變兩種氣體的配比濃度達(dá)到輸出氣體的氧濃度可調(diào)，其前提條件是必需有兩種高壓氣體——氧氣和空氣。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有的氧濃度調(diào)節(jié)裝置必須使用兩種高壓氣體的缺陷，本實(shí)用新型提供了一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，可以有效地克服該缺陷。
本實(shí)用新型的一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，不使用高壓空氣，只用一種高壓氧氣，實(shí)現(xiàn)輸出氣體的氧濃度可調(diào)的目的。本實(shí)用新型的方案如下 氧濃度調(diào)節(jié)裝置由文秋里管和濃度控制盤構(gòu)成；文秋里管包括氣體入口、噴嘴、側(cè)口、氣體出口；側(cè)口位于文秋里管的噴嘴處，側(cè)口設(shè)有濃度控制盤，與大氣連通。濃度控制盤設(shè)有閥桿和分流片，分流片上設(shè)有氣孔，轉(zhuǎn)動分流片能夠調(diào)整空氣吸入口的截面積。轉(zhuǎn)動閥桿時(shí)轉(zhuǎn)動分流片，從而調(diào)整空氣吸入口的截面積，改變空氣吸入流量。
工作時(shí)，高壓氧氣通過氣體入口進(jìn)入文秋里管，通過噴嘴時(shí)產(chǎn)生負(fù)壓；負(fù)壓從側(cè)口吸入大氣中的空氣生成空氣和氧氣的混合氣體，混合氣體從氣體出口輸出。濃度控制盤用來控制吸入空氣的流量，從而改變輸出氣體的氧氣濃度。氧濃度可調(diào)范圍37％～100％。
本實(shí)用新型不使用高壓空氣，只用一種高壓氧氣，能夠改變輸出氣體的氧氣濃度；具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，但并非限制本實(shí)用新型的使用范圍。



圖1是本實(shí)用新型的一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置示意圖； 圖2、圖3是氧濃度調(diào)節(jié)裝置組裝示意圖； 圖4是閥桿結(jié)構(gòu)圖。
圖中，文秋里管(1)、噴嘴(2)、氣體入口(3)、側(cè)進(jìn)氣口(4)、氣體出口(5)、濃度控制盤(6)、側(cè)口(7)、閥體(8)、閥桿(9)、銷子(10)、密封圈(11)、分流片(12)、螺釘(13)。

圖1中，高壓氧氣從氣體入口(3)進(jìn)入文秋里管(1)，通過噴嘴(2)時(shí)產(chǎn)生負(fù)壓；負(fù)壓從側(cè)口(7)吸入大氣中的空氣生成空氣和氧氣的混合氣體，混合氣體從氣體出口(5)輸出。濃度控制盤(6)用來控制吸入空氣的流量。
圖2中，濃度控制盤(6)設(shè)有閥桿(9)和分流片(12)，分流片(12)上設(shè)有氣孔，轉(zhuǎn)動分流片(12)能夠調(diào)整空氣吸入口的截面積；轉(zhuǎn)動閥桿(9)時(shí)轉(zhuǎn)動分流片(12)，從而改變空氣吸入流量。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1、 一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，由文秋里管(1)和濃度控制盤(6)構(gòu)成；文秋里管(1)包括氣體入口(3)、噴嘴(2)、側(cè)口(7)、氣體出口(5)；側(cè)口(7)位于文秋里管(1)的噴嘴(2)處，側(cè)口(7)設(shè)有濃度控制盤(6)，與大氣連通。濃度控制盤(6)設(shè)有閥桿(9)和分流片(12)，分流片(12)上設(shè)有氣孔，轉(zhuǎn)動分流片(12)能夠調(diào)整空氣吸入口的截面積；轉(zhuǎn)動閥桿(9)時(shí)轉(zhuǎn)動分流片(12)，從而調(diào)整空氣吸入口的截面積，改變空氣吸入流量。
高壓氧氣從氣體入口(3)進(jìn)入文秋里管(1)，通過噴嘴(2)時(shí)產(chǎn)生負(fù)壓；負(fù)壓從側(cè)口(7)吸入大氣中的空氣生成空氣和氧氣的混合氣體，混合氣體從氣體出口(5)輸出。濃度控制盤(6)用來控制吸入空氣的流量，從而改變輸出氣體的氧氣濃度。
實(shí)施例2、 如實(shí)施例1所述的一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，但氧濃度可調(diào)范圍37％～100％。
權(quán)利要求
一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，由文秋里管(1)和濃度控制盤(6)構(gòu)成；文秋里管(1)包括氣體入口(3)、噴嘴(2)、側(cè)口(7)、氣體出口(5)；側(cè)口(7)位于文秋里管(1)的噴嘴(2)處，其特征在于
側(cè)口(7)設(shè)有濃度控制盤(6)，與大氣連通；濃度控制盤(6)設(shè)有閥桿(9)和分流片(12)；分流片(12)上設(shè)有氣孔。
專利摘要一種氧濃度調(diào)節(jié)裝置，由文丘里管(1)和濃度控制盤(6)構(gòu)成；文丘里管(1)包括氣體入口(3)、噴嘴(2)、側(cè)口(7)、氣體出口(5)；側(cè)口(7)位于文丘里管(1)的噴嘴(2)處，側(cè)口(7)設(shè)有濃度控制盤(6)，與大氣連通；濃度控制盤(6)設(shè)有閥桿(9)和分流片(12)；分流片(12)上設(shè)有氣孔。濃度控制盤(6)用來控制吸入空氣的流量，從而改變輸出氣體的氧氣濃度。氧濃度可調(diào)范圍37％～100％。本實(shí)用新型不使用高壓空氣，只用一種高壓氧氣，能夠改變輸出氣體的氧氣濃度；具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號A61M16/00GK201189345SQ20082008076
公開日2009年2月4日 申請日期2008年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月23日
發(fā)明者閆全國 申請人:北京航天長峰股份有限公司